[發(fā)明專利]一種生成多層結構型菜單面的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610160645.0 | 申請日: | 2016-03-21 |
| 公開(公告)號: | CN107220391A | 公開(公告)日: | 2017-09-29 |
| 發(fā)明(設計)人: | 曹中臣;張志輝;何麗婷;賴錦棠 | 申請(專利權)人: | 香港理工大學 |
| 主分類號: | G06F17/50 | 分類號: | G06F17/50;G06F17/15 |
| 代理公司: | 深圳市順天達專利商標代理有限公司44217 | 代理人: | 郭偉剛 |
| 地址: | 中國香港*** | 國省代碼: | 香港;81 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 生成 多層 結構 菜單 方法 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及功能表面加工技術領域,更具體的說,提出一種創(chuàng)新性的擺動進給拋光模式,并建立以理論模型為基礎的仿真系統(tǒng)來規(guī)劃和模擬多層結構型菜單面的生成。
背景技術
本發(fā)明技術開發(fā)利用機械拋光加工多層結構型菜單面的建模與仿真的方法與裝置。目前,針對多層結構型菜單面可能的加工方法主要有光刻技術、納米壓痕、離子束加工、激光蝕刻和電化學處理等方式,但是這些方法局限于特定的加工材料,并且具有加工周期長、操作復雜以及成本高等缺點。因此現(xiàn)有加工技術的各自缺陷使其不能滿足日益增高的加工精度的要求。現(xiàn)有拋光技術由于受到各種過程控制參數(shù)的影響具有很強的加工不確定性,常被用于表面的處理實現(xiàn)表面光潔度的控制而忽略面形誤差的影響。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術問題在于,提供一種生成多層結構型菜單面的方法,解決現(xiàn)有加工技術周期長、操作復雜以及成本高等缺點。
本發(fā)明涉及一種利用機械拋光生成多層結構型菜單面的方法,與現(xiàn)有拋光技術不同,所開發(fā)的技術是采用拋光過程來生成多層結構型菜單面,并同時保證表面質量。
本發(fā)明解決上述技術問題的技術方案為:提供一種生成多層結構型菜單面的方法,使用擺動進給拋光模式,利用機械拋光技術結合特定的拋光姿態(tài)和軌跡生成多層結構型菜單面。
在本發(fā)明提供的生成多層結構型菜單面的方法中,影響多層結構型菜單面的生成的因素包括拋光影響函數(shù),拋光路徑和拋光策略。
在本發(fā)明提供的生成多層結構型菜單面的方法中,通過改變不同的拋光參數(shù),得到對應指定的影響函數(shù),從而生成各種設計的多層結構型菜單面。
在本發(fā)明提供的生成多層結構型菜單面的方法中,影響函數(shù)的預測模型是基于接觸力學、運動分析理論、統(tǒng)計學理論以及摩擦磨損機理為基礎建立的;用來預測拋光過程中拋光影響函數(shù)的理論模型為:
其中,MRR(x,y,t)是位置點(x,y)處在拋光時間t內(nèi)的材料去除量;
N(kac,Vc,t,Rp,Ra,σz)是參與材料去除的有效磨粒的空間分布,與體積分數(shù)Vc、拋光時間t、磨料顆粒半徑Rp、拋光布粗糙半徑Ra、拋光布粗糙面高度的標準偏差σz和有效系數(shù)kac相關聯(lián);
是在拋光過程中單個顆粒的材料去除體積,與壓力分布速度分布拋光工件材料特性Hw、錐形顆粒半角β和有效磨損系數(shù)η相關聯(lián)。
在本發(fā)明提供的生成多層結構型菜單面的方法中,所述拋光路徑為擺動進給拋光模式,所述擺動進給拋光模式是指拋光主軸以拋光頭為基點,繞著被加工面法線方向,在設定的進給角度范圍內(nèi)做往復運動
在本發(fā)明提供的生成多層結構型菜單面的方法中,所述拋光策略主要包括:光柵式、螺旋式、希爾伯特的路徑、皮亞諾的路徑、利薩路徑、隨機路徑中的至少一種。
實施本發(fā)明,具有如下有益效果:
1、加工處理難加工材料(如鈦合金、工具鋼等)和脆性材料(如玻璃、陶瓷等),這些材料難以或者幾乎不可能用常規(guī)加工方法(如快刀伺服加工)來生成結構型表面;
2、通過調整影響函數(shù)和選擇適當拋光策略(或其組合)來生成更多類型的結構型或圖案型表面;
3、具有亞微米形狀精度、納米及埃米級表面光潔度的超高級表面質量的結構型表面。
附圖說明
為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術中的技術方案,下面將對實施例或現(xiàn)有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例,對于本領域普通技術人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
圖1拋光仿真系統(tǒng)的邏輯關系結構示意圖;
圖2(A)實驗測量和(B)模型仿真預測的拋光影響函數(shù)的三維拓撲形貌對比;
圖3拋光仿真系統(tǒng)通過改變拋光參數(shù)模擬仿真得到的不同類型多層結構型菜單面;圖3中(A)、(B)、(C)、(D)、(E)分別對應不同工件選取的變量拋光參數(shù);
圖4擺動進給機械拋光通過改變拋光參數(shù)實際生成的多層結構型菜單面拓撲形貌示意圖;圖4中(A)、(B)、(C)分別對應不同工件選取的變量拋光參數(shù);
圖5(A)拋光仿真系統(tǒng)預測和(B)實驗測量多層結構型菜單面的拓撲形貌對比;
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