[發(fā)明專利]TFT基板及其制作方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610228341.3
• 申請(qǐng)日: 2016-04-13
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN105702687A
• 公開(kāi)（公告）日: 2016-06-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王濤
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 武漢華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): H01L27/12
• 分類號(hào): H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1362
• 代理公司: 深圳市德力知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44265
• 代理人: 林才桂

1.一種TFT基板，其特征在于，包括：襯底基板(100)、及設(shè)置在所 述襯底基板(100)上的TFT(400)；

所述TFT(400)包括：有源層(410)、設(shè)置在所述有源層(410)上的 柵極絕緣層(420)、設(shè)置在所述柵極絕緣層(420)上且水平位置與有源層 (410)對(duì)應(yīng)的柵極(430)、設(shè)置在所述柵極(430)及柵極絕緣層(420)上 的層間介電層(440)、及設(shè)置在所述層間介電層(440)上的源極(450)及 漏極(460)；

沿所述柵極(430)的長(zhǎng)度方向，所述有源層(410)至少包括位于中間 的第一區(qū)域(411)、及位于所述第一區(qū)域(411)兩側(cè)的第二區(qū)域(412)，且 所述第一區(qū)域(411)的厚度大于第二區(qū)域(412)的厚度，使得所述有源層 (410)的兩側(cè)均具有至少一個(gè)臺(tái)階。

2.如權(quán)利要求1所述的TFT基板，其特征在于，所述有源層(410)的 兩側(cè)均具有一個(gè)臺(tái)階。

3.如權(quán)利要求1所述的TFT基板，其特征在于，還包括：設(shè)置在所述襯 底基板(100)與TFT(400)之間的遮光層(200)與緩沖層(300)、設(shè)置在 所述TFT(400)上的平坦化層(500)、設(shè)置在所述平坦化層上(500)上的 底層電極(600)、設(shè)置在所述底層電極(600)上的鈍化層(700)、及設(shè)置在 所述鈍化層(700)上的頂層電極(800)。

4.如權(quán)利要求3所述的TFT基板，其特征在于，所述有源層(410)與 遮光層(200)相對(duì)應(yīng)，且所述遮光層(200)在水平方向上完全覆蓋所述有 源層(410)。

5.如權(quán)利要求3所述的TFT基板，其特征在于，所述柵極絕緣層(420 )和層間介電層(440)上對(duì)應(yīng)有源層(410)兩端的位置設(shè)有第一通孔(910 )及第二通孔(920)，所述源極(450)與漏極(460)分別通過(guò)第一通孔( 910)及第二通孔(920)與有源層(410)的兩端連接；

所述平坦化層(500)上對(duì)應(yīng)漏極(460)的位置設(shè)有第三通孔(930)， 所述頂層電極(800)通過(guò)第三通孔(930)與漏極(460)連接。

6.一種TFT基板的制作方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟1、提供一襯底基板(100)，在所述襯底基板(100)上形成半導(dǎo)體 材料層(10)，并在所述半導(dǎo)體材料層(10)上形成光刻膠層(11)，采用一 道光罩(15)對(duì)所述光刻膠層(11)進(jìn)行曝光、顯影，得到光刻膠圖案 (20)，沿柵極的長(zhǎng)度方向，所述光刻膠圖案(20)至少包括位于中間的第一 光刻膠段(21)、及位于兩側(cè)的第二光刻膠段(22)，且所述第一光刻膠段 (21)的厚度大于所述第二光刻膠段(22)的厚度；

步驟2、采用對(duì)所述光刻膠圖案(20)與半導(dǎo)體材料層(10)均能進(jìn)行蝕 刻的氣體對(duì)所述光刻膠圖案(20)與半導(dǎo)體材料層(10)進(jìn)行至少兩步蝕 刻：

第一步蝕刻是將所述半導(dǎo)體材料層(10)上位于所述第二光刻膠段 (22)外側(cè)的部分變薄，同時(shí)將所述光刻膠圖案(20)的第一光刻膠段(21) 變薄，將所述光刻膠圖案(20)的第二光刻膠段(22)完全蝕刻掉；

第二步蝕刻是將所述光刻膠圖案(20)的第一光刻膠段(21)完全蝕刻 掉，將所述半導(dǎo)體材料層(10)上位于所述第二光刻膠段(22)外側(cè)的部分 完全蝕刻掉，同時(shí)將所述半導(dǎo)體材料層(10)上對(duì)應(yīng)于第二光刻膠段(22) 的部分變薄，得到有源層(410)，所述有源層(410)至少包括位于中間且對(duì) 應(yīng)于第一光刻膠段(21)的第一區(qū)域(411)、及位于所述第一區(qū)域(411)兩 側(cè)且對(duì)應(yīng)于第二光刻膠段(22)的第二區(qū)域(412)，所述第一區(qū)域(411)的 厚度大于第二區(qū)域(412)的厚度，使得所述有源層(410)的兩側(cè)均具有至 少一個(gè)臺(tái)階；

步驟3、在所述有源層(410)上形成柵極絕緣層(420)，在所述柵極絕 緣層(420)上對(duì)應(yīng)有源層(410)的位置形成柵極(430)，在所述柵極 (430)及柵極絕緣層(420)上形成層間介電層(440)，在所述層間介電層 (440)上形成源極(450)及漏極(460)，完成TFT(400)的制作。