[發明專利]三維石墨烯之直接制備方法及其在超級電容器上之應用在審
| 申請號: | 201610252741.8 | 申請日: | 2016-04-22 |
| 公開(公告)號: | CN107304046A | 公開(公告)日: | 2017-10-31 |
| 發明(設計)人: | 占華琳 | 申請(專利權)人: | 占華琳 |
| 主分類號: | C01B32/186 | 分類號: | C01B32/186 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 334300 江西省上饒市橫峰*** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 三維 石墨 直接 制備 方法 及其 超級 電容器 應用 | ||
1.一種制備三維石墨烯的方法,其原理包括(1)使用具有納米結構的介電材料(如多孔三氧化二鋁等)或半導體材料(如納米硅粉末或納米金剛石粉末等)作為基材,(2)在基材上生長三維類金剛石膜或三維無定形碳膜(包括納米管),(3)將在基材上生長的三維類金剛石膜或三維無定形碳膜(包括納米管)等在同一生長工序中(或在下一道工序中)加熱至1000至2000℃之間后退火,原理(3)為此制備方法之特征。
2.權利要求1所述的原理(2)和原理(3)可使用等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)或離子束沉積(IBD)在同一工序中實現,PECVD及IBD之工藝分別如說明書第[0009]及第[0010]段所述,其特征為主動控制基材溫度在1000至2000℃之間。
3.權利要求2所述的主動控制基材溫度的方法,可通過(4)控制基材位置使其不直接接觸PECVD或IBD器壁而增加其溫度,(5)在基材與PECVD或IBD器壁間放置其它材料而增加基材溫度,(6)使用輔助加熱手段(如電熱絲加熱等)增加基材溫度。
4.權利要求1所述之原理(3)可在與實現原理(2)不同的工序中進行,其特征為在真空或含有氫氣的混合氣環境中將通過原理(2)所制得的材料加熱至1000至2000℃之間后退火。
5.將聚苯胺(Polyaniline)附著于按權利要求1所述之方法制備的三維石墨烯,并將此材料作為超級電容器之電極。
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