[發(fā)明專利]用于拋光藍(lán)寶石基板的組合物和拋光藍(lán)寶石基板的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610324333.9
• 申請日: 2016-05-16
• 公開（公告）號: CN107325735B
• 公開（公告）日: 2019-03-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 徐沛紳;張?zhí)憩?/a>;周乃天;黃新義
• 申請（專利權(quán)）人: 臺灣永光化學(xué)工業(yè)股份有限公司
• 主分類號: H01L21/306
• 分類號: H01L21/306;C09G1/02
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 任巖

1.一種用于拋光藍(lán)寶石基板的研磨組合物，其特征在于，包括：

(A)5至50重量百分比的研磨粒子；

(B)0.01至5重量百分比的含有下述通式(1)所表示的化合物；

其中，R1、R2及R3各自獨(dú)立地為氧基伸乙基聚合結(jié)構(gòu)、氧基伸丙基聚合結(jié)構(gòu)、或氧基伸乙基及氧基伸丙基共聚物結(jié)構(gòu)，上述氧基伸乙基及氧基伸丙基共聚物結(jié)構(gòu)是由一乙二醇單體以及一丙二醇單體共聚而成一嵌段共聚物、或一隨機(jī)共聚物；以及

(C)余量的水。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨組合物，其特征在于，其中，該化合物的含量為0.01至1重量百分比。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨組合物，其特征在于，其中，該化合物的平均分子量為200至5000。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的研磨組合物，其特征在于，其中，該化合物的平均分子量為300至2000。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨組合物，其特征在于，其中，在該氧基伸乙基及氧基伸丙基共聚物結(jié)構(gòu)中，其氧基伸乙基與氧基伸丙基的質(zhì)量比為10:90～90:10。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的研磨組合物，其特征在于，其中，在該氧基伸乙基及氧基伸丙基共聚物結(jié)構(gòu)中，其氧基伸乙基與氧基伸丙基的質(zhì)量比為70:30～90:10。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨組合物，其特征在于，其中，該研磨粒子是至少一選自由氧化硅、氧化鋁、氧化鋯、氧化鈰及氧化鈦所組成的群組。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的研磨組合物，其特征在于，其中，該研磨粒子是氧化硅。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨組合物，其特征在于，其中，該研磨粒子的平均粒徑范圍為10納米至300納米。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨組合物，其特征在于，其中，該研磨組合物的酸堿值為7至11。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的研磨組合物，其特征在于，其中，該研磨組合物的酸堿值為8至10.5。

12.一種拋光藍(lán)寶石基板的方法，其特征在于，包括：

提供一研磨組合物，該研磨組合物包括：

(A)5至50重量百分比的研磨粒子；

(B)0.01至5重量百分比的含有下述通式(1)所表示的化合物；

其中，R1、R2及R3各自獨(dú)立地為氧基伸乙基聚合結(jié)構(gòu)、氧基伸丙基聚合結(jié)構(gòu)、或氧基伸乙基及氧基伸丙基共聚物結(jié)構(gòu)，上述氧基伸乙基及氧基伸丙基共聚物結(jié)構(gòu)是由一乙二醇單體以及一丙二醇單體共聚而成一嵌段共聚物、或一隨機(jī)共聚物；以及

(C)余量的水。