[發明專利]一種掩膜板清洗系統

有效

• 申請號: 201610160542.4
• 申請日: 2016-03-21
• 公開（公告）號: CN105652588B
• 公開（公告）日: 2020-04-24
• 發明（設計）人: 黃文同;胡靜;李亞文;汪雄
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;合肥京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G03F1/82
• 分類號: G03F1/82
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 劉悅晗;陳源

1.一種掩膜板清洗系統，其特征在于，包括：夾具和薄膜保護裝置，所述夾具用于水平懸空夾持掩膜板；

所述薄膜保護裝置設置在所述夾具的下方，用于遮擋設置在掩膜板下表面的薄膜，并與薄膜四周的掩膜板的下表面連接，以防止用于沖洗掩膜板的沖洗液污染所述薄膜；

所述薄膜保護裝置包括腔體，所述腔體內部中空且開口向上，所述開口的尺寸大于所述薄膜的尺寸；

所述掩膜板包括石英載體和圖案化的掩膜板本體，所述掩膜板本體位于所述石英載體的下表面，所述薄膜覆蓋所述掩膜板本體，石英載體的尺寸大于掩膜板本體的尺寸，且石英載體的尺寸大于所述開口的尺寸。

2.如權利要求1所述的掩膜板清洗系統，其特征在于，所述薄膜保護裝置還包括真空連接機構，所述腔體的開口處沿所述開口設置有開口向上的凹槽；

所述真空連接機構與所述凹槽相連，用于在所述凹槽內形成真空，并借助真空將所述腔體的開口與薄膜四周的掩膜板的下表面貼合并連接。

3.如權利要求2所述的掩膜板清洗系統，其特征在于，所述凹槽內設置有多個真空孔；

所述真空連接機構包括：氣體總管、配氣盤和多個氣體支管，所述氣體支管與所述真空孔一一對應且相連，配氣盤設置于所述腔體的底部，與所述氣體總管和氣體支管相連。

4.如權利要求2所述的掩膜板清洗系統，其特征在于，所述凹槽內設置有密封膠。

5.如權利要求2所述的掩膜板清洗系統，其特征在于，所述薄膜保護裝置還包括升降機構，所述升降機構用于豎直升降所述腔體和真空連接機構。

6.如權利要求1所述的掩膜板清洗系統，其特征在于，所述石英載體的上表面和側面的交界處設置有倒角。

7.如權利要求6所述的掩膜板清洗系統，其特征在于，所述倒角為30-60度。

8.如權利要求6所述的掩膜板清洗系統，其特征在于，所述石英載體的上表面和所述倒角的表面采用親水性處理；和/或，所述石英載體的側面采用疏水性處理。

9.如權利要求1所述的掩膜板清洗系統，其特征在于，所述夾具包括第一夾持機構和第二夾持機構，第一夾持機構和第二夾持機構分別從所述掩膜板的兩側夾持并固定所述掩膜板；

所述第一夾持機構和第二夾持機構包括：驅動裝置以及水平設置的翼板、第一手臂、第二手臂、第一導軌和第二導軌，所述第一手臂與第二手臂分別與所述翼板的兩端相連，并能夠分別在第一導軌和第二導軌內滑動伸縮；所述第一手臂和第二手臂的用于夾持所述掩膜板的夾持端設置有用于限制所述第一手臂和第二手臂水平位移大小的止擋部件；

所述驅動裝置與所述翼板相連，用于驅動所述翼板水平移動，并同時帶動所述第一手臂和第二手臂分別在第一導軌和第二導軌內滑動，以使所述止擋部件抵靠住所述掩膜板的側面。

10.如權利要求9所述的掩膜板清洗系統，其特征在于，所述驅動裝置為齒輪齒條驅動裝置。

11.如權利要求9所述的掩膜板清洗系統，其特征在于，所述止擋部件包括第一擋板和第二擋板，第一擋板和第二擋板垂直設置在所述第一手臂和第二手臂的上表面，且第一擋板鄰近所述第一手臂和第二手臂的夾持端的端部；

所述第一擋板的高度小于所述第二擋板的高度，所述第一擋板的彈性大于所述第二擋板的彈性。

12.如權利要求11所述的掩膜板清洗系統，其特征在于，所述第一手臂和第二手臂的用于夾持所述掩膜板的夾持端還設置有用于支撐所述掩膜板的墊塊，所述墊塊位于所述第一手臂和第二手臂的夾持端的端部與所述第一擋板之間。