[發明專利]陰極單元

有效

• 申請號: 201610219410.4
• 申請日: 2011-11-21
• 公開（公告）號: CN105671500B
• 公開（公告）日: 2018-10-12
• 發明（設計）人: 大野哲宏;佐藤重光;大空弘樹
• 申請（專利權）人: 株式會社愛發科
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;H01J37/34
• 代理公司: 北京德琦知識產權代理有限公司 11018
• 代理人: 劉釗;齊葵

1.一種用于成膜裝置的陰極單元，其特征在于，包括：

多個靶，設置在成膜空間內，并具有背板、第一母材和第二母材，所述背板具有第一主面、位于所述第一主面的相反側的第二主面、第一側面及位于所述第一側面的相反側的第二側面，所述第一母材配置在所述第一主面上，所述第二母材配置在所述第二主面上；

多個控制部，以所述多個靶各自所具有的旋轉軸為中心使所述多個靶旋轉，對所述靶施加用于濺射的電壓，并分別與多個靶對應設置；和

多個磁場生成部，位于所述靶的外部，并且設置在靠近所述背板的遠離所述成膜空間的表面的位置，使得在所述背板的靠近所述成膜空間的表面生成特定的分布磁場，

所述磁場生成部具備退避驅動部，當所述靶旋轉時所述退避驅動部使所述磁場生成部退避至與所述靶的旋轉半徑相比更外側，當所述靶的旋轉結束時所述退避驅動部使所述磁場生成部回到與所述靶的旋轉半徑相比更內側，

所述旋轉軸以相互平行地排列的方式配置在同一平面內，

在所述多個靶中，一對鄰接的靶以所述旋轉軸為中心彼此反方向旋轉，

所述磁場生成部當在所述第一母材上生成泄漏磁通時配置在靠近所述第二母材的位置，當在所述第二母材上生成泄漏磁通時配置在靠近所述第一母材的位置。

2.根據權利要求1所述的陰極單元，其特征在于，

所述第一側面及所述第二側面與所述背板的長度方向垂直，所述第一側面及所述第二側面的形狀為長方形。

3.根據權利要求1或2所述的陰極單元，其特征在于，

各個所述背板具有與所述背板的長度方向平行的側部，

在所述側部經由絕緣部件配置有防著板。

4.根據權利要求3所述的陰極單元，其特征在于，

在相互鄰接的所述防著板上設置有凸部。

5.根據權利要求1所述的陰極單元，其特征在于，

所述第一側面及所述第二側面與所述背板的長度方向垂直，所述第一側面及所述第二側面的形狀為梯形。

6.根據權利要求1所述的陰極單元，其特征在于，

所述第一側面及所述第二側面與所述背板的長度方向垂直，所述第一側面及所述第二側面的形狀為平行四邊形。

7.根據權利要求1、2、5、6中任一項所述的陰極單元，其特征在于，

各個所述背板具有與所述背板的長度方向平行的側部，

所述側部被形成為臺階狀。

8.根據權利要求1、2、5、6中任一項所述的陰極單元，其特征在于，

各個所述背板具有與所述背板的長度方向平行的側部，

所述側部被形成為波紋狀。

9.根據權利要求1、2、5、6中任一項所述的陰極單元，其特征在于，

各個所述背板具有與所述背板的長度方向平行的側部，

在相互鄰接的所述側部中，一側的側部具有凸部，另一側的側部具有凹部。