[發(fā)明專利]鍺硅異質(zhì)集成三極管在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610214756.5 | 申請(qǐng)日: | 2016-04-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105742341A | 公開(公告)日: | 2016-07-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 錢偉國(guó) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 太倉(cāng)凱豐電子科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L29/10 | 分類號(hào): | H01L29/10;H01L29/12;H01L29/737;H01L29/20 |
| 代理公司: | 北京瑞思知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11341 | 代理人: | 張建生 |
| 地址: | 215400 江蘇省蘇州*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 鍺硅異質(zhì) 集成 三極管 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種鍺硅異質(zhì)集成三極管。
背景技術(shù)
三極管,全稱應(yīng)為半導(dǎo)體三極管,也稱雙極型晶體管、晶體三極管,是一種控制電流的半導(dǎo)體器件其作用是把微弱信號(hào)放大成幅度值較大的電信號(hào),也用作無(wú)觸點(diǎn)開關(guān)。晶體三極管,是半導(dǎo)體基本元器件之一,具有電流放大作用,是電子電路的核心元件。三極管是在一塊半導(dǎo)體基片上制作兩個(gè)相距很近的PN結(jié),兩個(gè)PN結(jié)把整塊半導(dǎo)體分成三部分,中間部分是基區(qū),兩側(cè)部分是發(fā)射區(qū)和集電區(qū),排列方式有PNP和NPN兩種。1947年12月23日,美國(guó)新澤西州墨累山的貝爾實(shí)驗(yàn)室里,3位科學(xué)家——巴丁博士、布菜頓博士和肖克萊博士在緊張而又有條不紊地做著實(shí)驗(yàn)。他們?cè)趯?dǎo)體電路中正在進(jìn)行用半導(dǎo)體晶體把聲音信號(hào)放大的實(shí)驗(yàn)。3位科學(xué)家驚奇地發(fā)現(xiàn),在他們發(fā)明的器件中通過(guò)的一部分微量電流,竟然可以控制另一部分流過(guò)的大得多的電流,因而產(chǎn)生了放大效應(yīng)。這個(gè)器件,就是在科技史上具有劃時(shí)代意義的成果——晶體管。因它是在圣誕節(jié)前夕發(fā)明的,而且對(duì)人們未來(lái)的生活發(fā)生如此巨大的影響,所以被稱為“獻(xiàn)給世界的圣誕節(jié)禮物”。另外這3位科學(xué)家因此共同榮獲了1956年諾貝爾物理學(xué)獎(jiǎng)。
晶體管促進(jìn)并帶來(lái)了“固態(tài)革命”,進(jìn)而推動(dòng)了全球范圍內(nèi)的半導(dǎo)體電子工業(yè)。作為主要部件,它及時(shí)、普遍地首先在通訊工具方面得到應(yīng)用,并產(chǎn)生了巨大的經(jīng)濟(jì)效益。由于晶體管徹底改變了電子線路的結(jié)構(gòu),集成電路以及大規(guī)模集成電路應(yīng)運(yùn)而生,這樣制造像高速電子計(jì)算機(jī)之類的高精密裝置就變成了現(xiàn)實(shí)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種具有節(jié)省了成本,提高了功率優(yōu)點(diǎn)的鍺硅異質(zhì)集成三極管。
本發(fā)明的技術(shù)方案是:一種鍺硅異質(zhì)集成三極管,所述的鍺硅異質(zhì)集成三極管包括最外層寬帶隙半導(dǎo)體材料層,中間層聚氯乙烯材料層和最內(nèi)層的鍺硅材料層,所述寬帶隙半導(dǎo)體材料層為氮化鎵、碳化硅和氧化鋅,所述的寬帶隙半導(dǎo)體材料層占鍺硅異質(zhì)集成三極管總體分量的42-45%,所述的聚氯乙烯材料層占鍺硅異質(zhì)集成三極管總體分量的15%-20%,所述的鍺硅材料層占鍺硅異質(zhì)集成三極管總體分量的35%-40%。
在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中,所述鍺硅材料層為鍺硅合金。
在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中,所述的寬帶隙半導(dǎo)體材料層占鍺硅異質(zhì)集成三極管總體分量的44%,所述的聚氯乙烯材料層占鍺硅異質(zhì)集成三極管總體分量的18%,所述的鍺硅材料層占鍺硅異質(zhì)集成三極管總體分量的38%。
本發(fā)明的一種鍺硅異質(zhì)集成三極管,具有節(jié)省了成本,提高了功率的優(yōu)點(diǎn)。
具體實(shí)施方式
下面對(duì)本發(fā)明的較佳實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)闡述,以使本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解,從而對(duì)本發(fā)明的保護(hù)范圍做出更為清楚明確的界定。
其中,所述的鍺硅異質(zhì)集成三極管包括最外層寬帶隙半導(dǎo)體材料層,中間層聚氯乙烯材料層和最內(nèi)層的鍺硅材料層,所述寬帶隙半導(dǎo)體材料層為氮化鎵、碳化硅和氧化鋅,所述的寬帶隙半導(dǎo)體材料層占鍺硅異質(zhì)集成三極管總體分量的42-45%,所述的聚氯乙烯材料層占鍺硅異質(zhì)集成三極管總體分量的15%-20%,所述的鍺硅材料層占鍺硅異質(zhì)集成三極管總體分量的35%-40%。
進(jìn)一步說(shuō)明,所述鍺硅材料層為鍺硅合金,所述的寬帶隙半導(dǎo)體材料層占鍺硅異質(zhì)集成三極管總體分量的44%,所述的聚氯乙烯材料層占鍺硅異質(zhì)集成三極管總體分量的18%,所述的鍺硅材料層占鍺硅異質(zhì)集成三極管總體分量的38%。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過(guò)對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
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