[發(fā)明專利]一種莫桑石的切割工藝

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610185225.8
• 申請(qǐng)日: 2016-03-29
• 公開（公告）號(hào): CN105619229B
• 公開（公告）日: 2018-07-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 潘志奇;任啟磊
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳予愛珠寶有限公司
• 主分類號(hào): B24B29/02
• 分類號(hào): B24B29/02;B24D7/00;C09G1/04
• 代理公司: 成都佳劃信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51266
• 代理人: 馬冬新

1.一種莫桑石的拋光工藝，其特征是：采用水基的拋光液，配合專用的拋光盤，控制莫桑石與拋光盤表面接觸，調(diào)控拋光液呈線狀添加到莫桑石與拋光盤接觸面，然后對(duì)莫桑石進(jìn)行反復(fù)切割打磨，拋光盤轉(zhuǎn)速1500-1800r/min，拋光液添加速度60-80ml/min；所述的水基拋光液由水和烷基磺酸鈉組成，兩物質(zhì)的質(zhì)量比為3000：1;所述的拋光盤的外圓直徑為100-200mm，內(nèi)圓直徑為30-60mm，內(nèi)孔直徑為11-14mm，厚度為13-16mm；

所述的拋光盤為樹脂金剛石砂輪結(jié)構(gòu)，由工作層、基體兩部分組成；所述的拋光盤工作層通過常規(guī)方式粘結(jié)在拋光盤基體的上表面；所述的拋光盤工作層厚度c與拋光盤基體的厚度b比值為6:7；

所述的拋光盤工作層是砂輪的工作部分，由金剛石粉，樹脂粉，粘合劑粉按質(zhì)量比2:15:5混勻，燒結(jié)而成；所述的金剛石粉粒度w1.0為20000目；所述的拋光盤工作層的金剛石粉分布均勻；所述的拋光盤基體用于承接工作層，并在使用時(shí)用法蘭盤牢固地夾持在磨床主軸上，材質(zhì)為鋁。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的莫桑石的拋光工藝，其特征是：所述的拋光盤的轉(zhuǎn)速為1600r/min；所述的拋光液添加速度70ml/min。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的莫桑石的拋光工藝，其特征是：所述的拋光盤的外圓直徑為150mm，內(nèi)圓直徑為40mm，內(nèi)孔直徑為12.7mm，厚度為13mm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的莫桑石的拋光工藝，其特征是：所述的拋光盤的內(nèi)圓厚度采用a表示，所述的拋光盤的內(nèi)孔高度采用d表示；所述的c：a：d=6：5.8：7.2。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的莫桑石的拋光工藝，其特征是：所述的外圓、內(nèi)圓、內(nèi)孔為同心圓。