[發明專利]一種氮化鋁基質的熒光陶瓷的制備方法及相關熒光陶瓷有效
| 申請號: | 201610160983.4 | 申請日: | 2016-03-18 |
| 公開(公告)號: | CN107200589B | 公開(公告)日: | 2021-07-23 |
| 發明(設計)人: | 李乾;許顏正 | 申請(專利權)人: | 深圳光峰科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C04B35/581 | 分類號: | C04B35/581;C04B35/622 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南山區粵*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 氮化 基質 熒光 陶瓷 制備 方法 相關 | ||
1.一種氮化鋁基質的熒光陶瓷的制備方法,其特征在于,依序包括以下步驟:
混料:將氮化鋁、熒光粉與研磨溶劑均勻混合,得到氮化鋁-熒光粉漿料,所述氮化鋁的粒徑為0.1~1μm,所述熒光粉的粒徑為10~30μm;所述粒徑為中位粒徑D50;
除雜:將所述氮化鋁-熒光粉漿料干燥,然后將其在有氧氣氛下煅燒,除去其中的水和有機物,獲得氮化鋁-熒光粉粉末;
熱處理:將所述氮化鋁-熒光粉粉末熱處理,得到熒光陶瓷,其中,該氮化鋁-熒光粉粉末在熱處理前和/或熱處理中經過5MPa以上高壓處理,使氮化鋁-熒光粉粉末保持致密,熱處理溫度為1500~1850℃,熱處理在無氧氣氛下進行。
2.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述熒光粉包括YAG:Ce3+或LuAG:Ce3+。
3.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述熒光粉占所述氮化鋁-熒光粉粉末的質量百分比為15~90%。
4.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述混料步驟包括,將氮化鋁、熒光粉、研磨溶劑、增稠劑和陶瓷分散劑混合后球磨。
5.根據權利要求4所述的制備方法,其特征在于,所述混料步驟包括,首先將所述氮化鋁與所述研磨溶劑、增稠劑和陶瓷分散劑混合球磨,然后加入所述熒光粉,進行二次球磨。
6.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,在所述熱處理步驟前,包括將所述氮化鋁-熒光粉粉末造粒的步驟,得到顆粒大小為50~200μm的氮化鋁-熒光粉粉末。
7.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述熱處理步驟中,熱處理在氮氣、氮氣氫氣混合氣、惰性氣體或真空氣氛下進行。
8.根據權利要求7所述的制備方法,其特征在于,所述熱處理步驟包括,將所述氮化鋁-熒光粉粉末在模具中5~40MPa一次高壓成型,然后在150~300MPa冷等靜壓二次高壓成型,取下模具,再將高壓成型后的氮化鋁-熒光粉粉末放入微波燒結爐,在1600~1850℃進行熱處理燒結。
9.根據權利要求7所述的制備方法,其特征在于,所述熱處理步驟包括,將所述氮化鋁-熒光粉粉末在模具中5~40MPa高壓預成型,然后將所述氮化鋁-熒光粉粉末連同模具一同放入熱壓燒結爐或放電等離子燒結爐中,在1500~1750℃進行熱處理燒結。
10.根據權利要求8或9所述的制備方法,其特征在于,在燒結步驟后,還包括對熒光陶瓷的還原處理步驟,該還原處理步驟在還原氣氛下進行,且還原處理步驟的溫度環境為1200~1650℃。
11.一種熒光陶瓷,其特征在于,該熒光陶瓷由權利要求1~10中任一項所述的制備方法制備。
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