[發(fā)明專利]光擴(kuò)散粉、光擴(kuò)散粉的制備方法、量子點光刻膠及量子點彩膜

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610266767.8
• 申請日: 2016-04-26
• 公開（公告）號: CN105694042B
• 公開（公告）日: 2021-04-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 周婷婷;張斌;齊永蓮;謝蒂旎;蔣勇
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號: C08G77/18
• 分類號: C08G77/18;G03F7/004;G03F7/033;G03F7/038
• 代理公司: 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;黃燦

本發(fā)明屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及光擴(kuò)散粉其制備方法、量子點光刻膠及量子點彩膜。本發(fā)明的光擴(kuò)散粉制備方法為：烷氧基硅烷在酸性條件或堿性條件下進(jìn)行共水解縮合反應(yīng)，得到光擴(kuò)散粉。本發(fā)明還公開了由所述光擴(kuò)散粉制成的量子點光刻膠及量子點彩膜。所述光擴(kuò)散粉具有有機(jī)鏈段結(jié)構(gòu)和無機(jī)結(jié)構(gòu)，與量子點光刻膠體系中的各種組分相容性較好，具有較好的分散效果，增加了光刻膠的均勻性。由該量子點光刻膠制成的量子點彩膜膜質(zhì)均勻，光利用率高。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及光擴(kuò)散粉、光擴(kuò)散粉的制備方法、量子點光刻膠及量子點彩膜。

背景技術(shù)

傳統(tǒng)液晶顯示裝置的背光源為白色背光，為了實現(xiàn)彩色顯示，一般在彩膜基板側(cè)設(shè)置彩色濾光層。然而，由于在光傳輸過程中會損失近70％的背光亮度，因此，彩色濾光層成為背光亮度損耗最嚴(yán)重的器件之一。近年來量子點發(fā)光二極管由于良好的發(fā)光特性和較高的色域，在顯示領(lǐng)域受到很大的青睞。量子點發(fā)光二極管具有與聚合物發(fā)光二極管類似的器件結(jié)構(gòu)，但是其發(fā)光層是由量子點彩膜構(gòu)成。

量子點彩膜技術(shù)是用量子點代替?zhèn)鹘y(tǒng)顏料分散在光刻膠中制備彩色轉(zhuǎn)化膜，但是量子點容易發(fā)生團(tuán)聚，甚至發(fā)生淬滅，成本高，發(fā)光效率較低。另外因為彩膜厚度不高，導(dǎo)致藍(lán)光照射進(jìn)入時大量藍(lán)光浪費從而出射，所以激發(fā)紅光和綠光的效率降低，出光效率和亮度都會降低。圖1為現(xiàn)有普通量子點光刻膠制成的量子點彩膜的結(jié)構(gòu)示意圖，圖1中，1表示量子點。藍(lán)色入射光部分因照射不到量子點而通過光刻膠出射，不僅浪費了藍(lán)色，造成了混色，也使紅色或綠色的量子點彩膜發(fā)光效率降低。為了改善量子點彩膜的該種缺陷，研究人員通常將光擴(kuò)散粉加入到光刻膠中。包含有光擴(kuò)散粉和量子點的光刻膠經(jīng)過成膜，制備得到量子點彩膜。該種量子點彩膜將入射的藍(lán)色光進(jìn)行多次折射，達(dá)到多次有效利用的效果，由此提高量子點彩膜的發(fā)光和轉(zhuǎn)換效率。

目前，光擴(kuò)散粉包括無機(jī)光擴(kuò)散粉(如：二氧化硅)和有機(jī)光擴(kuò)散粉。其中，二氧化硅作為光擴(kuò)散粉，在光刻膠中的分散性較差，影響量子點彩膜的平整性和pattern化，降低了光轉(zhuǎn)換效率，有機(jī)光擴(kuò)散粉與體系折射率相似，光擴(kuò)散效果不好。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種光擴(kuò)散粉、光擴(kuò)散粉的制備方法、量子點光刻膠及量子點彩膜，所述光擴(kuò)散粉與量子點光刻膠體系的相容性好，分散效果佳，提高了光利用效率。

本發(fā)明公開了一種光擴(kuò)散粉的制備方法，包括以下步驟：

烷氧基硅烷在酸性條件或堿性條件下進(jìn)行共水解縮合反應(yīng)，得到光擴(kuò)散粉；所述烷氧基硅烷具有式I結(jié)構(gòu)：

其中R1為C1～C50烷基；R’為烷基或取代烷基。

優(yōu)選的，所述水解縮合反應(yīng)具體為：

將烷氧基硅烷溶于有機(jī)溶劑中，加入酸溶液或堿溶液加熱反應(yīng)，減壓加熱固化后得到固化物；

將所述固化物依次洗滌，得到光擴(kuò)散粉。

優(yōu)選的，還包括：所述R’基團(tuán)具有不飽和鍵，在所述水解縮合反應(yīng)前，對烷基硅氧烷的R’基團(tuán)進(jìn)行修飾，所述修飾的方法為：將烷氧基硅烷與帶有不飽和鍵的有機(jī)物反應(yīng)，所述R’基團(tuán)的不飽和鍵之間通過斷裂、再連接，形成聚合物鏈。

優(yōu)選的，所述烷氧基硅烷為甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷，利用甲基丙烯酸酯與所述甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷進(jìn)行反應(yīng)。

優(yōu)選的，所述烷氧基硅烷為正辛基三乙氧基硅烷、正十八烷基三乙氧基硅烷、(3-環(huán)氧丙氧基丙基)三乙氧基硅烷、芐基三乙氧基硅烷或甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷。

優(yōu)選的，所述R’如以下結(jié)構(gòu)所示：