[發(fā)明專利]基板處理裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610252093.6 | 申請日: | 2016-04-21 |
| 公開(公告)號: | CN105679698B | 公開(公告)日: | 2018-09-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 彭偉剛;周偉;謝呈男;楊玉;林己燮;袁晨 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;張?zhí)焓?/td> |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 處理 裝置 | ||
1.一種基板處理裝置,包括處理腔和基板感知組件,其特征在于,所述基板處理裝置還包括:
轉(zhuǎn)動軸,所述轉(zhuǎn)動軸的一部分設(shè)置在所述處理腔內(nèi),且所述轉(zhuǎn)動軸的兩個端部中的至少一個延伸至所述處理腔外部,所述基板感知組件設(shè)置在所述轉(zhuǎn)動軸上,且位于所述處理腔的外部;和
驅(qū)動組件,所述驅(qū)動組件固定在所述轉(zhuǎn)動軸位于所述處理腔內(nèi)的部分上;
所述驅(qū)動組件能夠在接觸到待處理的基板時帶動所述轉(zhuǎn)動軸繞自身軸線沿第一方向轉(zhuǎn)動,且當(dāng)所述轉(zhuǎn)動軸沿所述第一方向轉(zhuǎn)過預(yù)定角度時,所述基板感知組件能夠發(fā)出判定所述基板進入所述處理腔的第一感知信號;
所述驅(qū)動組件能夠在基板離開所述驅(qū)動組件時帶動所述轉(zhuǎn)動軸繞自身軸線沿與所述第一方向相反的第二方向轉(zhuǎn)動,且當(dāng)所述轉(zhuǎn)動軸沿所述第二方向轉(zhuǎn)過所述預(yù)定角度時,所述基板感知組件停止發(fā)出所述第一感知信號。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置,其特征在于,所述基板感知組件包括基板感知傳感器和感應(yīng)片,所述基板感知傳感器和所述感應(yīng)片中的一者安裝在所述轉(zhuǎn)動軸上,所述基板感知傳感器和所述感應(yīng)片中的另一者相對于所述處理腔靜止設(shè)置;
當(dāng)所述轉(zhuǎn)動軸沿所述第一方向轉(zhuǎn)過所述預(yù)定角度時,所述基板感知傳感器和所述感應(yīng)片互相接近至所述感應(yīng)片進入所述基板感知傳感器的感知范圍,且所述基板感知傳感器發(fā)出所述第一感知信號;
當(dāng)所述轉(zhuǎn)動軸沿所述第二方向轉(zhuǎn)過所述預(yù)定角度時,所述基板感知傳感器和所述感應(yīng)片互相遠離至所述感應(yīng)片離開所述基板感知傳感器的感知范圍,并且所述基板感知傳感器停止發(fā)出所述第一感知信號。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置,其特征在于,所述基板感知組件還包括安裝架,所述安裝架相對于所述處理腔靜止設(shè)置,所述基板感知傳感器和所述感應(yīng)片中相對于所述處理腔靜止的一者固定設(shè)置在所述安裝架上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板處理裝置,其特征在于,所述基板感知傳感器設(shè)置在所述安裝架上,所述感應(yīng)片設(shè)置在所述轉(zhuǎn)動軸上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板處理裝置,其特征在于,所述基板處理裝置還把包括初始位置感應(yīng)傳感器,所述初始位置感應(yīng)傳感器設(shè)置在所述安裝架上,且所述初始位置感應(yīng)傳感器與所述基板感知傳感器分別位于所述感應(yīng)片的運動軌跡的兩端,當(dāng)所述驅(qū)動組件與所述基板脫離接觸時,所述驅(qū)動組件將所述轉(zhuǎn)動軸固定在使得所述感應(yīng)片位于所述初始位置感應(yīng)傳感器的感知范圍內(nèi)的初始位置,且當(dāng)所述感應(yīng)片位于所述初始位置傳感器的感知范圍內(nèi)時,所述初始位置傳感器能夠發(fā)出第二感知信號。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板處理裝置,其特征在于,所述基板感知傳感器包括第一凹槽,所述初始位置傳感器包括第二凹槽,所述感應(yīng)片的一端能夠進入所述第一凹槽,所述感應(yīng)片的另一端能夠進入所述第二凹槽。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板處理裝置,其特征在于,所述感應(yīng)片形成為扇環(huán)形,所述基板處理裝置還包括支撐桿,所述支撐桿的一端固定設(shè)置在所述轉(zhuǎn)動軸上,所述感應(yīng)片固定設(shè)置在所述支撐桿的另一端,且所述支撐桿的延長線穿過所述轉(zhuǎn)動軸的軸線,所述感應(yīng)片的圓心位于所述支撐桿上。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任意一項所述的基板處理裝置,其特征在于,所述驅(qū)動組件包括固定在所述轉(zhuǎn)動軸上的杠桿、設(shè)置在所述杠桿一端的配重和設(shè)置在所述杠桿的另一端的接觸件,所述杠桿用于當(dāng)所述接觸件與所述基板接觸時,隨所述轉(zhuǎn)動軸繞該轉(zhuǎn)動軸的軸線轉(zhuǎn)動;
所述基板處理裝置還包括位于處理腔內(nèi)并設(shè)置在所述杠桿下方的配重止擋件,所述配重止擋件用于當(dāng)所述接觸件不與所述基板接觸時,止擋所述杠桿設(shè)置有配重的一端運動。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基板處理裝置,其特征在于,所述配重到所述杠桿與所述轉(zhuǎn)動軸相連處的距離小于所述杠桿的另一端到所述杠桿與所述轉(zhuǎn)動軸相連處的距離。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基板處理裝置,其特征在于,所述接觸件包括滾輪,所述滾輪能在所述基板接觸所述滾輪外表面并將所述杠桿壓下時滾動。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





