[發明專利]一種薄膜制備裝置

有效

• 申請號: 201610334001.9
• 申請日: 2016-05-19
• 公開（公告）號: CN105964502B
• 公開（公告）日: 2018-03-23
• 發明（設計）人: 高春紅;孫衛偉;陳忠陽;王治強;熊自陽
• 申請（專利權）人: 西南大學
• 主分類號: B05C13/02
• 分類號: B05C13/02;B05C5/02
• 代理公司: 重慶華科專利事務所50123
• 代理人: 何悅

技術領域

本發明涉及薄膜生產技術領域，具體為一種薄膜制備裝置。

背景技術

在工業生產以及社會生活中經常需要使用到薄膜，在具體使用薄膜的時候，對其要求十分嚴格，尤其是膜的均勻程度，薄膜越均勻，其使用效果就越好。現在生產薄膜的機器有很多，制備薄膜的方法也有很多。為了提高薄膜的均勻性，現有制備方法都較繁瑣，所使用的器材和耗能也比較大，但薄膜的均勻程度仍不是很高，而且制備出來的膜因其內部無序的分子結構，導致薄膜很容易貼在一起，越薄的膜越難分開。

發明內容

本發明的目的在于提供一種薄膜制備裝置，以提高薄膜均勻程度，并實現膜內部分子有序排列。

本發明所述的薄膜制備裝置，包括金屬網、柔性基層、傳送帶、驅動電機、滴料機構和多個磁塊，所述金屬網平展的支撐固定在機架上，所述柔性基層平鋪放置于金屬網表面，所述傳送帶設在金屬網下方并由所述驅動電機驅動勻速運動，所述滴料機構將液態的薄膜材料滴落在柔性基層表面上，所述多個磁塊等間距的固設在傳送帶表面上，與上方的金屬網間留有一定間隙，其對金屬網產生吸附力，使得金屬網及附在其表面的柔性基層下凹，當磁塊隨傳送帶平移時，使金屬網及柔性基層形成波動。

優選的，還包括交流電場，所述交流電場布置在柔性基層上方。

優選的，所述滴料機構將薄膜材料間隔滴落，該間隔時間與傳送帶移動過相鄰兩磁塊間距所需時間相同。

優選的，所述金屬網由鐵鋅合金絲交織而成。

優選的，所述交流電場通過交流發生器產生。

優選的，所述機架包括四根支柱，所述金屬網支撐在所述四根支柱上。

優選的，所述傳送帶的兩端分別繞設在轉軸和驅動電機的輸出軸上。

本發明所述裝置結構簡單、性能可靠，有效提高了薄膜均勻程度，并實現了膜內部分子的有序排列。

附圖說明

圖1是本裝置的結構示意圖；

圖2是本裝置中傳送帶的結構示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖和實施例對本發明作進一步的詳細闡述，以下實施例僅用于解釋本發明，并不構成對本發明保護范圍的限定。

如圖1、圖2所示的薄膜制備裝置，包括機架、金屬網1、柔性基層2、傳送帶3、滴料機構（圖中未示出）和交流發生器（圖中未示出）。

所述機架為分布在四周的四根支柱4，所述金屬網1由鐵鋅合金絲交織而成，其水平的支撐固定在所述四根支柱4上。

所述柔性基層2平鋪放置在金屬網1表面，該柔性基層起到承載薄膜的作用，并要求其材料較軟，能夠隨下方金屬網網面形狀的變化而變形。根據所需制備的薄膜的不同，柔性基層也相應不同，例如可采用密織的超薄無紡布、塑料薄膜等等。

所述兩條傳送帶3并排布置在金屬網下方，所述兩條傳送帶分別由一安裝在支柱上的驅動電機5驅動勻速運動，且兩條傳送帶運動方向相同，所述傳送帶3的兩端分別繞設在轉軸7和驅動電機的輸出軸6上。

多個強磁性的磁塊8等間距的固設在傳送帶3表面上，與上方的金屬網1間留有一定間隙，所述磁塊的寬度與傳送帶的寬度相同。

所述滴料機構布置在柔性基層2上方，并處于所述傳送帶的上游，該滴料機構用于將液態的薄膜材料間隔的滴落在柔性基層表面上，該間隔時間與傳送帶移動過相鄰兩磁塊間距所需時間相同，使得薄膜的形成更加均勻，受到均勻的磁場力作用。

所述交流發生器安裝于柔性基層上方并布置在金屬網兩端，所述交流發生器可產生交流電場，與傳送帶上磁塊的磁場疊加作用，作用于所制備的薄膜內部分子，使其分子排列更加有序。由于交流電是變化的，故磁場力也是變化的，會使得金屬網產生規律振動，使薄膜形成更加均勻。

上述裝置的原理是利用磁塊對金屬網產生吸附力，使得金屬網產生對應于磁塊的凹陷，從而使得金屬網表面的柔性基層局部也形成相應的下凹。當磁塊隨傳送帶平移時，金屬網和柔性基層的下凹位置跟著變化，從而使得金屬網及柔性基層形成規律的波動，進而使得滴落在柔性基層上的薄膜材料向后方被均勻的平鋪攤開，形成均勻的薄膜層，再經過后續的干燥等工序后，將制備的薄膜從柔性基層上取下。