[發明專利]金屬光柵偏光片及其制作方法

有效

• 申請號: 201610303897.4
• 申請日: 2016-05-09
• 公開（公告）號: CN105785493B
• 公開（公告）日: 2019-01-22
• 發明（設計）人: 陳黎暄
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;G03F7/00
• 代理公司: 深圳市德力知識產權代理事務所 44265
• 代理人: 林才桂

1.一種金屬光柵偏光片的制作方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟1、提供金屬襯底(100)，在金屬襯底(100)上表面涂覆一層光膠(300)；

步驟2、提供壓印模板(500)，將壓印模板放置在光膠(300)上進行納米壓印，使金屬襯底(100)上的光膠(300)形成間隔排布的數條第一光阻條(310)和數條第二光阻條(320)，其中，第一光阻條(310)的高度大于第二光阻條(320)的高度；

步驟3、移去壓印模板(500)，以光膠(300)為遮蔽層，對金屬襯底(100)進行干法蝕刻，在金屬襯底(100)上形成數條金屬光柵，所述金屬光柵分為第一線柵(21)和第二線柵(22)，其中第一線柵(21)對應所述第一光阻條(310)形成，第二線柵(22)對應所述第二光阻條(320)形成，得到包括基板(10)、及基板(10)上的數條金屬光柵的金屬光柵偏光片；

其中，數條第一線柵(21)和數條第二線柵(22)在基板(10)上交錯設置且呈周期排列，所述第一線柵(21)具有第一高度H1，所述第二線柵(22)具有第二高度H2，所述第一線柵(21)和第二線柵(22)的高度關系滿足(H1-H2)/H1>10％。

2.如權利要求1所述的金屬光柵偏光片的制作方法，其特征在于，所述金屬光柵的寬度在20-150nm之間，相鄰兩金屬光柵之間的距離在20-150nm之間。

3.如權利要求1所述的金屬光柵偏光片的制作方法，其特征在于，所述數條金屬光柵在基板(10)上為等間隔設置。

4.如權利要求1所述的金屬光柵偏光片的制作方法，其特征在于，每一第一線柵(21)與一個第二線柵(22)交錯設置。

5.如權利要求1所述的金屬光柵偏光片的制作方法，其特征在于，所述步驟2提供的壓印模板(500)具有數條第一光柵凹槽(510)和數條第二光柵凹槽(520)，所述第一光柵凹槽(510)的深度大于第二光柵凹槽(520)的深度，所述第一光阻條(310)、第二光阻條(310)分別對應第一光柵凹槽(510)、第二光柵凹槽(520)形成；所述步驟3還包括，在干法蝕刻后去除剩余的光膠(300)，在形成的數條金屬光柵上涂布形成一層緩沖層(30)，所得到金屬光柵偏光片還包括設于所述基板(10)、及數條金屬光柵上的緩沖層(30)。