[發明專利]石英腔體的清洗裝置及清洗方法

有效

• 申請號: 201610356861.2
• 申請日: 2016-05-25
• 公開（公告）號: CN107433275B
• 公開（公告）日: 2021-02-12
• 發明（設計）人: 趙旭良;汪燕
• 申請（專利權）人: 上海新昇半導體科技有限公司
• 主分類號: B08B9/08
• 分類號: B08B9/08
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 金華

1.一種石英腔體的清洗裝置，包括一清洗腔，所述清洗腔用于放置石英腔體以對其進行清洗，其特征在于，所述清洗裝置還包括：設置于清洗腔底部的進液口、排液口、密封墊以及攪拌裝置，用于在石英腔體的清洗過程中，所述密封墊用于與石英腔體的開口接觸并密封所述開口，所述進液口用于通入清洗液至預定液位，所述攪拌裝置用于攪動清洗液以進行清洗；其中，所述進液口、所述排液口和所述攪拌裝置均位于所述開口在清洗腔底部的投影區域內；

以及，所述清洗裝置還包括一預壓裝置，所述預壓裝置包括預壓塊，所述預壓塊與石英腔體接觸并對所述石英腔體施加一壓力，以及在所述預壓塊與石英腔體接觸的一端上設置有一向內凹陷的凹槽，所述凹槽與石英腔體的接觸面相互契合，并且在所述預壓塊上還具有一與所述凹槽連通的氣體流通通路，所述氣體流通通路用于排出石英腔體內的氣體。

2.如權利要求1所述的石英腔體的清洗裝置，其特征在于，所述密封墊為環狀結構，所述進液口和排液口均位于所述環狀結構所圍繞的區域內。

3.如權利要求1所述的石英腔體的清洗裝置，其特征在于，所述密封墊的材質為氟橡膠。

4.如權利要求1所述的石英腔體的清洗裝置，其特征在于，所述預壓裝置包括驅動裝置，所述驅動裝置用于驅動所述預壓塊運動。

5.如權利要求1所述的石英腔體的清洗裝置，其特征在于，所述攪拌裝置包括一葉輪盤和位于所述葉輪盤上的多個葉片。

6.如權利要求5所述的石英腔體的清洗裝置，其特征在于，多個所述葉片呈圓環形排列。

7.如權利要求1所述的石英腔體的清洗裝置，其特征在于，所述攪拌裝置的材質為聚四氟乙烯或聚偏氟乙烯。

8.如權利要求1所述的石英腔體的清洗裝置，其特征在于，所述清洗裝置還包括一氣體噴頭，所述氣體噴頭設置于所述清洗腔的底部并位于所述石英腔體的開口于清洗腔底部的投影區域內。

9.如權利要求8所述的石英腔體的清洗裝置，其特征在于，所述氣體噴頭為旋轉噴頭。

10.如權利要求8所述的石英腔體的清洗裝置，其特征在于，所述氣體噴頭的噴氣口于水平方向具有一彎曲角度。

11.如權利要求8所述的石英腔體的清洗裝置，其特征在于，所述氣體噴頭中設置有一單向閥。

12.如權利要求8所述的石英腔體的清洗裝置，其特征在于，所述氣體噴頭連接一氣體供給裝置。

13.如權利要求12所述的石英腔體的清洗裝置，其特征在于，所述氣體供給裝置為氮氣供給裝置。

14.如權利要求1所述的石英腔體的清洗裝置，其特征在于，所述清洗裝置還包括一液位控制器，所述液位控制器用于檢測石英腔體內的液位，并根據檢測出的液位控制清洗液的供給量。

15.一種石英腔體的清洗方法，其特征在于，所述清洗方法包括：

提供一如權利要求1~7其中之一所述的石英腔體的清洗裝置；

將石英腔體以其開口面對清洗腔的底部方向放置于密封墊上，并通過所述密封墊密封所述開口；

對所述石英腔體執行至少一次清洗流程；

對石英腔體進行干燥；

其中，所述清洗流程包括：于進液口中通入清洗液至預定的液位后，利用攪拌裝置攪動清洗液以進行清洗；清洗完成后，通過排液口排出清洗液。

16.如權利要求15所述的石英腔體的清洗方法，其特征在于，所述清洗裝置中具有一氣體噴頭，在完成清洗流程之后，采用所述氣體噴頭噴出氣體以干燥所述石英腔體。

17.如權利要求15所述的石英腔體的清洗方法，其特征在于，所述清洗方法包括執行兩次清洗流程，其中第一次清洗流程采用的清洗液為硝酸、氫氟酸和水的混合溶液，第二次清洗流程采用的清洗液為水。