[發(fā)明專利]一種顯示基板母板及顯示裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610178564.3 | 申請(qǐng)日: | 2016-03-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105589262B | 公開(公告)日: | 2019-07-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉利萍;湯展峰;董春壘 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1337 | 分類號(hào): | G02F1/1337 |
| 代理公司: | 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 顯示 母板 顯示裝置 | ||
1.一種顯示基板母板,所述顯示基板母板包括間隔排列的多個(gè)顯示區(qū)域,每個(gè)顯示區(qū)域具有平行于行方向的相對(duì)的兩個(gè)第一邊,平行于列方向的相對(duì)的兩個(gè)第二邊;其特征在于,
每個(gè)顯示區(qū)域的至少一個(gè)第一邊外側(cè)設(shè)置有平行于所述第一邊的至少兩行梳排;和/或,每個(gè)顯示區(qū)域的至少一個(gè)第二邊外側(cè)設(shè)置有平行于所述第二邊的至少兩列梳排;
其中,每行梳排和/或每列梳排包括多個(gè)平行間隔排列的條形凸起;任一個(gè)條形凸起與摩擦輥的摩擦配向方向之間的夾角取值范圍為0~5°;
相鄰兩行梳排中的所述條形凸起交錯(cuò)設(shè)置并且沿行方向和列方向均相互交錯(cuò);
和/或,相鄰兩列梳排中的所述條形凸起交錯(cuò)設(shè)置并且沿行方向和列方向均相互交錯(cuò)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板母板,其特征在于,
平行于所述第一邊的梳排的長度等于所述第一邊的長度;
和/或,
平行于所述第二邊的梳排的長度等于所述第二邊的長度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板母板,其特征在于,
在一行梳排中,任意相鄰的兩個(gè)條形凸起之間的間隙均相同;
和/或,
在一列梳排中,任意相鄰的兩個(gè)條形凸起之間的間隙均相同。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示基板母板,其特征在于,
每個(gè)顯示區(qū)域的所述第一邊外側(cè)設(shè)置有多行梳排;其中,沿靠近于一個(gè)顯示區(qū)域的方向,每行梳排中的所述條形凸起的數(shù)量逐行增加,且每行梳排中的所述條形凸起之間的間隙逐行減小;
和/或,
每個(gè)顯示區(qū)域的所述第二邊外側(cè)設(shè)置有多列梳排;其中,沿靠近于一個(gè)顯示區(qū)域的方向,每列梳排中的所述條形凸起的數(shù)量逐列增加,且每列梳排中的所述條形凸起之間的間隙逐列減小。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示基板母板,其特征在于,
相鄰兩個(gè)顯示區(qū)域的相對(duì)的兩個(gè)第一邊之間設(shè)置有多行梳排,沿由兩相鄰邊向中間位置的方向,每行梳排中的所述條形凸起數(shù)量逐漸減小,且每行梳排中的所述條形凸起之間的間隙逐漸變大;
和/或,
相鄰兩個(gè)顯示區(qū)域的相對(duì)的兩個(gè)第二邊之間設(shè)置有多列梳排,沿由兩相鄰邊向中間位置的方向,每列梳排中的所述條形凸起數(shù)量逐漸減小,且每列梳排中的所述條形凸起之間的間隙逐漸變大。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示基板母板,其特征在于,
每行梳排中的所述條形凸起之間的間隙取值范圍為5~100μm;
和/或,
每列梳排中的所述條形凸起之間的間隙取值范圍為5~100μm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板母板,其特征在于,每個(gè)條形凸起沿與所述摩擦配向方向呈0~5°夾角的方向上的長度取值范圍為10~100μm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板母板,其特征在于,每個(gè)條形凸起沿與所述摩擦配向方向呈0~5°夾角的垂直方向上的寬度取值范圍為2.5~10μm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的顯示基板母板,其特征在于,所述顯示基板母板為陣列基板母板或彩膜基板母板。
10.一種顯示裝置,其特征在于,所述顯示裝置包括顯示基板;所述顯示基板為由如權(quán)利要求1至9任一項(xiàng)所述的顯示基板母板切割而成的多個(gè)顯示基板中的任一個(gè)。
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G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





