[發(fā)明專利]大尺寸掩膜基板的制作方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610353542.6 | 申請(qǐng)日: | 2016-05-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105785710A | 公開(公告)日: | 2016-07-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 唐軍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 唐軍 |
| 主分類號(hào): | G03F1/60 | 分類號(hào): | G03F1/60;G03F1/68 |
| 代理公司: | 廣州市南鋒專利事務(wù)所有限公司 44228 | 代理人: | 鄭學(xué)偉;葉利軍 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市坪山新區(qū)坪*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 尺寸 掩膜基板 制作方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及有機(jī)電致發(fā)光器件制造技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種大尺寸掩膜 基板的制作方法。
背景技術(shù)
有機(jī)電致發(fā)光二極管(OrganicLight-EmittingDiodes,OLED)是自發(fā)光 器件,不需要背光源,外觀輕、薄,而傳統(tǒng)的液晶顯示器(LCD)需要背光源 才能工作,外觀尺寸較厚。
有機(jī)發(fā)光二極管顯示器的功耗低,視角寬,屏幕響應(yīng)快,是最能符合人 們未來(lái)對(duì)顯示器功能要求的技術(shù)。因此,有機(jī)發(fā)光二極管有望在不久的將來(lái) 取代液晶顯示器,具有很高的市場(chǎng)潛力。
有機(jī)小分子發(fā)光二極管在制作過(guò)程中,目前較成熟的技術(shù)是采用真空蒸 鍍技術(shù),在器件制備過(guò)程中,有機(jī)材料會(huì)淀積在位于蒸發(fā)源上方的基板上, 為形成特有的圖案,在基板下方緊貼有掩膜基板,掩膜基板上留有預(yù)先設(shè)計(jì) 排版好的蒸鍍孔,最終有機(jī)材料會(huì)通過(guò)掩膜基板上的蒸鍍孔淀積到基板上面。 然而,現(xiàn)有技術(shù)中,由于掩膜基板無(wú)法形成大尺寸,例如1.7m*2.5m*0.6m或 者2.25m*3.3m*0.6m,所以,也無(wú)法生產(chǎn)出大尺寸顯示器。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在至少在一定程度上解決相關(guān)技術(shù)中的技術(shù)問(wèn)題之一。為此, 本發(fā)明的目的在于提供一種大尺寸掩膜基板的制作方法。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明實(shí)施例的大尺寸掩膜基板的制作方法,包括:
提供多條橫向膜片和多條縱向膜片;
將多條所述橫向膜片與多條所述縱向膜片縱橫交錯(cuò)布置,以形成矩陣分 布多個(gè)方形的蒸鍍孔,所述蒸鍍孔具有加工余量;
通過(guò)張緊機(jī)將縱橫交錯(cuò)布置的所述橫向膜片和所述縱向膜片張緊;
采用焊接工藝將張緊后的所述橫向膜片和所述縱向膜片相對(duì)焊接固定, 以形成所述掩膜基板;
對(duì)所述蒸鍍孔進(jìn)行精加工,使得所述蒸鍍孔達(dá)到預(yù)定值。
根據(jù)本發(fā)明提供的大尺寸掩膜基板的制作方法,提供多條橫向膜片和多 條縱向膜片;將多條所述橫向膜片與多條所述縱向膜片縱橫交錯(cuò)布置,以形 成矩陣分布多個(gè)方形的蒸鍍孔;通過(guò)張緊機(jī)將縱橫交錯(cuò)布置的所述橫向膜片 和所述縱向膜片張緊;采用焊接工藝將張緊后的所述橫向膜片和所述縱向膜 片相對(duì)焊接固定,以形成所述掩膜基板;對(duì)所述蒸鍍孔進(jìn)行精加工,使得所 述蒸鍍孔達(dá)到預(yù)定值。如此,可以形成大尺寸掩膜基板,其取材方便,成本 低,工藝簡(jiǎn)單,能夠滿足大尺寸顯示器件的要求。此外,形成的蒸鍍孔的尺 寸精度高,蒸鍍效果更好,提高產(chǎn)品良率。
另外,根據(jù)本發(fā)明上述實(shí)施例的大尺寸掩膜基板的制作方法還可以具有 如下附加的技術(shù)特征:
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,所述將多條所述橫向膜片與多條所述縱向膜 片縱橫交錯(cuò)布置之前,還包括:
在每個(gè)所述橫向膜片的下表面設(shè)置多個(gè)沿縱向延伸的第一凹槽,多個(gè)所 述第一凹槽沿橫向間隔分布于所述橫向膜片上,每個(gè)所述第一凹槽縱向的兩 端敞開;
在每個(gè)所述縱向膜片的上表面間隔設(shè)置有多個(gè)沿橫向延伸的第二凹槽, 多個(gè)所述第二凹槽沿縱向間隔分布于所述縱向膜片上,每個(gè)所述第二凹槽橫 向的兩端敞開;
所述采用焊接工藝將張緊后的所述橫向膜片和所述縱向膜片相對(duì)焊接固 定之前還包括:
將相交的所述橫向膜片和所述縱向膜片中所述橫向膜片上的所述第一凹 槽與所述縱向膜片上對(duì)應(yīng)的所述第二凹槽上下相對(duì);
在所述橫向膜片和所述縱向膜片張緊后,將橫向膜片上的所述第一凹槽 位置與縱向膜片上相對(duì)的所述第二凹槽位置嵌合,以使所述橫向膜片的上表 面和所述縱向膜片的上表面平齊。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,所述采用焊接工藝將張緊后的所述橫向膜片 和所述縱向膜片相對(duì)焊接固定具體為:
采用激光點(diǎn)焊工藝在相交的所述橫向膜片和所述縱向膜片上第一凹槽與 第二凹槽嵌合位置焊接固定。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,所述第一凹槽的寬度略小于所述縱向膜片的 寬度,所述第二凹槽的寬度略小于所述橫向膜片的寬度,以使通過(guò)張緊機(jī)將 縱橫交錯(cuò)布置的所述橫向膜片和所述縱向膜片張緊后的第一凹槽在寬度等于 所述縱向膜片的寬度,所述第二凹槽的寬度等于所述橫向膜片的寬度。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,所述第一凹槽的深度等于所述縱向膜片的厚 度減去所述第二凹槽的深度,所述第二凹槽的深度等于所述橫向膜片的厚度 減去所述第一凹槽的深度。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過(guò)帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過(guò)電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過(guò)100nm或更短波長(zhǎng)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測(cè)試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備





