[發(fā)明專利]基于表面波倏逝場的痕量液體或氣體折射率測量裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610155589.1 | 申請日: | 2016-03-18 |
| 公開(公告)號: | CN105628651A | 公開(公告)日: | 2016-06-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉建華;張克;陶李 | 申請(專利權(quán))人: | 復(fù)旦大學(xué) |
| 主分類號: | G01N21/41 | 分類號: | G01N21/41 |
| 代理公司: | 上海正旦專利代理有限公司 31200 | 代理人: | 陸飛;盛志范 |
| 地址: | 200433 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 表面波 倏逝場 痕量 液體 氣體 折射率 測量 裝置 | ||
1.一種基于表面波倏逝場強度變化的痕量液體或氣體折射率測量裝置,其特征在于 包括:一個復(fù)合平面光波導(dǎo)、棱鏡耦合機構(gòu),、表面波倏逝場測量機構(gòu);其中,所述復(fù)合平面 光波導(dǎo)由波導(dǎo)襯底層(3)、導(dǎo)流層(5)、玻璃基底(7)、周期性介質(zhì)膜層(8)、波導(dǎo)覆蓋層(9) 從下往上依次復(fù)合構(gòu)成;所述棱鏡耦合機構(gòu)由測量光束(1)及半柱形耦合透鏡(2)構(gòu)成,該 半柱形耦合透鏡(2)與波導(dǎo)襯底層(3)配合連接;所述表面波倏逝場測量機構(gòu)由錐形光纖探 頭(10)、傳導(dǎo)光纖(11)及光電測量系統(tǒng)(12)依次連接構(gòu)成;導(dǎo)流層(5)有接入口(4)和接出 口(6),待測液體或氣體經(jīng)由接入口(4)進入波導(dǎo)結(jié)構(gòu)內(nèi),由接出口(6)導(dǎo)出。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其特征在于:所述測量光束(1)為連續(xù)或脈沖激光光束。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的裝置,其特征在于:所述半柱形耦合透鏡(2)材料為高折射 率玻璃,用于將測量光束以倏逝場的形式耦合入與其相鄰的波導(dǎo)襯底層(3)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置,其特征在于:所述波導(dǎo)襯底層(3)采用透明低折射率材 料。
5.根據(jù)權(quán)利要求1、2或4所述的裝置,其特征在于:所述導(dǎo)流層(5)為一上下方平行的 空隙,用于容納待測液體或氣體。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置,其特征在于:所述的周期性介質(zhì)膜層(8)為高、低折射 率材料交替的周期薄膜層及其附加層,采用介質(zhì)材料,如氧化鉭/石英交替的周期結(jié)構(gòu)薄膜 層,或聚合物材料交替的周期結(jié)構(gòu)薄膜層。
7.根據(jù)權(quán)利要求1、2、4或6所述的裝置,其特征在于:所述的波導(dǎo)覆蓋層(9)材料采用 玻璃或聚合物材料,其折射率低于周期性介質(zhì)膜層(8)的折射率。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置,其特征在于:所述的錐形光纖探頭(10)采用多模或單模 光纖制備,其折射率高于波導(dǎo)覆蓋層(9)的折射率。
9.根據(jù)權(quán)利要求1、2、4、6或8所述的裝置,其特征在于:所述的傳導(dǎo)光纖(11)為一多模 或單模光纖,用于傳輸從光纖探頭(10)耦合出的光。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置,其特征在于:所述的光電測量系統(tǒng)(12)為一套光電轉(zhuǎn) 換及測量顯示系統(tǒng),包括光電倍增管、數(shù)模轉(zhuǎn)換、數(shù)據(jù)采集及電腦,用于測量和分析由傳導(dǎo) 光纖(11)傳輸而來的光強。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





