[發(fā)明專利]像素缺陷的處理方法及處理系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610151029.9 | 申請日: | 2016-03-16 |
| 公開(公告)號: | CN105607313B | 公開(公告)日: | 2019-01-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 胡慧敏;陳中明 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/13 | 分類號: | G02F1/13 |
| 代理公司: | 深圳市銘粵知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44304 | 代理人: | 孫偉峰;武岑飛 |
| 地址: | 430070 湖北省武漢市*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 像素 缺陷 處理 方法 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明提供了一種像素缺陷的處理方法,其包括:檢測出顯示面板上的缺陷可疑像素;對缺陷可疑像素進行點過濾處理。本發(fā)明還提供了一種像素缺陷的處理系統(tǒng),其利用所述像素缺陷的處理方法對顯示面板上的缺陷可疑像素進行處理。根據(jù)本發(fā)明的像素缺陷的處理方法及處理系統(tǒng),當(dāng)對顯示面板上的像素進行缺陷檢查時,既不會出現(xiàn)漏檢、誤檢的情形,也不會出現(xiàn)檢查溢出現(xiàn)象。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域,具體地講,涉及一種像素缺陷的處理方法及處理系統(tǒng)。
背景技術(shù)
彩膜自動光學(xué)檢查機(CF AOI)主要負責(zé)對彩色濾光片基板(CF基板)上的像素進行微觀不良檢查,即計算像素的微觀缺陷的大小、數(shù)量、類型,從而判斷彩色濾光片基板的質(zhì)量是否符合要求。
彩膜自動光學(xué)檢查機的檢查原理為:利用諸如電荷耦合元件CCD收集彩色濾光片基板曝光顯影后的圖像信息,將檢查點位像素的圖像信息與其它像素的圖像信息進行比對,根據(jù)對比結(jié)果判斷各個像素是否有缺陷。
然而,現(xiàn)有的彩膜自動光學(xué)檢查機在檢查高分辨率彩色濾光片基板時,由于彩色濾光片基板上的黑色矩陣的線寬較窄,為了使彩色濾光片基板不泄露光線,制作像素的彩色光阻(即紅色光阻、藍色光阻、綠色光阻)的重疊現(xiàn)象不可避免。這樣,在彩色光阻的重疊區(qū)域,彩膜自動光學(xué)檢查機在檢查時極易將正常像素確定為缺陷像素,從而導(dǎo)致彩膜自動光學(xué)檢查機產(chǎn)生溢出(overflow)現(xiàn)象,即彩膜自動光學(xué)檢查機將正常像素確定為缺陷像素之后,使檢查出的缺陷像素的數(shù)量(其包含實際為正常像素的數(shù)量)超過彩膜自動光學(xué)檢查機內(nèi)設(shè)的上限缺陷像素數(shù)量的現(xiàn)象。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問題,本發(fā)明的目的在于提供一種像素缺陷的處理方法,其包括:檢測出顯示面板上的缺陷可疑像素;對缺陷可疑像素進行點過濾處理。
進一步地,對缺陷可疑像素進行點過濾處理的具體方法包括:確定環(huán)繞包圍缺陷可疑像素的上像素、下像素、左像素、右像素、左上像素、右上像素、左下像素、右下像素;判斷環(huán)繞包圍缺陷可疑像素的上像素、下像素、左像素、右像素、左上像素、右上像素、左下像素、右下像素中是否存在至少兩個為缺陷可疑像素;其中,若不存在,則將被環(huán)繞包圍的缺陷可疑像素過濾掉;若存在,則將被環(huán)繞包圍的缺陷可疑像素保留。
進一步地,對缺陷可疑像素進行點過濾處理之后,所述像素缺陷的處理方法還包括:對經(jīng)點過濾處理后被保留的缺陷可疑像素進行細線過濾處理。
進一步地,對經(jīng)點過濾處理后被保留的缺陷可疑像素進行細線過濾處理的具體方法包括:判斷經(jīng)點過濾處理后被保留的缺陷可疑像素中是否存在至少兩個缺陷可疑像素相鄰;若不存在,則將未與其他缺陷可疑像素相鄰的缺陷可疑像素過濾掉;若存在,則將相鄰的缺陷可疑像素保留。
進一步地,對經(jīng)點過濾處理后被保留的缺陷可疑像素進行細線過濾處理之后,所述像素缺陷的處理方法還包括:對經(jīng)細線過濾處理后被保留的缺陷可疑像素進行微小收縮處理;對經(jīng)微小收縮處理后被保留的缺陷可疑像素進行微小膨脹處理。
進一步地,對經(jīng)細線過濾處理后被保留的缺陷可疑像素進行微小收縮處理的具體方法包括:確定與對經(jīng)細線過濾處理后被保留的缺陷可疑像素相鄰的上像素、下像素、左像素和右像素;判斷與對經(jīng)細線過濾處理后被保留的缺陷可疑像素相鄰的上像素、下像素、左像素和右像素是否都為缺陷可疑像素;若是,則保留對經(jīng)細線過濾處理后被保留的缺陷可疑像素;若否,則將對經(jīng)細線過濾處理后被保留的缺陷可疑像素過濾掉。
進一步地,對經(jīng)微小收縮處理后被保留的缺陷可疑像素進行微小膨脹處理的具體方法包括:將與對經(jīng)微小收縮處理后被保留的缺陷可疑像素相鄰的上像素、下像素、左像素和右像素均確定為缺陷像素,并保留。
進一步地,對經(jīng)點過濾處理后被保留的缺陷可疑像素進行細線過濾處理之后,所述像素缺陷的處理方法還包括:對經(jīng)細線過濾處理后被保留的缺陷可疑像素進行收縮處理;對經(jīng)微小收縮處理后被保留的缺陷可疑像素進行膨脹處理。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





