[發(fā)明專利]蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)以及檢測方法、蒸鍍設備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610326878.3
• 申請日: 2016-05-13
• 公開（公告）號: CN107365960B
• 公開（公告）日: 2019-04-30
• 發(fā)明（設計）人: 李浩永;金甲錫;金薰
• 申請（專利權）人: 合肥欣奕華智能機器有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/54
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

本發(fā)明提供了一種蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)以及檢測方法、蒸鍍設備，涉及顯示技術領域，用于提高蒸鍍到基板上的蒸鍍膜層的厚度均勻性。該蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)包括：設置于蒸發(fā)源的噴嘴上方的質(zhì)量傳感器，所述質(zhì)量傳感器用于在進行蒸鍍前檢測由該質(zhì)量傳感器所對應的噴嘴噴出并附著在該質(zhì)量傳感器上的蒸鍍材料的質(zhì)量；與所述質(zhì)量傳感器連接的噴嘴堵塞程度分析單元，所述噴嘴堵塞程度分析單元根據(jù)檢測得到的蒸鍍材料的質(zhì)量，分析該質(zhì)量傳感器所對應的堵塞程度。上述蒸鍍設備用于將蒸鍍材料蒸鍍到基板上。

技術領域

本發(fā)明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)以及檢測方法、蒸鍍設備。

背景技術

OLED(Organic Light-Emitting Diode，有機發(fā)光二極管)顯示裝置是一種主流的顯示裝置，具有功耗低、響應速度快、工作范圍寬、易于實現(xiàn)柔性顯示、明暗比例突出以及高畫質(zhì)的色彩等諸多優(yōu)點。

OLED顯示裝置通常包括色阻層，該色阻層包括R(紅色)、G(綠色)和B(藍色)三種色阻，形成RGB色阻一般采用蒸鍍工藝。蒸鍍過程為：將蒸發(fā)源置于蒸鍍設備的真空腔室內(nèi)，將基板設置于蒸發(fā)源的上方，所述蒸發(fā)源包括坩堝，坩堝外部設置有加熱器，坩堝內(nèi)部裝有蒸鍍材料，坩堝上方設置有蓋板，蓋板上設有多個噴嘴，通過加熱器加熱坩堝，使坩堝內(nèi)的蒸鍍材料從各噴嘴蒸發(fā)出來，附著到基板的表面成膜。

但是，上述蒸鍍過程存在以下問題：在蒸鍍過程中，各噴嘴很容易附著蒸鍍材料，在長時間進行蒸鍍的過程中，附著在噴嘴上的蒸鍍材料會越來越多，導致噴嘴噴出的蒸鍍材料減少，并且由于各噴嘴所附著的蒸鍍材料的質(zhì)量不同，造成從不同噴嘴噴出的蒸鍍材料的量也不同，從而導致蒸鍍到基板上的薄膜的厚度不均勻。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)以及檢測方法、蒸鍍設備，用于提高蒸鍍到基板上的薄膜的厚度均勻性。

為達到上述目的，本發(fā)明采用如下技術方案：

本發(fā)明的第一方面提供了一種蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)，所述蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)包括：設置于蒸發(fā)源的噴嘴上方的質(zhì)量傳感器，一個噴嘴對應至少一個所述質(zhì)量傳感器，所述質(zhì)量傳感器用于在進行蒸鍍前檢測由該質(zhì)量傳感器所對應的噴嘴噴出并附著在該質(zhì)量傳感器上的蒸鍍材料的質(zhì)量；與所述質(zhì)量傳感器連接的噴嘴堵塞程度分析單元，所述噴嘴堵塞程度分析單元根據(jù)檢測得到的蒸鍍材料的質(zhì)量，分析該質(zhì)量傳感器所對應噴嘴的堵塞程度。

本發(fā)明所提供的蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)中，由于噴嘴的堵塞程度與附著在該噴嘴所對應的質(zhì)量傳感器上的蒸鍍材料的質(zhì)量呈反比關系，因此可以通過質(zhì)量傳感器檢測附著在自身的蒸鍍材料的質(zhì)量，然后利用噴嘴堵塞程度分析單元根據(jù)檢測得到的蒸鍍材料的質(zhì)量分析相應噴嘴的堵塞程度，以便于根據(jù)分析得到的噴嘴的阻塞程度對相應噴嘴進行處理，比如，對噴嘴進行清洗或者置換。可見，本發(fā)明所提供的技術方案能夠及時發(fā)現(xiàn)并處理堵塞程度較大的噴嘴，從而保證在蒸鍍過程中基板各區(qū)域所對應的噴嘴噴出的蒸鍍材料的量相同或基本相同，避免了由于不同噴嘴堵塞程度不一致所引起的蒸鍍膜層厚度不均勻的問題，提高了蒸鍍膜層厚度的均勻性。

本發(fā)明的第二方面提供了一種蒸發(fā)源檢測方法，所述蒸發(fā)源檢測方法包括：在進行蒸鍍前檢測由蒸發(fā)源的噴嘴所噴出的蒸鍍材料的質(zhì)量；根據(jù)檢測得到的質(zhì)量，確定相應噴嘴的堵塞程度。

上述蒸發(fā)源檢測方法的有益效果與本發(fā)明的第一方面所提供的蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)的有益效果相同，此處不再贅述。

本發(fā)明的第三方面提供了一種蒸鍍設備，包括真空腔室，及設置于所述真空腔室內(nèi)部的蒸發(fā)源，所述蒸鍍設備還包括上述蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)，所述蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)用于對所述蒸發(fā)源進行檢測。

上述蒸鍍設備的有益效果與本發(fā)明的第一方面所提供的蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)的有益效果相同，此處不再贅述。

附圖說明