[發(fā)明專利]一種CDK抑制劑和MEK抑制劑的共晶及其制備方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610202277.1
• 申請(qǐng)日: 2016-04-01
• 公開（公告）號(hào): CN105753869B
• 公開（公告）日: 2018-09-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳敏華;張炎鋒;楊朝惠;夏楠;劉啟月;張曉宇
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 蘇州晶云藥物科技有限公司
• 主分類號(hào): C07D487/04
• 分類號(hào): C07D487/04;C07D235/06;A61K31/519;A61K31/4184;A61P35/00
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1.一種CDK抑制劑和MEK抑制劑的共晶，其特征在于：所述的共晶結(jié)構(gòu)式如式(I)所示，其中，x為選自0-3之間的數(shù)，所述的共晶為水合物晶型I，所述的晶型I以CuKα射線測(cè)得的X射線粉末衍射圖在2theta值為19.3°±0.2°、22.7°±0.2°、10.4°±0.2°、11.4°±0.2°、23.6°±0.2°、13.4°±0.2°處具有特征峰

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的共晶，其特征在于：所述的晶型I的X射線粉末衍射圖還在2theta值為21.6°±0.2°、26.0°±0.2°、8.3°±0.2°中的一處或多處具有特征峰。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的共晶，其特征在于：所述的晶型I的X射線粉末衍射圖還在2theta值為21.6°±0.2°、26.0°±0.2°、8.3°±0.2°處具有特征峰。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的共晶，其特征在于：所述晶型I的結(jié)構(gòu)式式(I)中，x為選自0.5～3之間的數(shù)。

5.一種CDK抑制劑和MEK抑制劑的共晶單晶，其特征在于：該共晶為權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的晶型I，該共晶單晶為無色透明長(zhǎng)棒狀晶體，屬于單斜晶系，空間群P2₁/c，單胞參數(shù)α＝90°，β＝106.0±0.2°，γ＝90°。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的CDK抑制劑和MEK抑制劑的共晶單晶，其特征在于：該共晶單晶的單胞參數(shù)α＝90°，β＝105.95～106.05°，γ＝90°。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的CDK抑制劑和MEK抑制劑的共晶單晶，其特征在于：該共晶單晶的單胞參數(shù)α＝90°，β＝105.99～106.01°，γ＝90°。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的CDK抑制劑和MEK抑制劑的共晶單晶，其特征在于：該共晶單晶的單胞參數(shù)α＝90°，β＝105.999～106.001°，γ＝90°。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的CDK抑制劑和MEK抑制劑的共晶單晶，其特征在于：該共晶單晶的單胞參數(shù)α＝90°，β＝106.000°，γ＝90°。

10.一種如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的共晶的制備方法，其特征在于：將LEE011和MEK162在含水的溶劑體系中混合，然后通過揮發(fā)、攪拌或降溫得到晶型I。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的共晶的制備方法，其特征在于：所述的含水的溶劑體系為水與醇類有機(jī)溶劑形成的溶劑體系或者是水與腈類有機(jī)溶劑形成的溶劑體系。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的共晶的制備方法，其特征在于：所述的含水的溶劑體系為水與乙醇形成的溶劑體系或者是水與乙腈形成的溶劑體系。

13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的共晶的制備方法，其特征在于：在0～50℃下將所述的LEE011和所述的MEK162在所述的含水的溶劑體系中混合。

14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的共晶的制備方法，其特征在于：所述的MEK162的投料質(zhì)量與所述的含水的溶劑體系的投料體積比為6～10mg/mL。

15.根據(jù)權(quán)利要求10所述的共晶的制備方法，其特征在于：所述的LEE011和所述的MEK162的投料質(zhì)量比為1:0.9～2。

16.一種藥用組合物，包括活性成分和藥學(xué)上可接受的賦形劑，其特征在于：所述的活性成分包括如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的共晶。

17.一種如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的共晶在制備治療癌癥藥物制劑中的用途。