[發明專利]一種掩膜板清洗系統

有效

• 申請號: 201610160542.4
• 申請日: 2016-03-21
• 公開（公告）號: CN105652588B
• 公開（公告）日: 2020-04-24
• 發明（設計）人: 黃文同;胡靜;李亞文;汪雄
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;合肥京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G03F1/82
• 分類號: G03F1/82
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 劉悅晗;陳源

本發明提供一種掩膜板清洗系統，包括：夾具和薄膜保護裝置，所述夾具用于水平懸空夾持掩膜板；所述薄膜保護裝置設置在所述夾具的下方，用于遮擋設置在掩膜板下表面的薄膜，并與薄膜四周的掩膜板的下表面連接，以防止用于沖洗掩膜板的沖洗液污染所述薄膜，減小掩膜板的清潔工序對工人的依賴，提高掩膜板生產的良品率，并為實現機械化、規模化的掩膜板清潔工序提供保障。

技術領域

本發明涉及半導體設備制造技術領域，具體涉及一種掩膜板清洗系統。

背景技術

近年來TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜晶體管液晶顯示器)已經在顯示領域得到廣泛的應用，在液晶屏生產制造過程中，薄膜晶體管陣列基板的生產是頗為重要的一環，而光刻所用的掩膜板作為TFT制作的核心“道具”，其保養和維護顯得尤為重要。

由于工廠內部微小粉塵和揮發氣體的存在，使得掩膜板必須定期進行系統的清潔除靜電處理。目前工廠內部基本上都使用離子風槍、離子棒進行去顆粒處理，而對于頑固污漬，一般使用高等級無塵布蘸清水或者異丙醇(IPA)進行浸泡擦拭。另外，用于制作薄膜晶體管(TFT)的掩膜板的底部都會使用特殊的薄膜(Pellicle)保護掩膜板下表面的TFT圖案，以阻止顆粒和工廠內揮發氣體的污染。

現有的掩膜板清潔過程均由人工手動操作實現，在清洗過程中，人工操作失誤發生幾率較大，容易造成對Pellicle的污染，一旦Pellicle上粘上不明液態污漬，則會造成曝光過程中的焦距變化和穿透率失真。而對Pellicle的保護只能依賴于人員的細心和經驗，使得掩膜板的良品率較低。

因此，亟需一種掩膜板清洗系統以解決上述技術問題。

發明內容

本發明針對現有技術中存在的上述不足，提供一種掩膜板清洗系統，用以解決掩膜板下方的薄膜容易污染的問題。

本發明為解決上述技術問題，采用如下技術方案：

本發明提供一種掩膜板清洗系統，包括：夾具和薄膜保護裝置，所述夾具用于水平懸空夾持掩膜板；

所述薄膜保護裝置設置在所述夾具的下方，用于遮擋設置在掩膜板下表面的薄膜，并與薄膜四周的掩膜板的下表面連接，以防止用于沖洗掩膜板的沖洗液污染所述薄膜。

優選的，所述薄膜保護裝置包括真空連接機構和腔體，所述腔體內部中空且開口向上，所述腔體的開口處沿所述開口設置有開口向上的凹槽；

所述真空連接機構與所述凹槽相連，用于在所述凹槽內形成真空，并借助真空將所述腔體的開口與薄膜四周的掩膜板的下表面貼合并連接。

優選的，所述凹槽內設置有多個真空孔；

所述真空連接機構包括：氣體總管、配氣盤和多個氣體支管，所述氣體支管與所述真空孔一一對應且相連，配氣盤設置于所述腔體的底部，與所述氣體總管和氣體支管相連。

優選的，所述凹槽內設置有密封膠。

進一步的，所述薄膜保護裝置還包括升降機構，所述升降機構用于豎直升降所述腔體和真空連接機構。

優選的，所述掩膜板包括石英載體和圖案化的掩膜板本體，所述掩膜板本體位于所述石英載體的下表面，所述薄膜覆蓋所述掩膜板本體；

所述石英載體的上表面和側面的交界處設置有倒角。

優選的，所述倒角為30-60度。

優選的，所述石英載體的上表面和所述倒角的表面采用親水性處理；和/或，所述石英載體的側面采用疏水性處理。

優選的，所述夾具包括第一夾持機構和第二夾持機構，第一夾持機構和第二夾持機構分別從所述掩膜板的兩側夾持并固定所述掩膜板；