[發(fā)明專利]蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)以及檢測方法、蒸鍍設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610326878.3
• 申請日: 2016-05-13
• 公開（公告）號: CN107365960B
• 公開（公告）日: 2019-04-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李浩永;金甲錫;金薰
• 申請（專利權(quán)）人: 合肥欣奕華智能機(jī)器有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/54
• 代理公司: 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)，其特征在于，所述蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)包括：

設(shè)置于蒸發(fā)源的噴嘴上方的質(zhì)量傳感器，一個(gè)噴嘴對應(yīng)至少一個(gè)所述質(zhì)量傳感器，所述質(zhì)量傳感器用于在進(jìn)行蒸鍍前檢測由該質(zhì)量傳感器所對應(yīng)的噴嘴噴出并附著在該質(zhì)量傳感器上的蒸鍍材料的質(zhì)量；

與所述質(zhì)量傳感器連接的噴嘴堵塞程度分析單元，所述噴嘴堵塞程度分析單元根據(jù)所述質(zhì)量傳感器所檢測得到的蒸鍍材料的質(zhì)量，分析該質(zhì)量傳感器所對應(yīng)的噴嘴的堵塞程度；

所述蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)還包括：與所述蒸發(fā)源安裝在同一真空腔室內(nèi)的殘余氣體分析儀，所述殘余氣體分析儀用于檢測蒸鍍過程中所述真空腔室內(nèi)的氣體組分，并根據(jù)所述真空腔室內(nèi)的氣體組分判斷從所述蒸發(fā)源內(nèi)揮發(fā)出的蒸鍍材料是否變性。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)，其特征在于，所述蒸發(fā)源的每個(gè)噴嘴的上方均對應(yīng)設(shè)置有至少一個(gè)所述質(zhì)量傳感器。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)，其特征在于，所述質(zhì)量傳感器組成石英晶體微天平。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)，其特征在于，所述蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)還包括：

與所述蒸發(fā)源的各噴嘴一一對應(yīng)設(shè)置的多個(gè)熱電偶，每個(gè)所述熱電偶經(jīng)過對應(yīng)的噴嘴插入所述蒸發(fā)源的坩堝內(nèi)部，所述熱電偶用于在進(jìn)行蒸鍍前檢測對應(yīng)的噴嘴下方的坩堝內(nèi)部區(qū)域的溫度；

與所述多個(gè)熱電偶連接的坩堝溫度調(diào)控單元，所述坩堝溫度調(diào)控單元用于根據(jù)所述熱電偶所檢測到的各噴嘴下方的坩堝內(nèi)部區(qū)域的溫度，對所述坩堝內(nèi)部的溫度進(jìn)行調(diào)控，使所述坩堝內(nèi)部各個(gè)區(qū)域的溫度均達(dá)到蒸鍍所需要的溫度。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)，其特征在于，所述蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)還包括：

一一對應(yīng)地設(shè)置于所述蒸發(fā)源的各噴嘴上方的多個(gè)壓力測量儀，所述壓力測量儀用于在進(jìn)行蒸鍍前檢測對應(yīng)的噴嘴下方的坩堝內(nèi)部區(qū)域的壓力；

與所述多個(gè)壓力測量儀連接的壓力調(diào)控單元，所述壓力調(diào)控單元用于根據(jù)所述壓力測量儀所檢測到的各噴嘴下方的坩堝內(nèi)部區(qū)域的壓力，對所述坩堝內(nèi)部的壓力進(jìn)行調(diào)控，使所述坩堝內(nèi)部各個(gè)區(qū)域的壓力均達(dá)到蒸鍍所需要的壓力。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)，其特征在于，所述蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)還包括：

安裝在所述蒸發(fā)源所處的真空腔室外的激光掃描儀，所述激光掃描儀用于掃描蒸鍍過程中蒸發(fā)源的坩堝的外部尺寸；

與所述激光掃描儀連接的坩堝變形分析單元，所述坩堝變形分析單元用于根據(jù)所述激光掃描儀所掃描到坩堝的外部尺寸，分析所述坩堝的變形程度。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)，其特征在于，所述蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)還包括：

安裝在所述蒸發(fā)源的蓋板一側(cè)的電饋通；

與所述電饋通連接的蓋板清潔程度分析單元，所述蓋板清潔程度分析單元用于檢測蒸鍍過程中所述蓋板的電阻值，分析所述蓋板的清潔程度。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)，其特征在于，所述蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)還包括：與所述蒸發(fā)源安裝在同一真空腔室內(nèi)的濾網(wǎng)，所述濾網(wǎng)用于采集蒸鍍過程中粒徑大于或等于設(shè)定值的蒸鍍材料顆粒。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)，其特征在于，所述蒸發(fā)源檢測系統(tǒng)還包括：

與所述蒸發(fā)源安裝在同一真空腔室內(nèi)的光學(xué)掃描儀，所述光學(xué)掃描儀用于掃描蒸鍍過程中所述真空腔室的內(nèi)部環(huán)境，生成包括彌散在所述真空腔室內(nèi)的蒸鍍材料顆粒的粒徑信息和分布情況信息的圖像；

與所述光學(xué)掃描儀連接的真空腔室清潔程度分析單元，所述真空腔室清潔程度分析單元根據(jù)所述光學(xué)掃描儀所生成的圖像，分析所述真空腔室內(nèi)的清潔程度。