[發明專利]一種顯示基板及其制作方法有效
| 申請號: | 201610232507.9 | 申請日: | 2016-04-14 |
| 公開(公告)號: | CN105789118B | 公開(公告)日: | 2019-03-22 |
| 發明(設計)人: | 關峰;曹占鋒;姚琪 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/77 | 分類號: | H01L21/77;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243 | 代理人: | 許靜;黃燦 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 顯示 及其 制作方法 | ||
1.一種顯示基板的制作方法,其特征在于,包括:
提供基板和金屬線柵偏振器WGP壓印模板,所述基板上具有處于非像素區的對位標記,所述基板的顯示區域的尺寸大于所述WGP壓印模板的尺寸;
在所述基板上形成金屬膜層;
通過識別所述對位標記,利用所述WGP壓印模板在所述金屬膜層上形成多個光柵區,其中,所述WGP壓印模板的一次壓印形成一個所述光柵區,相鄰的光柵區的拼接位置位于非像素區;
其中,所述光柵區包括多個間隔設置的光柵單元,以及與每個所述光柵單元對應的第一對位標記和/或第二對位標記,所述制作方法還包括:
通過識別所述第一對位標記,在所述基板的與每個所述光柵單元對應的區域上形成像素電極,形成具有所述光柵區的陣列基板;
或者,
通過識別所述第二對位標記,在所述基板的與每個所述光柵單元對應的區域上形成彩色濾光層的圖形,形成具有所述光柵區的彩膜基板。
2.根據權利要求1所述的制作方法,其特征在于,當利用多個所述WGP壓印模板同時在所述金屬膜層上形成光柵區時,所述WGP壓印模板之間的拼接縫的位置與所述非像素區的位置對應,且寬度小于或等于對應的非像素區的寬度。
3.根據權利要求1所述的制作方法,其特征在于,第一對位標記用于限定柵線所在的區域。
4.根據權利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述第二對位標記用于限定所述彩色濾光層的圖形之間的區域。
5.根據權利要求4所述的制作方法,其特征在于,所述光柵單元之間設置有黑矩陣,所述黑矩陣和所述光柵單元同層同材料設置。
6.根據權利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述利用所述WGP壓印模板在所述金屬膜層上形成多個光柵區的步驟包括:
在所述金屬膜層上形成光刻膠;
采用所述WGP壓印模板對所述光刻膠進行壓印,形成光柵結構的光刻膠圖形;
采用干刻工藝對未被所述光刻膠覆蓋的金屬膜層進行刻蝕,形成所述多個光柵區。
7.根據權利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述金屬膜層為鋁金屬膜層。
8.根據權利要求7所述的制作方法,其特征在于,所述鋁金屬膜層的厚度為50-400nm。
9.一種顯示基板,其特征在于,所述顯示基板包括:
基板,所述基板上具有處于非像素區的對位標記;
由金屬膜層形成的光柵結構,所述光柵結構具有多個光柵區;
其中,所述光柵區是通過識別所述對位標記,利用WGP壓印模板在所述金屬膜層上形成,所述WGP壓印模板的一次壓印形成一個所述光柵區,相鄰的光柵區的拼接位置位于非像素區;
所述光柵區包括多個間隔設置的光柵單元,以及與每個所述光柵單元對應的第一對位標記和/或第二對位標記,所述顯示基板還包括:
像素電極,所述像素電極是通過識別所述第一對位標記,在所述基板的與每個所述光柵單元對應的區域上形成;
或者,
彩色濾光層,所述彩色濾光層的圖形是通過識別所述第二對位標記,在所述基板的與每個所述光柵單元對應的區域上形成。
10.根據權利要求9所述的顯示基板,其特征在于,所述光柵單元之間設置有黑矩陣,所述黑矩陣和所述光柵單元同層同材料設置。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





