[發(fā)明專利]取向膜涂覆檢測(cè)方法及檢測(cè)設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610236589.4 | 申請(qǐng)日: | 2016-04-15 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN105652486B | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-07-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐長(zhǎng)健;馬國(guó)靖;任錦宇;陸順沙 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/13 | 分類號(hào): | G02F1/13 |
| 代理公司: | 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 取向 膜涂覆 檢測(cè) 方法 設(shè)備 | ||
1.一種取向膜涂覆檢測(cè)方法,其特征在于,包括:
讀取待檢測(cè)基板上的取向膜的圖形;
獲取所述取向膜的圖形,并在將所述取向膜的圖形與儲(chǔ)存的所述待檢測(cè)基板的顯示區(qū)域的圖形對(duì)位后,測(cè)量所述取向膜的圖形的邊緣與所述顯示區(qū)域的圖形的邊緣之間的距離;
所述讀取待檢測(cè)基板上的取向膜的圖形的步驟包括:
對(duì)所述待檢測(cè)基板進(jìn)行加熱;
檢測(cè)所述待檢測(cè)基板上的取向膜所在區(qū)域和取向膜以外區(qū)域的溫度差異,并根據(jù)所述溫度差異生成所述待檢測(cè)基板上的取向膜的圖形。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向膜涂覆檢測(cè)方法,其特征在于,所述讀取待檢測(cè)基板上的取向膜的圖形的步驟還包括:
讀取第一基準(zhǔn)點(diǎn)的位置信息;
所述獲取所述取向膜的圖形,并在將所述取向膜的圖形與儲(chǔ)存的所述待檢測(cè)基板的顯示區(qū)域的圖形對(duì)位后,測(cè)量所述取向膜的圖形的邊緣與所述顯示區(qū)域的圖形的邊緣之間的距離的步驟包括:
儲(chǔ)存所述待檢測(cè)基板的顯示區(qū)域的圖形和第二基準(zhǔn)點(diǎn)的位置信息;
獲取所述取向膜的圖形和所述第一基準(zhǔn)點(diǎn)的位置信息,并將所述第一基準(zhǔn)點(diǎn)與所述第二基準(zhǔn)點(diǎn)對(duì)準(zhǔn),以將所述取向膜的圖形與所述顯示區(qū)域的圖形對(duì)位;
在所述取向膜的圖形與所述顯示區(qū)域的圖形對(duì)位后,測(cè)量所述取向膜的圖形的邊緣與所述顯示區(qū)域的圖形的邊緣之間的距離;
其中,所述第一基準(zhǔn)點(diǎn)和所述第二基準(zhǔn)點(diǎn)為所述待檢測(cè)基板上的同一位置點(diǎn),當(dāng)該位置點(diǎn)對(duì)應(yīng)在所在基板的取向膜的圖形上時(shí),稱為第一基準(zhǔn)點(diǎn),當(dāng)該位置點(diǎn)對(duì)應(yīng)在所在基板的顯示區(qū)域的圖形上時(shí),稱為第二基準(zhǔn)點(diǎn)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1~2任一項(xiàng)所述的取向膜涂覆檢測(cè)方法,其特征在于,所述取向膜涂覆檢測(cè)方法還包括:
接收測(cè)量的所述取向膜的圖形的邊緣上的各點(diǎn)到所述顯示區(qū)域的圖形的邊緣上的對(duì)應(yīng)點(diǎn)的距離數(shù)據(jù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的取向膜涂覆檢測(cè)方法,其特征在于,所述接收測(cè)量的所述取向膜的圖形的邊緣上的各點(diǎn)到所述顯示區(qū)域的圖形的邊緣上的對(duì)應(yīng)點(diǎn)的距離數(shù)據(jù)的步驟包括:
顯示所述取向膜的圖形的邊緣上的各點(diǎn)到所述顯示區(qū)域的圖形的邊緣上的對(duì)應(yīng)點(diǎn)的距離數(shù)據(jù)。
5.一種取向膜涂覆檢測(cè)設(shè)備,其特征在于,包括:
讀取裝置,所述讀取裝置用于讀取待檢測(cè)基板上的取向膜的圖形;
與所述讀取裝置信號(hào)連接的處理裝置,所述處理裝置內(nèi)儲(chǔ)存有所述待檢測(cè)基板的顯示區(qū)域的圖形,所述處理裝置用于獲取所述取向膜的圖形,并在將所述取向膜的圖形與所述顯示區(qū)域的圖形對(duì)位后,測(cè)量所述取向膜的圖形的邊緣與所述顯示區(qū)域的圖形的邊緣之間的距離;
所述讀取裝置包括:
基臺(tái),所述基臺(tái)用于承載所述待檢測(cè)基板;
設(shè)置于所述基臺(tái)內(nèi)的加熱單元,所述加熱單元用于對(duì)放置在所述基臺(tái)上的待檢測(cè)基板進(jìn)行加熱;
熱感應(yīng)器,所述熱感應(yīng)器用于檢測(cè)所述待檢測(cè)基板上的取向膜所在區(qū)域和取向膜以外區(qū)域的溫度差異,并根據(jù)所述溫度差異生成所述待檢測(cè)基板上的取向膜的圖形。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的取向膜涂覆檢測(cè)設(shè)備,其特征在于,所述讀取裝置還包括位置讀取單元,所述位置讀取單元用于讀取第一基準(zhǔn)點(diǎn)的位置信息;
所述處理裝置包括:
存儲(chǔ)單元,所述存儲(chǔ)單元用于儲(chǔ)存所述待檢測(cè)基板的顯示區(qū)域的圖形和第二基準(zhǔn)點(diǎn)的位置信息;
與所述存儲(chǔ)單元、所述熱感應(yīng)器和所述位置讀取單元均連接的對(duì)位單元,所述對(duì)位單元用于獲取所述取向膜的圖形和所述第一基準(zhǔn)點(diǎn)的位置信息,并將所述第一基準(zhǔn)點(diǎn)與所述第二基準(zhǔn)點(diǎn)對(duì)準(zhǔn),以將所述取向膜的圖形與所述顯示區(qū)域的圖形對(duì)位;
與所述對(duì)位單元連接的測(cè)量單元,所述測(cè)量單元用于在所述取向膜的圖形與所述顯示區(qū)域的圖形對(duì)位后,測(cè)量所述取向膜的圖形的邊緣與所述顯示區(qū)域的圖形的邊緣之間的距離;
其中,所述第一基準(zhǔn)點(diǎn)和所述第二基準(zhǔn)點(diǎn)為所述待檢測(cè)基板上的同一位置點(diǎn),當(dāng)該位置點(diǎn)對(duì)應(yīng)在所在基板的取向膜的圖形上時(shí),稱為第一基準(zhǔn)點(diǎn),當(dāng)該位置點(diǎn)對(duì)應(yīng)在所在基板的顯示區(qū)域的圖形上時(shí),稱為第二基準(zhǔn)點(diǎn)。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
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