[發明專利]用于在金屬工件上保留標記的方法

在審

• 申請號: 201610296725.9
• 申請日: 2016-05-06
• 公開（公告）號: CN106591850A
• 公開（公告）日: 2017-04-26
• 發明（設計）人: 雷伯特·L·特立尼達;何塞·馬里·I·歐碧昂;奧維爾·T·彭戴昂
• 申請（專利權）人: 依卡莎科技控股有限公司
• 主分類號: C23F17/00
• 分類號: C23F17/00;B44C1/22
• 代理公司: 深圳市恒申知識產權事務所(普通合伙)44312
• 代理人: 寇闖

技術領域

本發明涉及一種用于在金屬工件上保留標記的方法，具體地但不排他性地涉及一種用于在金屬工件上保留標記的方法，該工件將通過化學表面加工步驟進行加工。

背景技術

許多化學方法已常規地應用于蝕刻、清潔或一般地用于加工金屬工件的表面以獲得清潔的和一致的光潔度或美學上增強的外觀。例如，鋁和/或鋁合金的工件經常通過在氫氧化鈉水溶液(NaOH(aq))(還稱為“苛性溶液”或“苛性鈉”)中蝕刻進行表面加工以在陽極氧化之前除去表面材料。所述蝕刻步驟通常將產生基本表面光潔度，這使工件適合用于隨后的陽極氧化步驟。

苛性表面加工的一個問題是，所涉及的化學蝕刻是非選擇性過程，并且因此，先前已被提供在工件的表面上的任何標記(如符號、商標或標識)也將連同工件的表面材料一起被除去，因此所述標記不會保留。

發明目的

本發明的一個目的是提供一種用于表面加工金屬工件的方法，其中上述缺點在一定程度上減輕或消除；或至少提供有用的替代方案。

本發明的另一個目的是在一定程度上減輕或消除與已知的金屬工件的表面加工方法相關的一個或多個問題。

上述目的通過獨立權利要求的特征的組合來實現；從屬權利要求進一步公開本發明的有利實施方案。

本領域的技術人員將從以下描述獲得本發明的其他目的。因此，關于目的的上述陳述并非窮盡性的并且僅用于說明本發明的許多目的中的一些。

發明內容

在第一主要方面，本發明提供一種用于在從帶有標記的金屬工件的表面除去表面材料的化學處理過程之前在該工件上保留該標記的方法，該方法包括以下步驟：相對于該表面加深該標記以形成第一深度；以及將填充材料沉積到該第一深度中，其中該填充材料適合于在該化學處理過程期間除去，以使得在該化學處理過程之后在該標記處獲得第二深度。

優選地，該金屬工件上的標記包括蝕刻或退火標記并且該化學處理過程是化學蝕刻過程。

優選地，相對于該表面加深標記以形成第一深度的步驟包括使該標記的表面與酸性溶液反應。

優選地，該填充材料是金屬材料。

優選地，該金屬填充材料是不同于該工件的金屬材料的金屬材料。

優選地，沉積填充材料的步驟包括在標記的第一深度處在含金屬離子電解質溶液存在下的電化學反應。

優選地，該化學處理過程包括用堿性溶液蝕刻。

優選地，該工件的表面被陽極氧化。

優選地，該化學處理過程包括從工件的表面材料除去至少一個氧化物層。

優選地，該方法還包括在相對于表面加深標記以形成第一深度的步驟之前處理帶有該標記的工件的表面的步驟。

優選地，該處理步驟包括從該標記除去至少一個表面氧化物層。

優選地，該處理步驟被施加至工件的圍繞該標記的表面的至少一部分，但是使得它不會從該工件的該表面的部分除去全部表面材料，而是從該標記至少除去表面氧化層。

優選地，該處理步驟包括該表面的該部分的激光處理。

優選地，激光器的功率被設置為使得它不會從工件的該表面的部分除去全部表面材料，但從該標記至少除去該表面氧化物層。

優選地，該處理步驟被施加至帶有該標記的工件的整個表面。

優選地，相對于該表面加深該標記以形成第一深度的步驟和將該填充材料沉積到該第一深度中的步驟在酸性含金屬離子電解質溶液與該標記處的材料之間的電化學反應下大致上同時進行。

優選地，在標記處的材料被酸性電解質溶液溶解以在將填充材料沉積到第一深度中之前產生該第一深度。

優選地，該工件在化學處理過程之前具有第一厚度，其中第一深度和該第一厚度的比例的范圍為0.05:0.5至0.07:10。

優選地，該工件在化學過程之后具有第二厚度，其中第二深度和該第二厚度的比例的范圍為0.07:0.3至0.1:9.8。

優選地，該工件的表面帶有的標記包括數字、字符、符號、標志或圖片中的任一者或任何組合。

在第二個主要方面，本發明提供一種處理金屬工件以在該工件的表面上保留標記的方法，該方法包括以下步驟：處理該工件的表面的圍繞該標記的至少一部分以從該標記至少除去表面氧化物層，該處理步驟被布置成使得它不會從該工件的表面的該部分除去全部表面材料，但從該標記至少除去表面氧化物層。

優選地，該處理步驟包括該表面的該部分的激光處理。