[發(fā)明專利]圖案化薄膜真空蒸鍍裝置及方法

有效

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• 申請日: 2016-04-08
• 公開（公告）號: CN107267926B
• 公開（公告）日: 2020-03-17
• 發(fā)明（設計）人: 魏洋;范守善
• 申請（專利權）人: 清華大學;鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司
• 主分類號: C23C14/28
• 分類號: C23C14/28;C23C14/04;C23C14/50
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發(fā)明提供一種圖案化薄膜的真空蒸鍍裝置，包括真空室、待鍍基底、蒸發(fā)源條帶、激光源及柵網，該蒸發(fā)源條帶包括蒸發(fā)材料及碳納米管膜結構，該碳納米管膜結構為一載體，該蒸發(fā)材料設置在該碳納米管膜結構表面。該柵網包括相對的第一表面及第二表面，該第一表面與該激光源相對且間隔設置，該蒸發(fā)源條帶能夠沿長度方向通過該激光源與該柵網之間，該柵網的第二表面與該待鍍基底相對設置，該蒸發(fā)源條帶通過該激光源與該柵網之間的部分與該待鍍基底平行且間隔設置，該蒸發(fā)源條帶、待鍍基底、激光源及柵網均設置在該真空室中。本發(fā)明還提供一種圖案化薄膜的真空蒸鍍方法。

技術領域

本發(fā)明涉及一種圖案化薄膜真空蒸鍍裝置及方法。

背景技術

真空蒸鍍是將蒸發(fā)源在真空中加熱，使蒸鍍材料氣化，并在待鍍基底表面沉積成膜的過程。為了形成均勻的薄膜，需要在待鍍基底周圍形成均勻的氣態(tài)蒸鍍材料。在現(xiàn)有技術中（如中國專利申請CN1970826A）通常需要設置復雜的導流裝置將氣態(tài)蒸鍍材料均勻傳送至待鍍基底表面。尤其當蒸發(fā)源為兩種以上時，對每種蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率更加難以控制，難以形成預定比例的混合蒸鍍材料氣體。鍍膜尺寸越大，成膜的均勻性越難保證，并且，由于難以控制氣態(tài)蒸鍍材料原子的擴散運動方向，大部分蒸鍍材料都不能附著在待鍍基底表面，從而造成蒸鍍率低且蒸鍍速度慢等問題。

發(fā)明內容

有鑒于此，確有必要提供一種能夠解決上述問題的圖案化薄膜真空蒸鍍裝置及方法。

一種圖案化薄膜的真空蒸鍍裝置，包括真空室、待鍍基底、蒸發(fā)源條帶、激光源及柵網，該蒸發(fā)源條帶包括蒸發(fā)材料及碳納米管膜結構，該碳納米管膜結構為一載體，該蒸發(fā)材料設置在該碳納米管膜結構表面，通過該碳納米管膜結構承載。該柵網包括相對的第一表面及第二表面，該第一表面與該激光源相對且間隔設置，該蒸發(fā)源條帶能夠沿長度方向通過該激光源與該柵網之間，該柵網的第二表面與該待鍍基底相對設置，該蒸發(fā)源條帶通過該激光源與該柵網之間的部分與該待鍍基底平行且間隔設置，該蒸發(fā)源條帶、待鍍基底、激光源及柵網均設置在該真空室中。

一種圖案化薄膜的真空蒸鍍方法，包括：S1，提供設置在真空室中的蒸發(fā)源條帶、激光源、柵網及待鍍基底，該蒸發(fā)源條帶包括蒸發(fā)材料及碳納米管膜結構，該碳納米管膜結構為一載體，該蒸發(fā)材料設置在該碳納米管膜結構表面，通過該碳納米管膜結構承載，該柵網包括相對的第一表面及第二表面，該第一表面與該激光源相對且間隔設置，該柵網的第二表面與該待鍍基底相對設置；S2，驅動該蒸發(fā)源條帶沿長度方向通過該激光源與該柵網之間；以及S3，通過該激光源向該蒸發(fā)源條帶通過該激光源與該柵網之間的部分照射激光，使該蒸發(fā)材料氣化，通過該柵網的通孔在該待鍍基底的待鍍表面形成蒸鍍層。

相較于現(xiàn)有技術，本發(fā)明將自支撐的碳納米管膜作為蒸鍍材料的載體，利用該碳納米管膜極大的比表面積及自身的均勻性，使承載在該碳納米管膜上的蒸鍍材料在蒸發(fā)前即實現(xiàn)較為均勻的大面積分布。在蒸發(fā)的過程中利用該自支撐碳納米管膜瞬時加熱的特性，在極短的時間將蒸鍍材料完全氣化，從而形成均勻且大面積分布的氣態(tài)蒸鍍材料。該待鍍基底與該碳納米管膜間隔距離短，使承載在該碳納米管膜上的蒸鍍材料基本上均能得到利用，有效節(jié)約了蒸鍍材料，提高了蒸鍍速度。該自支撐的碳納米管膜具有柔性，可以形成一具有蒸發(fā)材料的“色帶”，方便的不斷在激光源與待鍍基底之間提供蒸發(fā)材料，從而實現(xiàn)在待鍍基底表面“打印”形成圖案化的真空蒸鍍薄膜。

附圖說明

圖1為本發(fā)明實施例提供的圖案化薄膜真空蒸鍍裝置的正視示意圖。

圖2為本發(fā)明實施例提供的柵網的俯視示意圖。

圖3為本發(fā)明實施例提供的柵網、蒸發(fā)源條帶及激光源的正視示意圖。

圖4為本發(fā)明實施例提供的柵網支架沿蒸發(fā)源條帶長度方向的側視示意圖。

圖5為本發(fā)明實施例提供的圖案化薄膜真空蒸鍍裝置各部分功能框圖。

圖6為本發(fā)明實施例提供的激光源及待鍍基底的俯視示意圖。