[發(fā)明專利]一種薄膜制備裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610334001.9 | 申請日： | 2016-05-19 |
| 公開（公告）號： | CN105964502B | 公開（公告）日： | 2018-03-23 |
| 發(fā)明（設計）人： | 高春紅;孫衛(wèi)偉;陳忠陽;王治強;熊自陽 | 申請（專利權）人： | 西南大學 |
| 主分類號： | B05C13/02 | 分類號： | B05C13/02;B05C5/02 |
| 代理公司： | 重慶華科專利事務所50123 | 代理人： | 何悅 |
| 地址： | 400715*** | 國省代碼： | 重慶;85 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 薄膜 制備 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種薄膜制備裝置，其特征在于包括：
金屬網，所述金屬網平展的支撐固定在機架上；
柔性基層，所述柔性基層平鋪放置于金屬網表面；
傳送帶，所述傳送帶設在金屬網下方；
驅動電機，所述驅動電機驅動所述傳送帶勻速運動；
磁塊，多個磁塊等間距的固設在傳送帶表面上，與上方的金屬網間留有一定間隙，其對金屬網產生吸附力，使得金屬網及附在其表面的柔性基層下凹，當磁塊隨傳送帶平移時，使金屬網及柔性基層形成波動；
滴料機構，所述滴料機構將液態(tài)的薄膜材料滴落在柔性基層表面上；
所述滴料機構將薄膜材料間隔滴落，該間隔時間與傳送帶移動過相鄰兩磁塊間距所需時間相同。
2.根據權利要求1所述的薄膜制備裝置，其特征在于：還包括交流電場，所述交流電場布置在柔性基層上方。
3.根據權利要求1或2所述的薄膜制備裝置，其特征在于：所述金屬網由鐵鋅合金絲交織而成。
4.根據權利要求2所述的薄膜制備裝置，其特征在于：所述交流電場通過交流發(fā)生器產生。
5.根據權利要求1或2所述的薄膜制備裝置，其特征在于：所述機架包括四根支柱，所述金屬網支撐在所述四根支柱上。
6.根據權利要求1或2所述的薄膜制備裝置，其特征在于：所述傳送帶的兩端分別繞設在轉軸和驅動電機的輸出軸上。
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