[發明專利]產生掩膜圖案的系統和方法以及曝光系統有效
| 申請號: | 201610158206.6 | 申請日: | 2016-03-18 |
| 公開(公告)號: | CN105607413B | 公開(公告)日: | 2019-11-01 |
| 發明(設計)人: | 李太亮;孫俊民;丁洪利;關紅濤 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/76 | 分類號: | G03F1/76;G03F7/20 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 范心田 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 產生 圖案 系統 方法 以及 曝光 | ||
1.一種用于產生掩膜圖案的系統,包括:
掩膜圖案提供設備,配置為通過有線或無線網絡提供掩膜圖案信號;
掩膜圖案傳送設備,配置為對所述掩膜圖案提供設備提供的所述掩膜圖案信號進行處理,以產生掩膜圖案信息,并且通過射頻標識“RFID”信號傳送產生的掩膜圖案信息;以及
掩膜圖案產生設備,配置為基于所述掩膜圖案信息,產生與所述掩膜圖案信息對應的掩膜圖案并顯示;
其中,所述掩膜圖案傳送設備包括RFID控制器,配置為向所述掩膜圖案產生設備發送所述RFID信號,以向所述掩膜圖案產生設備供電并傳送所述掩膜圖案信息,
其中所述RFID信號包括所述掩膜圖案信息和用于對所述掩膜圖案產生設備供電的電能信號。
2.根據權利要求1所述的系統,其中,所述掩膜圖案提供設備是本地PC或移動設備。
3.根據權利要求1所述的系統,其中,所述有線網絡是互聯網、局域網、廣域網、電信網絡中的至少一個。
4.根據權利要求1所述的系統,其中,所述無線網絡是3G網絡、4G網絡、LTE網絡、WiFi網絡、藍牙網絡和NFC網絡中的至少一個。
5.根據權利要求1所述的系統,其中,所述掩膜圖案傳送設備還包括:
云端和/或網關,配置為對所述掩膜圖案提供設備提供的所述掩膜圖案信號進行處理。
6.根據權利要求1所述的系統,其中,所述掩膜圖案產生設備包括:
射頻模塊,配置為讀取所述RFID控制器發送的所述RFID信號;
儲能模塊,配置為存儲所述RFID信號中的電能信號;
信息處理模塊,配置為將所述RFID信號中的所述掩膜圖案信息解析成掩膜圖案數據;
存儲模塊,配置為存儲并更新為與所述掩膜圖案數據相對應的掩膜圖案;以及
顯示模塊,用于顯示由所述存儲模塊更新后的掩膜圖案。
7.根據權利要求6所述的系統,其中,所述掩膜圖案數據是二進制數、八進制數或十六進制數。
8.根據權利要求6所述的系統,其中,所述儲能模塊存儲能夠更新所述顯示模塊顯示的掩膜圖案的電能。
9.根據權利要求6所述的系統,其中,所述儲能模塊還配置為利用所述電能信號,對所述信息處理模塊、所述存儲模塊以及所述顯示模塊供電。
10.根據權利要求6所述的系統,其中,所述顯示模塊是電子墨水屏。
11.一種用于產生掩膜圖案的方法,包括:
由掩膜圖案提供設備,通過有線或無線網絡提供掩膜圖案信號;
由掩膜圖案信息傳送設備,對掩膜圖案提供設備提供的掩膜圖案信號進行處理,以產生掩膜圖案信息,并且通過射頻標識“RFID”信號傳送掩膜圖案信息;以及
由掩膜圖案產生設備,基于來自掩膜圖案信息傳送設備的掩膜圖案信息,產生與所述掩膜圖案信息對應的掩膜圖案并顯示;
其中,所述“RFID”信號包括所述掩膜圖案信息和用于對所述掩膜圖案產生設備供電的電能信號。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





