[發(fā)明專利]一種朱墨時序斷層成像檢驗儀

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610177569.4
• 申請日: 2016-03-25
• 公開（公告）號: CN105606564A
• 公開（公告）日: 2016-05-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 秦達;張寧;王曉光;黃威;黎智輝;郝紅光
• 申請（專利權(quán)）人: 公安部物證鑒定中心
• 主分類號: G01N21/359
• 分類號: G01N21/359;G01N21/3563
• 代理公司: 北京紀(jì)凱知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11245
• 代理人: 關(guān)暢;劉美麗

1.一種朱墨時序斷層成像檢驗儀，其特征在于，該成像檢驗儀包括一近紅外光源、 一分光部件、一參考臂光學(xué)器件、一樣品臂光學(xué)器件、一探測器和一數(shù)據(jù)采集處理裝 置；

所述近紅外光源發(fā)出的近紅外光通過所述分光部件分為參考光和樣品光，所述參 考光發(fā)送到所述參考臂光學(xué)器件，所述樣品光經(jīng)所述樣品臂光學(xué)器件聚焦朱墨樣品， 經(jīng)所述朱墨樣品散射或反射的光沿原路返回與經(jīng)所述參考臂光學(xué)器件出射的光發(fā)生干 涉，干涉光經(jīng)所述探測器發(fā)送到所述數(shù)據(jù)采集處理裝置。

2.如權(quán)利要求1所述的一種朱墨時序斷層成像檢驗儀，其特征在于，所述近紅外 光源采用中心波長為700nm～1500nm的寬譜帶近紅外光源，當(dāng)所述近紅外光源采用寬 譜帶近紅外光源時，還包括一光譜儀，所述干涉光經(jīng)所述光譜儀檢測參考光和樣品光 干涉后的干涉光光譜并發(fā)送到所述探測器。

3.如權(quán)利要求2所述的一種朱墨時序斷層成像檢驗儀，其特征在于，所述光譜儀 包括一光纖準(zhǔn)直器、一光柵和一透鏡組器，干涉光經(jīng)所述分光器件發(fā)送到所述光纖準(zhǔn) 直器，所述光纖準(zhǔn)直器將準(zhǔn)直后的光發(fā)射到所述光柵發(fā)生衍射生成若干圖像條紋，圖 像條紋經(jīng)所述透鏡組被所述探測器探測接收。

4.如權(quán)利要求1所述的一種朱墨時序斷層成像檢驗儀，其特征在于，所述近紅外 光源采用近紅外掃頻光源。

5.如權(quán)利要求1或2或3或4所述的一種朱墨時序斷層成像檢驗儀，其特征在于， 所述分光部件包括一光纖環(huán)形器和一耦合器，所述近紅外光源發(fā)出的近紅外光發(fā)射到 所述光纖環(huán)形器，經(jīng)所述光纖環(huán)形器出射的光經(jīng)所述耦合器按照設(shè)定的分光比分成兩 部分光。

6.如權(quán)利要求1或2或3或4所述的一種朱墨時序斷層成像檢驗儀，其特征在于， 所述分光部件采用2X2耦合器，所述近紅外光源發(fā)出的近紅外光發(fā)射到所述2X2耦合 器按照設(shè)定的分光比分成兩部分光。

7.如權(quán)利要求1或2或4所述的一種朱墨時序斷層成像檢驗儀，其特征在于，所 述參考臂光學(xué)器件包括一光纖準(zhǔn)直器、一聚焦透鏡和一平面反射鏡，經(jīng)所述分光器件 出射的一部分光分別經(jīng)所述光纖準(zhǔn)直器和聚焦透鏡聚焦到所述平面反射鏡，經(jīng)所述平 面反射鏡反射的光按照原光路返回。

8.如權(quán)利要求1或2或4所述的一種朱墨時序斷層成像檢驗儀，其特征在于，所 述樣品臂光學(xué)器件包括一光纖準(zhǔn)直器、一二維電動掃描系統(tǒng)、一物鏡系統(tǒng)和一樣品臺， 所述光纖準(zhǔn)直器將發(fā)散光束準(zhǔn)直為平行光發(fā)射到所述二維電動掃描系統(tǒng)，所述二維電 動掃描系統(tǒng)實現(xiàn)光束二維掃描并將二維光束分別發(fā)送到所述物鏡系統(tǒng)用于將光束聚焦 到所述朱墨樣品上，所述樣品臺用于承載和固定待識別朱墨時序的朱墨樣品。