[發(fā)明專利]一種莫桑石的切割工藝有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610185225.8 | 申請日: | 2016-03-29 |
| 公開(公告)號: | CN105619229B | 公開(公告)日: | 2018-07-17 |
| 發(fā)明(設計)人: | 潘志奇;任啟磊 | 申請(專利權)人: | 深圳予愛珠寶有限公司 |
| 主分類號: | B24B29/02 | 分類號: | B24B29/02;B24D7/00;C09G1/04 |
| 代理公司: | 成都佳劃信知識產權代理有限公司 51266 | 代理人: | 馬冬新 |
| 地址: | 518040 廣東省深圳市福*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 拋光盤 拋光液 切割 水基拋光液 專用的 拋光盤表面 拋光盤轉速 烷基磺酸鈉 珠寶領域 質量比 內孔 內圓 切磨 外圓 線狀 打磨 鉆石 配合 調控 | ||
本發(fā)明涉及珠寶領域,尤其涉及一種莫桑石的切割工藝,采用水基的拋光液,配合專用的拋光盤,控制莫桑石與拋光盤表面接觸,調控拋光液呈線狀添加到莫桑石與拋光盤接觸面,然后對莫桑石進行反復切割打磨,拋光盤轉速1500?1800r/min,拋光液添加速度60?80ml/min;所述的水基拋光液由水和烷基磺酸鈉組成,兩物質的質量比為2500:1?3500:1;所述的拋光盤的外圓直徑為100?200mm,內圓直徑為30?60mm,內孔直徑為11?14mm,厚度為13?16mm。采用水基拋光液,可以帶走切磨過程中產生的高溫,改善了色澤,同時配合專用的拋光盤,使得莫桑石的產品色級得到較高程度的提高,使消費者可以采用較少的成本而獲得比鉆石更閃亮,產品色級更高的莫桑石。
技術領域
本發(fā)明涉及珠寶領域,尤其涉及一種莫桑石的切割工藝。
背景技術
莫桑石又名碳化硅,色散0.104比鉆石(0.044)大,折射率2.65-2.69(鉆石2.42),具有與鉆石相同的金剛光澤,“火彩”更強,比以往任何仿制品更接近鉆石。
莫桑石被譽為世界上最璀璨的莫桑石,珠寶界人士更是將莫桑石視為鉆石的最佳替代品。但是莫桑石經過切磨后存在成品色澤不理想,偏黃的問題,這一問題的出現(xiàn)使得莫桑石的色級得不到保證。導致這一問題出現(xiàn)的主要原因主要是由于在莫桑石切磨的過程中主要采用的油拋。油拋因其自身介質的因素存在一些問題:在莫桑石切莫的過程中會產生一些高溫能量,而油介質不能把切磨過程中產生的高溫能量帶走,從而使莫桑石表層晶體分子高溫塑化,造成莫桑石表層形成光膜,致使莫桑石不透明,使莫桑石觀賞性大幅度降低,進而影響莫桑石觀賞性及商品價值。
對珠寶領域來說,如何提高莫桑石的觀賞性及商品價值是一個巨大的挑戰(zhàn)。
發(fā)明內容
本發(fā)明為解決現(xiàn)有問題提供了一種莫桑石的切割工藝,在莫桑石切磨的過程中,采用水基的拋光液,配合專用的拋光盤,使得莫桑石的品級得到一個大幅的提高,對其觀賞性及商品價值有根本性的提高。
一種莫桑石的切割工藝,采用水基的拋光液,配合專用的拋光盤,控制莫桑石與拋光盤表面接觸,調控拋光液呈線狀添加到莫桑石與拋光盤接觸面,然后對莫桑石進行反復切割打磨,拋光盤轉速1500-1800r/min,拋光液添加速度60-80ml/min;所述的水基拋光液由水和烷基磺酸鈉組成,兩物質的質量比為2500:1-3500:1;所述的拋光盤的外圓直徑為100-200mm,內圓直徑為30-60mm,內孔直徑為11-14mm,厚度為13-16mm。
優(yōu)選的,所述的拋光盤的轉速為1600 r/min;拋光盤的線速度對莫桑石拋光也有很大的影響。拋光盤的轉速加快使單位時間拋光液接觸量增多,拋光液對莫桑石表面的沖擊力增大,切削力更大,從而可以得到較多的拋光效果。轉速太快,會影響莫桑石切割工藝質量,而拋光速度太慢會使拋光效果下降。
優(yōu)選的,所述的拋光液添加速度70ml/min;采用此添加速度確保拋光盤表面拋光液充分均勻分布,使切磨效果更好。
優(yōu)選的,所述的水基拋光液由水和烷基磺酸鈉的質量比為3000:1;采用這種水基拋光液,烷基磺酸鈉作為表面活性劑,使界面狀態(tài)發(fā)生變化,潤滑作用更明顯,去污作用,同時拋光液中水的存在起到了降溫作用,吸收切磨過程中產生的高溫能量,還具有清潔作用,及時去除切磨過程中產生的污物,使晶體保持干凈,起到輔助清潔作用。
所述的拋光盤為樹脂金剛石砂輪結構,由工作層、基體兩部分組成組成;所述的拋光盤工作層通過常規(guī)方式粘結在拋光盤基體的上表面;所述的拋光盤工作層厚度c與拋光盤基體的厚度b比值為6:7;所述的采用這種拋光盤能更大程度上呈現(xiàn)出莫桑石晶體光學通透性本質,使莫桑石更加透明。
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