[發(fā)明專利]光檢測裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610280956.0 | 申請日: | 2012-08-02 |
| 公開(公告)號: | CN105870244B | 公開(公告)日: | 2017-10-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 永野輝昌;細(xì)川暢郎;鈴木智史;馬場隆 | 申請(專利權(quán))人: | 浜松光子學(xué)株式會社 |
| 主分類號: | H01L31/107 | 分類號: | H01L31/107;H01L27/14;H01L27/146;H01L31/02;H01L31/10 |
| 代理公司: | 北京尚誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11322 | 代理人: | 楊琦,黃浩 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 檢測 裝置 | ||
本申請是申請日為2012年8月2日、申請?zhí)枮?u style="single">201280051817.0、發(fā)明名稱為光檢測裝置的專利申請的分案申請。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種光檢測裝置。
背景技術(shù)
已知的有一種表面入射型的光電二極管陣列(半導(dǎo)體光檢測元件),其具備以蓋革模式(Geiger mode)動作的多個(gè)雪崩光電二極管(avalanche photodiode)、以及相對于各雪崩光電二極管串聯(lián)連接的滅弧電阻(quenching resistance)(例如,參照專利文獻(xiàn)1)。在該光電二極管陣列中,在形成有構(gòu)成各像素的雪崩光電二極管的半導(dǎo)體基板設(shè)置有滅弧電阻。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:日本特開2011-003739號公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明所要解決的問題
在專利文獻(xiàn)1中記載的表面入射型的半導(dǎo)體光檢測元件中,滅弧電阻配置在半導(dǎo)體基板的光入射面(表面)側(cè)。因此,對應(yīng)于配置滅弧電阻的空間,開口率不得不降低,開口率的提高存在極限。
此外,在背面入射型的半導(dǎo)體光檢測元件中,滅弧電阻配置在半導(dǎo)體基板的與光入射面相對的面(背面)側(cè)。在背面入射型的半導(dǎo)體光檢測元件中,存在因像素?cái)?shù)的增加等因素而導(dǎo)致各像素的尺寸小的情況。在該情況下,在工藝(Process)設(shè)計(jì)的制約上,有時(shí)不得不在各像素的區(qū)域(有源區(qū)域)外配置滅弧電阻。各雪崩光電二極管以蓋革模式動作時(shí)所形成的倍增區(qū)域位于有源區(qū)域內(nèi)。結(jié)果,對應(yīng)于將滅弧電阻配置在有源區(qū)域外,開口率不得不降低。
本發(fā)明的目的在于提供一種可以顯著提高開口率的光檢測裝置。
解決問題的技術(shù)手段
本發(fā)明是一種光檢測裝置,其具備:半導(dǎo)體光檢測元件,其具有包含相互相對的第一和第二主面的半導(dǎo)體基板;以及搭載基板,其與半導(dǎo)體光檢測元件相對配置并且具有與半導(dǎo)體基板的第二主面相對的第三主面;半導(dǎo)體光檢測元件包含以蓋革模式動作并且形成在半導(dǎo)體基板內(nèi)的多個(gè)雪崩光電二極管、以及相對于各雪崩光電二極管電連接并且配置在半導(dǎo)體基板的第二主面?zhèn)鹊牡谝浑姌O;搭載基板包含對應(yīng)于每個(gè)第一電極而配置在第三主面?zhèn)鹊亩鄠€(gè)第二電極、以及相對于各第二電極電連接并且配置在第三主面?zhèn)鹊臏缁‰娐罚坏谝浑姌O與對應(yīng)于該第一電極的第二電極經(jīng)由凸點(diǎn)電極而連接。
在本發(fā)明中,滅弧電路配置在搭載基板而非半導(dǎo)體光檢測元件的半導(dǎo)體基板。因此,在半導(dǎo)體基板中,不考慮配置滅弧電路的空間而形成各雪崩光電二極管。其結(jié)果,能夠顯著提高光檢測裝置(半導(dǎo)體光檢測元件)的開口率。
在本發(fā)明中,可選地,各雪崩光電二極管具有:第一導(dǎo)電型的半導(dǎo)體基板;第二導(dǎo)電型的第一半導(dǎo)體區(qū)域,其形成在半導(dǎo)體基板的第一主面?zhèn)龋坏诙?dǎo)電型的第二半導(dǎo)體區(qū)域,其形成在第一半導(dǎo)體區(qū)域內(nèi)且雜質(zhì)濃度比第一半導(dǎo)體區(qū)域高;以及第三電極,其配置在半導(dǎo)體基板的第一主面?zhèn)惹译娺B接于第二半導(dǎo)體區(qū)域;在半導(dǎo)體基板中,針對雪崩光電二極管而形成有從第一主面?zhèn)蓉炌ㄖ恋诙髅鎮(zhèn)葹橹骨覍?yīng)的第三電極與第一電極電連接的貫通電極。在該情況下,在使用表面入射型的半導(dǎo)體光檢測元件的情況下,也能夠顯著提高開口率。另外,第三電極與第一電極經(jīng)由貫通電極而電連接,故經(jīng)由第三電極、貫通電極、第一電極、凸點(diǎn)電極、以及第二電極的從第二半導(dǎo)體區(qū)域至滅弧電路為止的配線距離比較較短。因此,配線所具有的電阻及電容的影響得到抑制,時(shí)間分辨率提高。
在本發(fā)明中,可選地,各雪崩光電二極管具有:第一導(dǎo)電型的半導(dǎo)體基板;第二導(dǎo)電型的第一半導(dǎo)體區(qū)域,其形成在半導(dǎo)體基板的第二主面?zhèn)龋坏谝粚?dǎo)電型的第二半導(dǎo)體區(qū)域,其與第一半導(dǎo)體區(qū)域構(gòu)成PN結(jié)且雜質(zhì)濃度比半導(dǎo)體基板高;第一半導(dǎo)體區(qū)域與第一電極電連接。在該情況下,在使用背面入射型的半導(dǎo)體光檢測元件的情況下,也能夠顯著提高開口率。另外,第一電極與第二電極經(jīng)由凸點(diǎn)電極而電連接,故從第一半導(dǎo)體區(qū)域至滅弧電路為止的配線距離極其短。因此,配線所具有的電阻及電容的影響明顯得到抑制,時(shí)間分辨率更進(jìn)一步地提高。
在本發(fā)明中,可選地,搭載基板還包含并聯(lián)連接有滅弧電路的共用電極。在該情況下,不延長配線距離便能夠并聯(lián)地連接各雪崩光電二極管(滅弧電路)。
在本發(fā)明中,可選地,滅弧電路是無源滅弧電路或有源滅弧電路。
發(fā)明的效果
根據(jù)本發(fā)明,能夠提供一種可以顯著提高開口率的光檢測裝置。
附圖說明
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





