[發明專利]一種應用氧化電位水對乳制品生產設備進行原位清洗的系統裝置和方法在審
| 申請號: | 201610141349.6 | 申請日: | 2016-03-14 |
| 公開(公告)號: | CN107185894A | 公開(公告)日: | 2017-09-22 |
| 發明(設計)人: | 張曉君;曹宏芳;王彩云;劉卉芳;云戰友 | 申請(專利權)人: | 內蒙古伊利實業集團股份有限公司 |
| 主分類號: | B08B3/04 | 分類號: | B08B3/04;B08B3/08;B08B3/10;A61L2/18 |
| 代理公司: | 北京正理專利代理有限公司11257 | 代理人: | 張文祎,趙曉丹 |
| 地址: | 010110 內蒙古自*** | 國省代碼: | 內蒙古;15 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 應用 氧化 電位 乳制品 生產 設備 進行 原位 清洗 系統 裝置 方法 | ||
1.一種應用氧化電位水對乳制品生產設備進行原位清洗的系統裝置,其特征在于:所述系統裝置包括氧化電位水生成機(1)、回收水罐(2)、堿水罐(3)、酸水罐(4)、清水罐(5)以及清洗目標(6);所述氧化電位水生機(1)生成的酸性氧化電位水通過第一泵(7)經第一主管道(26)注入酸水罐(4)的入水口;所述氧化電位水生機(1)生成的堿性氧化電位水通過第二泵(8)經第二主管道(27)注入堿水罐(3)的入水口;所述回收水罐(2)、堿水罐(3)、酸水罐(4)和清水罐(5)的出水口分別通過第一支管道(30)、第二支管道(31)、第三支管道(32)和第四支管道(33)與第三主管道(28)的一端相連,第三主管道(28)的另一端通過第三泵(9)與清洗目標(6)的入水口連接;清洗目標(6)的出水口通過第四泵(10)與第四主管道(29)的一端相連,第四主管道(29)的另一端分別通過第五支管道(34)、第六支管道(35)、第七支管道(36)和第八支管道(37)連接清水罐(5)、酸水罐(4)、堿水罐(3)和回收水罐(2)的入水口;所述回收水罐(2)和清水罐(5)的入水口分別設置有第一清水補充管道(38)和第二清水補充管道(39);所述第四主管道(29)和第五支管道(34)之間設有第九支管道(24),所述第九支管道(24)連接地漏(21)。
2.根據權利要求1所述的一種應用氧化電位水對乳制品生產設備進行原位清洗的系統裝置,其特征在于:所述氧化電位水生成機(1)的入水口處設有第一閥門(11);所述回收水罐(2)、堿水罐(3)、酸水罐(4)和清水罐(5)的出水口處分別設有第二閥門(12)、第三閥門(13)、第四閥門(14)和第五閥門(15);所述回收水罐(2)、堿水罐(3)、酸水罐(4)和清水罐(5)的入水口處分別設有第六閥門(19)、第七閥門(18)、第八閥門(17)和第九閥門(16);所述第一清水補充管道(38)和第二清水補充管道(39)上分別設有第十一閥門(22)和第十二閥門(23);所述第九支管道(24)上設有第十閥門(20);所述第三閥門(13)和第四閥門(14)前分別設有過濾裝置。
3.根據權利要求1所述的一種應用氧化電位水對乳制品生產設備進行原位清洗的系統裝置,其特征在于:所述堿水罐(3)內部設有溫度傳感器和加熱裝置(25),將堿水罐內的溫度控制在50-70℃。
4.根據權利要求3所述的一種應用氧化電位水對乳制品生產設備進行原位清洗的系統裝置,其特征在于:所述加熱裝置(25)為電加熱裝置或者蒸 汽加熱裝置。
5.根據權利要求1所述的一種應用氧化電位水對乳制品生產設備進行原位清洗的系統裝置,其特征在于:所述回收水罐(2)、堿水罐(3)、酸水罐(4)和清水罐(5)均設有高低液位開關;所述堿水罐(3)、酸水罐(4)中高低液位開關控制氧化電位水生成機(1)、第一閥門(11)、第一泵(7)及第二泵(8)的啟動及關閉。
6.根據權利要求1所述的一種應用氧化電位水對乳制品生產設備進行原位清洗的系統裝置,其特征在于:所述堿水罐(3)采用不銹鋼保溫罐;所述酸水罐(4)及第一主管道(26)的材質為PVC或者塑料,密封且不透光;所述回收水罐(2)及清水罐(5)為單層不銹鋼罐。
7.根據權利要求1所述的一種應用氧化電位水對乳制品生產設備進行原位清洗的系統裝置,其特征在于:所述清洗目標(6)為乳制品生產設備中的“冷設備”;所述乳制品生產設備中的“冷設備”包括罐體、均質機、板式換熱器和管路。
8.采用如權利要求1-7任一所述的系統裝置應用氧化電位水對乳制品生產設備進行原位清洗的方法,其特征在于:包括如下步驟:
1)采用氧化電位水生成機生成氧化電位水,將酸性氧化電位水注入酸水罐,將堿性氧化電位水注入堿水罐;
2)采用回收水罐中的回收水沖洗設備,將設備中殘留的料液沖出;
3)采用堿水罐中的50-70℃堿性氧化電位水將設備中的回收水頂出,然后用50~70℃堿性氧化電位水對設備進行循環清洗;
4)采用清水罐中的清水將設備中的堿性氧化電位水全部頂出;
5)采用酸水罐中的20-40℃酸性氧化電位水將設備中的清水頂出,然后用20~40℃酸性氧化電位水對設備進行循環沖洗;
6)采用清水罐中的清水對設備進行沖洗,將設備中的酸性氧化電位水全部頂出。
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