[發(fā)明專利]圖形線形成裝置及方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610179210.0 | 申請日: | 2016-03-25 |
| 公開(公告)號: | CN107225857B | 公開(公告)日: | 2020-03-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 申哲鎮(zhèn);成明俊;薛捧浩;金謙旭 | 申請(專利權(quán))人: | 燦美工程股份有限公司 |
| 主分類號: | B41J2/11 | 分類號: | B41J2/11;B41J3/407 |
| 代理公司: | 北京青松知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人: | 鄭青松 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 圖形 線形 裝置 方法 | ||
1.一種圖形線形成裝置,包括:
架臺,用于安放基板;
噴嘴單元,位于所述基板的上側(cè),向所述基板上排出油墨,從而形成圖形線;
偏差單元,生成高電平和低電平的信號以規(guī)定的時間和間隔所重復(fù)的規(guī)定波形的第二偏差信號,并施加到所述噴嘴單元;
溶劑供給單元,氣化使用于所述油墨的溶劑,進(jìn)而向所述噴嘴單元的末端噴射;
硬化單元,用于硬化在所述基板上所形成的圖形線;
其中,根據(jù)所述第二偏差信號,無需向所述基板施加接地電位,便在所述基板與所述噴嘴單元之間形成電場,
根據(jù)所述第二偏差信號的波形、所述高電平和低電平的電位差和周期,調(diào)節(jié)從所述噴嘴單元所排出的油墨的排出量和排出時間;
所述第二偏差信號還包括所述高電平與所述低電平的電位差為零的中間電平;
所述偏差單元通過調(diào)節(jié)夾在所述高電平與低電平之間的所述中間電平的長度,調(diào)節(jié)所述圖形線的線寬。
2.如權(quán)利要求1所述的圖形線形成裝置,其特征在于,還包括光學(xué)單元、檢測單元、空壓單元中的至少一個,
其中,所述光學(xué)單元,用于視覺檢測所述圖形線,
所述檢測單元,用于電檢測所述圖形線,
所述空壓單元,用于向所述噴嘴單元施加空壓。
3.如權(quán)利要求1或2所述的圖形線形成裝置,其特征在于,所述偏差單元包括:
波形生成部,用于生成第一偏差信號;
放大部,對所述第一偏差信號進(jìn)行放大,進(jìn)而生成所述第二偏差信號;
觀察部,用于觀測所述第一及第二偏差信號中的至少一個。
4.如權(quán)利要求3所述的圖形線形成裝置,其特征在于,所述波形生成部包括:
波形生成器,用于生成規(guī)定波形的信號;
直流生成器,生成直流電壓,據(jù)此提升所述波形生成器所生成的規(guī)定波形的信號的電平,從而生成所述第一偏差信號。
5.如權(quán)利要求4所述的圖形線形成裝置,其特征在于,還包括用于控制所述架臺、噴嘴單元、偏差單元、光學(xué)單元、檢測單元、空壓單元、溶劑供給單元以及硬化單元中的至少一個的控制單元。
6.如權(quán)利要求5所述的圖形線形成裝置,其特征在于,所述控制單元包括:
輸入輸出部,用于輸入輸出控制信號及數(shù)據(jù);
數(shù)據(jù)存儲部,用于存儲所述圖形線的線寬和長度,以及與之對應(yīng)所述第二偏差信號的波形數(shù)據(jù);
控制部,利用存儲在所述數(shù)據(jù)存儲部的數(shù)據(jù),選擇用于形成相應(yīng)圖形線的所述第二偏差信號的波形,通過所述輸入輸出部,控制所述偏差單元。
7.一種圖形線形成方法,其利用權(quán)利要求1中的圖形線形成裝置實現(xiàn),包括如下步驟:
將基板安放到架臺;
確定在所述基板上將要形成圖形線的區(qū)域;
確定所述圖形線的線寬及長度,并生成與之對應(yīng)的所述第二偏差信號;
向噴嘴單元施加所述第二偏差信號;
從所述噴嘴單元排出油墨,從而在所述基板上形成圖形線;
其中,根據(jù)所述第二偏差信號,無需在所述基板施加接地電位,便在所述基板與所述噴嘴單元之間形成電場,
根據(jù)所述第二偏差信號的波形、所述高電平和低電平的電位差和周期,調(diào)節(jié)從所述噴嘴單元所排出的油墨的排出量和排出時間;
所述生成第二偏差信號的步驟,通過調(diào)節(jié)包含在所述高電平與低電平之間的所述中間電平的長度,調(diào)整所述基板上所形成的圖形線的線寬。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于燦美工程股份有限公司,未經(jīng)燦美工程股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610179210.0/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
B41J 打字機(jī);選擇性印刷機(jī)構(gòu),即不用印版的印刷機(jī)構(gòu);排版錯誤的修正
B41J2-00 以打印或標(biāo)記工藝為特征而設(shè)計的打字機(jī)或選擇性印刷機(jī)構(gòu)
B41J2-005 .特征在于使液體或粉粒有選擇地與印刷材料接觸
B41J2-22 .特征在于在印刷材料或轉(zhuǎn)印材料上有選擇的施加沖擊或壓力
B41J2-315 .特征在于向熱敏打印或轉(zhuǎn)印材料有選擇地加熱
B41J2-385 .特征在于選擇性地為打印或轉(zhuǎn)印材料提供選擇電流或電磁
B41J2-435 .特征在于有選擇地向印刷材料或轉(zhuǎn)印材料提供照射





