[發(fā)明專利]單槽雙閃耀角光柵制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610258772.4 | 申請日： | 2016-04-25 |
| 公開（公告）號： | CN105700052A | 公開（公告）日： | 2016-06-22 |
| 發(fā)明（設計）人： | 黃元申;董成成;盛斌;孫樂;倪爭技;周紅艷;張大偉 | 申請（專利權）人： | 上海理工大學 |
| 主分類號： | G02B5/18 | 分類號： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 上海申匯專利代理有限公司 31001 | 代理人： | 吳寶根 |
| 地址： | 200093 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 單槽雙 閃耀 光柵 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種單槽雙閃耀角光柵制備方法，其特征在于，具體步驟如下：
1）獲取被測產(chǎn)品中的兩種被測物質的特征光譜，并計算出該兩種被測物質的特征光譜的光柵閃耀角度；
2）根據(jù)步驟1的計算結果，在用于刻制光柵的金剛石刻刀的刀刃上研磨出兩種被測物質的特征光譜的光柵閃耀角；
3）利用步驟2研磨所得的金剛石刻刀及光柵機械刻劃機，將鍍有反射膜的光柵基片刻制成單槽雙閃耀角光柵。
2.根據(jù)權利要求1所述的單槽雙閃耀角光柵制備方法，其特征在于：所述步驟2中，研磨出的金剛石刻刀的刀刃上的兩個光柵閃耀角的對向側的棱相互平行。
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