[發明專利]一種顯示基板及其制作方法有效
| 申請號: | 201610232507.9 | 申請日: | 2016-04-14 |
| 公開(公告)號: | CN105789118B | 公開(公告)日: | 2019-03-22 |
| 發明(設計)人: | 關峰;曹占鋒;姚琪 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/77 | 分類號: | H01L21/77;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243 | 代理人: | 許靜;黃燦 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 顯示 及其 制作方法 | ||
本發明提供一種顯示基板及其制作方法,其中,所述制作方法包括:提供基板和金屬線柵偏振器WGP壓印模板,所述基板上具有處于非像素區的對位標記,在所述基板上形成金屬膜層,通過識別所述對位標記,利用所述WGP壓印模板在所述金屬膜層上形成多個光柵區,其中,所述WGP壓印模板的一次壓印形成一個所述光柵區,相鄰的光柵區的拼接位置位于非像素區。本發明的方案,能夠通過識別處于非像素區的對位標記,在基板的金屬膜層上形成光柵區,使得相鄰的光柵區的拼接位置位于非像素區,從而保證拼接精度,避免拼接后的光柵出現缺陷而影響后續的顯示內容。
技術領域
本發明涉及顯示技術領域,特別是涉及一種顯示基板及其制作方法。
背景技術
金屬線柵偏振器(Wire Grid Polarizer,簡稱WGP)是由平行的金屬線條構成,所述金屬線條的截面為納米尺度,長度為宏觀量級,能夠進行偏光。為了降低器件厚度,現有液晶顯示器件可以利用集成于基板的金屬線柵,替換額外貼合于基板的偏振片,以提高產品性能。
具體的,金屬線柵的制備需要采用高精度的光刻技術或納米壓印技術,但這些技術很難制備具有完整金屬線柵的大尺寸的WGP基板。為了在大尺寸基板上制備WGP,通常采用拼接技術形成金屬線柵,但現有的拼接技術難以保證拼接精度,使得拼接后的金屬線柵常存在缺陷,例如金屬線柵的拼接縫可能位于像素區,影響后續的顯示內容,無法滿足應用要求。
發明內容
本發明的目的在于提供一種顯示基板及其制作方法,以解決現有的大尺寸基板上的拼接后的金屬線柵常存在缺陷的技術問題。
為了實現上述的目的,本發明提供一種顯示基板的制作方法,包括:
提供基板和金屬線柵偏振器WGP壓印模板,所述基板上具有處于非像素區的對位標記,所述基板的顯示區域的尺寸大于所述WGP壓印模板的尺寸;
在所述基板上形成金屬膜層;
通過識別所述對位標記,利用所述WGP壓印模板在所述金屬膜層上形成多個光柵區,其中,所述WGP壓印模板的一次壓印形成一個所述光柵區,相鄰的光柵區的拼接位置位于非像素區。
優選的,當利用多個所述WGP壓印模板同時在所述金屬膜層上形成光柵區時,所述WGP壓印模板之間的拼接縫的位置與所述非像素區的位置對應,且寬度小于或等于對應的非像素區的寬度。
優選的,所述光柵區包括多個間隔設置的光柵單元和與每個所述光柵單元對應的第一對位標記,所述制作方法還包括:
通過識別所述第一對位標記,在所述基板的與每個所述光柵單元對應的區域上形成像素電極,形成具有所述光柵區的陣列基板。
優選的,第一對位標記用于限定柵線所在的區域。
優選的,所述光柵區包括多個間隔設置的光柵單元和與每個所述光柵單元對應的第二對位標記,所述制作方法還包括:
通過識別所述第二對位標記,在所述基板的與每個所述光柵單元對應的區域上形成彩色濾光層的圖形,形成具有所述光柵區的彩膜基板。
優選的,所述第二對位標記用于限定所述彩色濾光層的圖形之間的區域。
優選的,所述光柵單元之間設置有黑矩陣,所述黑矩陣和所述光柵單元同層同材料設置。
優選的,所述利用所述WGP壓印模板在所述金屬膜層上形成多個光柵區的步驟包括:
在所述金屬膜層上形成光刻膠;
采用所述WGP壓印模板對所述光刻膠進行壓印,形成光柵結構的光刻膠圖形;
采用干刻工藝對未被所述光刻膠覆蓋的金屬膜層進行刻蝕,形成所述多個光柵區。
優選的,所述金屬膜層為鋁金屬膜層。
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H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





