[發(fā)明專利]取向膜涂覆檢測方法及檢測設備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610236589.4 | 申請日: | 2016-04-15 |
| 公開(公告)號: | CN105652486B | 公開(公告)日: | 2019-07-09 |
| 發(fā)明(設計)人: | 徐長健;馬國靖;任錦宇;陸順沙 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/13 | 分類號: | G02F1/13 |
| 代理公司: | 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 取向 膜涂覆 檢測 方法 設備 | ||
本發(fā)明提供了一種取向膜涂覆檢測方法及檢測設備,涉及顯示技術領域,用于提高檢測取向膜涂覆效果的精準度。其中所述取向膜涂覆檢測方法包括:讀取待檢測基板上的取向膜的圖形;獲取所述取向膜的圖形,并在將所述取向膜的圖形與儲存的所述待檢測基板的顯示區(qū)域的圖形對位后,測量所述取向膜的圖形的邊緣與所述顯示區(qū)域的圖形的邊緣之間的距離。本發(fā)明提供的取向膜涂覆檢測方法及檢測設備用于檢測取向膜涂覆的效果。
技術領域
本發(fā)明涉及顯示技術領域,尤其涉及一種取向膜涂覆檢測方法及檢測設備。
背景技術
制備液晶顯示面板過程中的成盒工藝為:對盒陣列基板和彩膜基板,在陣列基板和彩膜基板之間注入液晶,形成液晶層。其中,在形成液晶層之前,需先在陣列基板和彩膜基板上分別形成取向膜,從而在陣列基板和彩膜基板之間注入液晶時,注入的液晶分子能夠根據(jù)取向膜沿一定的方向排列,使得液晶顯示面板所顯示的畫面具有均勻的亮度和高的對比度。
實際操作中,通常采用將取向膜的形成溶液涂覆在基板(陣列基板和彩膜基板)上的方法,來形成取向膜,因溶液的狀態(tài)難以控制,因此形成的取向膜的邊緣會出現(xiàn)厚度不均的現(xiàn)象,為了使基板的顯示區(qū)域上的取向膜厚度一致,需要確保形成的取向膜的邊緣在基板的顯示區(qū)域的邊緣外,且取向膜的邊緣與基板的顯示區(qū)域的邊緣之間的距離大于預設距離(如0.1mm),從而使得取向膜的有效區(qū)域的膜厚均勻。
較常用的檢測方法是:將涂覆有取向膜的基板放置在顯微鏡下,并通過人為地移動鏡頭,來采集取向膜的圖像并上傳至顯示屏上,從而工作人員根據(jù)顯示屏上所顯示的圖像來測量取向膜邊緣與基板顯示區(qū)域邊緣之間的距離。不足的是,上述檢測方法主要采用人工手動進行檢測,檢測結(jié)果不精準。
發(fā)明內(nèi)容
為克服上述現(xiàn)有技術中的缺陷,本發(fā)明提供一種取向膜涂覆檢測設備及取向膜涂覆檢測方法,以提高檢測取向膜涂覆效果的精準度。
為了達到上述目的,本發(fā)明提供如下技術方案:
一方面,本發(fā)明提供了一種取向膜涂覆檢測方法,包括:讀取待檢測基板上的取向膜的圖形;獲取所述取向膜的圖形,并在將所述取向膜的圖形與儲存的所述待檢測基板的顯示區(qū)域的圖形對位后,測量所述取向膜的圖形的邊緣與所述顯示區(qū)域的圖形的邊緣之間的距離。
本發(fā)明提供的取向膜涂覆檢測方法中,通過讀取涂覆在待檢測基板上的取向膜的圖形,獲取取向膜的圖形,同時儲存待檢測基板具有的顯示區(qū)域的圖形,從而在獲取取向膜的圖形后,將獲取的取向膜的圖形與顯示區(qū)域的圖形進行對位處理,以使顯示區(qū)域的圖形與取向膜的圖形中對應的基板顯示區(qū)域重合,進而開始測量取向膜的圖形的邊緣與顯示區(qū)域的圖形的邊緣之間的距離,測量得到的數(shù)據(jù)即為檢測到的待檢測基板上的取向膜的邊緣與顯示區(qū)域的邊緣之間的距離,根據(jù)該檢測結(jié)果能夠判斷待檢測基板上的取向膜是否符合要求。因此可以看出,與通過人工手動進行檢測的方法相比,上述取向膜涂覆檢測方法可以精確地測量出待檢測基板上取向膜邊緣與顯示區(qū)域邊緣之間的距離,從而提高了檢測取向膜涂覆效果的精準度。
另一方面,本發(fā)明還提供了一種取向膜涂覆檢測設備,包括:讀取裝置,所述讀取裝置用于讀取待檢測基板上的取向膜的圖形;與所述讀取裝置信號連接的處理裝置,所述處理裝置內(nèi)儲存有所述待檢測基板的顯示區(qū)域的圖形,所述處理裝置用于獲取所述取向膜的圖形,并在將所述取向膜的圖形與所述顯示區(qū)域的圖形對位后,測量所述取向膜的圖形的邊緣與所述顯示區(qū)域的圖形的邊緣之間的距離。
本發(fā)明所提供的取向膜涂覆檢測設備的有益效果與上述取向膜涂覆檢測方法的有益效果相同,在此不再贅述。
附圖說明
此處所說明的附圖用來提供對本發(fā)明的進一步理解,構(gòu)成本發(fā)明的一部分,本發(fā)明的示意性實施例及其說明用于解釋本發(fā)明,并不構(gòu)成對本發(fā)明的不當限定。在附圖中:
圖1為本發(fā)明實施例一中的取向膜涂覆檢測方法的流程圖;
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G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
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G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
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G02F1-365 ..在光波導結(jié)構(gòu)中的





