[發明專利]等離子體發生裝置及基板處理裝置有效
| 申請號： | 201610318718.4 | 申請日： | 2012-03-29 |
| 公開（公告）號： | CN106024568B | 公開（公告）日： | 2019-05-21 |
| 發明（設計）人： | 張鴻永;徐相勳;李潤星 | 申請（專利權）人： | 周星工程股份有限公司;韓國科學技術院 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 蘭州中科華西專利代理有限公司 62002 | 代理人： | 李艷華 |
| 地址： | 韓國*** | 國省代碼： | 韓國;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 等離子體 發生 裝置 處理 | ||
【權利要求書】：
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