[發(fā)明專利]單槽雙閃耀角光柵制備方法

在審

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• 申請日: 2016-04-25
• 公開（公告）號: CN105700052A
• 公開（公告）日: 2016-06-22
• 發(fā)明（設計）人: 黃元申;董成成;盛斌;孫樂;倪爭技;周紅艷;張大偉
• 申請（專利權(quán)）人: 上海理工大學
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18
• 代理公司: 上海申匯專利代理有限公司 31001
• 代理人: 吳寶根

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及光學器件技術(shù)，特別是涉及一種單槽雙閃耀角光柵制備方法的技術(shù)。

背景技術(shù)

光譜儀器是測量、分析和處理物質(zhì)結(jié)構(gòu)和成分的基本設備，按光譜范圍可分為真空紫外光譜儀、紫外－近紅外光譜儀和紅外光譜儀。光譜儀主要由光源、分光系統(tǒng)和接收系統(tǒng)三部分組成。其中分光系統(tǒng)是光譜儀器的主體，而衍射光柵是分光系統(tǒng)的核心部分，它使復色光發(fā)生空間分離形成光譜。因此，光譜技術(shù)的進步及發(fā)展與光柵制造技術(shù)水平息息相關(guān)。

現(xiàn)有的光柵都只具有一個閃耀角，只能用于檢測被測產(chǎn)品中的一種物質(zhì)的特征光譜，如果要檢測被測產(chǎn)品中的兩種物質(zhì)的特征光譜，則需要在光譜儀器中設置兩個單閃耀角柵，但是光譜儀器的結(jié)構(gòu)也會隨之變得復雜，設備成本也會相應提高。

發(fā)明內(nèi)容

針對上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷，本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種能簡化光譜儀器結(jié)構(gòu)，降低光譜儀器成本的單槽雙閃耀角光柵制備方法。

為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明所提供的一種單槽雙閃耀角光柵制備方法，其特征在于，具體步驟如下：

1）獲取被測產(chǎn)品中的兩種被測物質(zhì)的特征光譜，并計算出該兩種被測物質(zhì)的特征光譜的光柵閃耀角度；

2）根據(jù)步驟1的計算結(jié)果，在用于刻制光柵的金剛石刻刀的刀刃上研磨出兩種被測物質(zhì)的特征光譜的光柵閃耀角；

3）利用步驟2研磨所得的金剛石刻刀及光柵機械刻劃機，將鍍有反射膜的光柵基片刻制成單槽雙閃耀角光柵。

進一步的，所述步驟2中，研磨出的金剛石刻刀的刀刃上的兩個光柵閃耀角的對向側(cè)的棱相互平行。

本發(fā)明提供的單槽雙閃耀角光柵制備方法，在一個光柵上具有兩個閃耀角，因此在使用波段范圍內(nèi)具有兩個閃耀波長，光柵的光譜相對更寬，能簡化光譜儀器的結(jié)構(gòu)，同時也能降低光譜儀器的體積、成本。

附圖說明

圖1是本發(fā)明實施例的單槽雙閃耀角光柵制備方法所刻制的單槽雙閃耀角光柵的槽型結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2、圖3是本發(fā)明實施例的單槽雙閃耀角光柵制備方法中，在金剛石刻刀的刀刃上研磨出的兩個光柵閃耀角的示意圖。

具體實施方式

以下結(jié)合附圖說明對本發(fā)明的實施例作進一步詳細描述，但本實施例并不用于限制本發(fā)明，凡是采用本發(fā)明的相似結(jié)構(gòu)及其相似變化，均應列入本發(fā)明的保護范圍，本發(fā)明中的頓號均表示和的關(guān)系。

如圖2、圖3所示，本發(fā)明實施例所提供的一種單槽雙閃耀角光柵制備方法，其特征在于，具體步驟如下：

1）獲取被測產(chǎn)品中的兩種被測物質(zhì)的特征光譜，并計算出該兩種被測物質(zhì)的特征光譜的光柵閃耀角度；

2）根據(jù)步驟1的計算結(jié)果，在用于刻制光柵的金剛石刻刀4的刀刃上研磨出兩種被測物質(zhì)的特征光譜的光柵閃耀角41、42，并使得金剛石刻刀4的刀刃上的兩個光柵閃耀角41、42的對向側(cè)的棱411、421相互平行，以增加金剛石刻刀的使用壽命；

由于金剛石屬于各向異性晶體，不同方向的耐磨度也極為不同，所以在研磨金剛石刻刀時應使金剛石刻刀的刀刃方向定在金剛石硬度最大的方向上；

3）利用步驟2研磨所得的金剛石刻刀及光柵機械刻劃機，將鍍有反射膜的光柵基片刻制成單槽雙閃耀角光柵。

如圖1所示，本發(fā)明實施例的方法所刻制的單槽雙閃耀角光柵，具有第一閃耀面1、第二閃耀面2、非閃耀面3，因此在使用波段范圍內(nèi)具有兩個閃耀波長。