[發(fā)明專(zhuān)利]壓印模板和在導(dǎo)電端子的鍍層上形成微結(jié)構(gòu)的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610327026.6 | 申請(qǐng)日: | 2016-05-17 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN107394558B | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-08-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐文忠;周建坤;黃忠喜 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 泰科電子(上海)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01R43/16 | 分類(lèi)號(hào): | H01R43/16 |
| 代理公司: | 中科專(zhuān)利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 孫紀(jì)泉 |
| 地址: | 200131 上海市浦東新區(qū)中國(guó)(上海*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 壓印 模板 導(dǎo)電 端子 鍍層 形成 微結(jié)構(gòu) 方法 | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種在導(dǎo)電端子的鍍層上形成微結(jié)構(gòu)的方法,包括以下步驟:制造一個(gè)壓印模板,所述壓印模板的表面上形成有第一微結(jié)構(gòu);和用所述壓印模板對(duì)導(dǎo)電端子的鍍層進(jìn)行壓印,以便在所述鍍層的表面上形成與所述壓印模板上的第一微結(jié)構(gòu)互補(bǔ)的第二微結(jié)構(gòu)。此外,本發(fā)明還公開(kāi)了一種壓印模板,在所述壓印模板的表面上形成有第一微結(jié)構(gòu),從而適于用該壓印模板在導(dǎo)電端子的鍍層上壓印出與所述第一微結(jié)構(gòu)互補(bǔ)的第二微結(jié)構(gòu)。在本發(fā)明中,通過(guò)壓印模板在導(dǎo)電端子的鍍層上直接壓印出微結(jié)構(gòu),操作方便,而且,該壓印模板可以反復(fù)使用,成本非常低廉。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種壓印模板以及采用該壓印模板在導(dǎo)電端子的鍍層上形成微結(jié)構(gòu)的方法。
背景技術(shù)
在現(xiàn)有技術(shù)中,為了提高電連接器的導(dǎo)電端子的電學(xué)性能,一般需要在導(dǎo)電端子的表面上電鍍一層金、銀、錫或其合金鍍層。對(duì)于錫及錫合金鍍層,在實(shí)際應(yīng)用過(guò)程中,會(huì)在鍍層的表面上形成氧化層,該氧化層會(huì)降低導(dǎo)電端子的電學(xué)性能,例如,會(huì)增加導(dǎo)電端子的表面接觸電阻。因此,在實(shí)際應(yīng)用中,需要在導(dǎo)電端子上施加較大的正向壓力來(lái)去除錫及錫合金鍍層的表面上的氧化層。但是,隨著電連接器的微型化,連接器的導(dǎo)電端子越來(lái)越小,很難獲得足夠的正向壓力,使得錫及錫合金鍍層的應(yīng)用收到了很大的限制。
在現(xiàn)有技術(shù)中,為了降低導(dǎo)電端子的表面接觸電阻和降低導(dǎo)電端子的插拔力(施加在導(dǎo)電端子上的正向壓力越大,插拔力越大),需要對(duì)錫及錫合金鍍層的表面進(jìn)行修飾,例如,利用激光在錫及錫合金鍍層的表面上加工出微結(jié)構(gòu),這可以同時(shí)滿(mǎn)足降低導(dǎo)電端子的表面接觸電阻和降低導(dǎo)電端子的插拔力的要求。
但是,激光加工工藝較為復(fù)雜,難以控制,而且加工出來(lái)的微結(jié)構(gòu)的尺寸精度和形狀精度較差,且成本較高。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的旨在解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述問(wèn)題和缺陷的至少一個(gè)方面。
本發(fā)明的一個(gè)目的在于提供一種壓印模板以及用該壓印模板在導(dǎo)電端子的鍍層上形成微結(jié)構(gòu)的方法,其可以通過(guò)壓印模板在導(dǎo)電端子的鍍層上直接壓印出微結(jié)構(gòu),操作方便,成本低廉。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面,提供一種在導(dǎo)電端子的鍍層上形成微結(jié)構(gòu)的方法,包括以下步驟:
S100:制造一個(gè)壓印模板,所述壓印模板的表面上形成有第一微結(jié)構(gòu);和
S200:用所述壓印模板對(duì)導(dǎo)電端子的鍍層進(jìn)行壓印,以便在所述鍍層的表面上形成與所述壓印模板上的第一微結(jié)構(gòu)互補(bǔ)的第二微結(jié)構(gòu)。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)例性的實(shí)施例,所述步驟S100包括以下步驟:
S110:提供一個(gè)硅模板,所述硅模板的表面上形成有微結(jié)構(gòu);
S120:以所述硅模板為模具,制造一個(gè)聚合物模板,從而將所述硅模板上的微結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)印到所述聚合物模板的表面上;
S130:在所述聚合物模板的形成有微結(jié)構(gòu)的表面上形成一層硬質(zhì)合金層,從而將所述聚合物模板上的微結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)印到所述硬質(zhì)合金層上;
S140:將形成有所述硬質(zhì)合金層的聚合物模板浸沒(méi)到金屬電鑄液中進(jìn)行電鑄,以便在所述硬質(zhì)合金層上電鑄形成一個(gè)金屬基板;和
S150:去除所述聚合物模板,從而獲得具有所述硬質(zhì)合金層和所述金屬基板的壓印模板,所述硬質(zhì)合金層上的微結(jié)構(gòu)構(gòu)成所述壓印模板的第一微結(jié)構(gòu)。
根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)例性的實(shí)施例,所述硅模板的表面上的微結(jié)構(gòu)采用光刻工藝形成。
根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)例性的實(shí)施例,采用旋涂工藝在所述硅模板上形成所述聚合物模板,或者采用模制工藝在所述硅模板上形成所述聚合物模板。
根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)例性的實(shí)施例,所述聚合物模板由聚二甲基硅氧烷制成。
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