[發(fā)明專利]顯示背光用金屬線柵增亮膜及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610206984.8 | 申請(qǐng)日： | 2016-04-05 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN105700058A | 公開（公告）日： | 2016-06-22 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 崔宏青;查國(guó)偉 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 武漢華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G02B5/30 | 分類號(hào)： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 袁江龍 |
| 地址： | 430070 湖北省武漢市*** | 國(guó)省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 顯示 背光 金屬線 柵增亮膜 及其 制備 方法 | ||
1.一種顯示背光用金屬線柵增亮膜的制備方法，其特征在于，所 述方法包括：
在基板表面涂覆光刻膠層；
通過納米壓印工藝在所述光刻膠層上形成納米尺寸的光刻膠光柵 結(jié)構(gòu)，并進(jìn)行固化處理；
在所述固化后的光刻膠光柵結(jié)構(gòu)上形成金屬薄膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述光刻膠光 柵結(jié)構(gòu)的截面為多個(gè)間隔設(shè)置的矩形，所述金屬薄膜通過傾斜沉積法形 成于所述多個(gè)矩形的頂面以及同一側(cè)的側(cè)面上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述光刻膠光 柵結(jié)構(gòu)的截面為多個(gè)間隔設(shè)置的梯形，所述金屬薄膜通過傾斜沉積法形 成于所述多個(gè)梯形的頂面以及同一側(cè)的側(cè)面上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述光刻膠光 柵結(jié)構(gòu)的截面為多個(gè)間隔設(shè)置的三角形，所述金屬薄膜通過傾斜沉積法 形成于所述多個(gè)三角形同一側(cè)的側(cè)面。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述光刻膠光 柵結(jié)構(gòu)的截面為多個(gè)間隔設(shè)置的矩形，所述金屬薄膜形成于所述多個(gè)矩 形的頂面以及矩形間隔區(qū)域的基板上，其中，位于所述多個(gè)矩形的頂面 以及矩形間隔區(qū)域基板上的金屬薄膜之間不互聯(lián)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法，其特征在于，所述光刻膠光 柵結(jié)構(gòu)的尺寸周期為40-100nm，光柵寬度為10-50nm，厚度為40-200nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的制備方法，其特征在于，所述光刻 膠光柵結(jié)構(gòu)的尺寸周期為100-300nm，光柵寬度為100-200nm，厚度為 100-200nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述光刻膠光 柵結(jié)構(gòu)的尺寸周期為100-200nm，光柵寬度為60-70nm，厚度為30-50nm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的制備方法，其特征在于，所述基 板為柔性基板；所述金屬薄膜的材料為鋁或者銀；所述固化處理為光照 或者加熱；所述金屬薄膜的形成方法為蒸鍍或者濺射。
10.一種顯示背光用金屬線柵增亮膜，其特征在于，所述金屬線柵 增亮膜通過權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的方法制備而成。
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