[發(fā)明專利]一種顯示基板及其制作方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610232507.9
• 申請日: 2016-04-14
• 公開（公告）號: CN105789118B
• 公開（公告）日: 2019-03-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 關(guān)峰;曹占鋒;姚琪
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號: H01L21/77
• 分類號: H01L21/77;G02F1/1333
• 代理公司: 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;黃燦

1.一種顯示基板的制作方法，其特征在于，包括：

提供基板和金屬線柵偏振器WGP壓印模板，所述基板上具有處于非像素區(qū)的對位標(biāo)記，所述基板的顯示區(qū)域的尺寸大于所述WGP壓印模板的尺寸；

在所述基板上形成金屬膜層；

通過識別所述對位標(biāo)記，利用所述WGP壓印模板在所述金屬膜層上形成多個(gè)光柵區(qū)，其中，所述WGP壓印模板的一次壓印形成一個(gè)所述光柵區(qū)，相鄰的光柵區(qū)的拼接位置位于非像素區(qū)；

其中，所述光柵區(qū)包括多個(gè)間隔設(shè)置的光柵單元，以及與每個(gè)所述光柵單元對應(yīng)的第一對位標(biāo)記和/或第二對位標(biāo)記，所述制作方法還包括：

通過識別所述第一對位標(biāo)記，在所述基板的與每個(gè)所述光柵單元對應(yīng)的區(qū)域上形成像素電極，形成具有所述光柵區(qū)的陣列基板；

或者，

通過識別所述第二對位標(biāo)記，在所述基板的與每個(gè)所述光柵單元對應(yīng)的區(qū)域上形成彩色濾光層的圖形，形成具有所述光柵區(qū)的彩膜基板。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法，其特征在于，當(dāng)利用多個(gè)所述WGP壓印模板同時(shí)在所述金屬膜層上形成光柵區(qū)時(shí)，所述WGP壓印模板之間的拼接縫的位置與所述非像素區(qū)的位置對應(yīng)，且寬度小于或等于對應(yīng)的非像素區(qū)的寬度。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法，其特征在于，第一對位標(biāo)記用于限定柵線所在的區(qū)域。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述第二對位標(biāo)記用于限定所述彩色濾光層的圖形之間的區(qū)域。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述光柵單元之間設(shè)置有黑矩陣，所述黑矩陣和所述光柵單元同層同材料設(shè)置。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述利用所述WGP壓印模板在所述金屬膜層上形成多個(gè)光柵區(qū)的步驟包括：

在所述金屬膜層上形成光刻膠；

采用所述WGP壓印模板對所述光刻膠進(jìn)行壓印，形成光柵結(jié)構(gòu)的光刻膠圖形；

采用干刻工藝對未被所述光刻膠覆蓋的金屬膜層進(jìn)行刻蝕，形成所述多個(gè)光柵區(qū)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述金屬膜層為鋁金屬膜層。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述鋁金屬膜層的厚度為50-400nm。

9.一種顯示基板，其特征在于，所述顯示基板包括：

基板，所述基板上具有處于非像素區(qū)的對位標(biāo)記；

由金屬膜層形成的光柵結(jié)構(gòu)，所述光柵結(jié)構(gòu)具有多個(gè)光柵區(qū)；

其中，所述光柵區(qū)是通過識別所述對位標(biāo)記，利用WGP壓印模板在所述金屬膜層上形成，所述WGP壓印模板的一次壓印形成一個(gè)所述光柵區(qū)，相鄰的光柵區(qū)的拼接位置位于非像素區(qū)；

所述光柵區(qū)包括多個(gè)間隔設(shè)置的光柵單元，以及與每個(gè)所述光柵單元對應(yīng)的第一對位標(biāo)記和/或第二對位標(biāo)記，所述顯示基板還包括：

像素電極，所述像素電極是通過識別所述第一對位標(biāo)記，在所述基板的與每個(gè)所述光柵單元對應(yīng)的區(qū)域上形成；

或者，

彩色濾光層，所述彩色濾光層的圖形是通過識別所述第二對位標(biāo)記，在所述基板的與每個(gè)所述光柵單元對應(yīng)的區(qū)域上形成。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示基板，其特征在于，所述光柵單元之間設(shè)置有黑矩陣，所述黑矩陣和所述光柵單元同層同材料設(shè)置。