[發明專利]扇出線結構、顯示面板及其制造方法

有效

• 申請號: 201610185117.0
• 申請日: 2016-03-29
• 公開（公告）號: CN105679744A
• 公開（公告）日: 2016-06-15
• 發明（設計）人: 王劭顓;金熙哲
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司
• 主分類號: H01L23/538
• 分類號: H01L23/538;H01L21/48
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 唐立;景軍平

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種扇出線結構、包括該扇出線結構的顯示 面板及其制造方法。

背景技術

顯示面板包括TFT陣列以及用于驅動TFT陣列的驅動電路模塊（例如設置驅動IC的 驅動電路板），為實現將驅動電路模塊的信號輸出對應施加在TFT陣列中的相應信號線（例 如數據線或柵線）上，需要使用連接導線從驅動電路模塊的某一輸出引腳對應連接至TFT陣 列的某一信號線上。按照常規的驅動電路模塊和TFT陣列設置，驅動電路模塊的多個輸出引 腳是相對集中排列而TFT陣列的多條信號線相對分散排列，采用以上多條連接導線時會在 驅動電路模塊與TFT陣列之間形成類似“扇形”結構，因此，通常稱該連接導線為“扇出線”， 扇出線的設置區域則稱為“扇出區（Fan-outArea）”。

然而，從驅動電路模塊的輸出引腳到TFT陣列的信號線距離是不一致的，必然會導 致扇出線的長度相差較大，因此容易導致扇出區的多條扇出線之間的阻抗不均勻，這種阻 抗不均勻會影響顯示面板的顯示效果，是需要盡量避免的。

現有技術中，為實現不同扇出線之間的阻抗盡量均一化，采用對長度較短的扇出 線采用繞線設計的方式來增加其阻抗，但是，這種方法需要增加用于繞線的區域，容易導致 扇出區的整體寬度的增加，這種扇出區的整體寬度是會體現在使用該顯示面板的顯示器的 邊框尺寸上，因此，扇出區的整體寬度的增加是非常不利于窄邊框顯示器的開發和設計的。

發明內容

本發明的目的在于，實現扇出線結構的扇出線之間的阻抗均勻化。

為實現以上目的或者其他目的，本發明提供以下技術方案。

按照本發明的一方面，提供一種扇出線結構，其包括多條長度不一的扇出線；

每條所述扇出線均包括布線層；

至少部分所述扇出線的所述布線層之上設置有與布線層電連接的附加導電膜；

多條所述扇出線的阻抗相同。

根據本發明一實施例的扇出線結構，其中，不同長度的所述布線層的阻抗不同。

根據本發明一實施例的扇出線結構，其中，多條所述扇出線中，除長度最短的布線 層外，其余多條所述扇出線中的布線層均設置有與布線層電連接的附加導電膜。

根據本發明又一實施例的扇出線結構，其中，多條所述扇出線中，每條所述布線層 均設置有與布線層電連接的附加導電膜。

在之前所述實施例的扇出線結構中，所述附加導電膜厚度及寬度一致。

根據本發明還一實施例的扇出線結構，其中，設置有所述附加導電膜的多條扇出 線中，設置在不同長度的所述布線層之上的附加導電膜的長度不同。

可選地，所述附加導電膜連續地或分段地設置在所述布線層之上。

可選地，所述附加導電膜材料與所述布線層材料相同。

可選地，所述附加導電膜材料與所述布線層材料不同，且附加導電膜材料電阻率 小于所述布線層材料的電阻率。

按照本發明的又一方面，提供一種顯示面板，其包括驅動電路模塊和TFT陣列，以 及以上所述及的任一種扇出線結構，所述扇出線結構用于連接驅動電路模塊與TFT陣列。

按照本發明的還一方面，提供一種顯示面板的制造方法，其特征在于，包括：

提供預設有扇出區的襯底；

在預設的所述扇出區通過沉積形成第一導電層；

在所述第一導電膜表面形成第二導電層；以及

通過刻蝕第一導電層和第二導電層分別形成所述布線層和附加導電膜。

根據本發明又一實施例的制造方法，其中，通過刻蝕第一導電層和第二導電層分 別形成所述布線層和附加導電膜包括：

在所述第二導電層上涂覆光刻膠；

通過半色調掩膜板對所述光刻膠曝光顯影，形成光刻膠完全保留區域、光刻膠半保留 區域以及光刻膠完全去除區域；

以所述光刻膠完全保留區域和光刻膠半保留區域的光刻膠為掩膜刻蝕所述第一導電 層和第二導電層以形成多條布線層；

對所述光刻膠完全保留區域和光刻膠半保留區域的光刻膠同時進行灰化處理以暴露 所述光刻膠半保留區域對應的部分第二導電層；

對暴露的所述部分第二導電層進行刻蝕以形成附加導電膜；以及

去除剩余的光刻膠。