[發明專利]一種陣列基板的制造方法、陣列基板及顯示裝置

有效

• 申請號: 201610134916.5
• 申請日: 2016-03-09
• 公開（公告）號: CN105633015B
• 公開（公告）日: 2018-04-17
• 發明（設計）人: 沈世妃;李正勛;宋泳珍;房毛毛;候建新
• 申請（專利權）人: 合肥京東方顯示技術有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H01L21/77
• 分類號: H01L21/77;H01L27/12
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司11291
• 代理人: 黃志華

1.一種陣列基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：

在襯底基板上形成薄膜晶體管；

通過半色調掩模構圖工藝，在薄膜晶體管的前側形成具有過孔的鈍化層，及在所述鈍化層的前側形成隔墊物；

所述制造方法還包括：在所述隔墊物的前側形成覆蓋所述隔墊物表面的保護層；

在形成所述保護層的同時，形成與所述保護層材質相同的像素電極，所述像素電極穿過所述過孔與所述薄膜晶體管的源極連接；

其中，所述通過半色調掩模構圖工藝，在薄膜晶體管的前側形成具有過孔的鈍化層，及在所述鈍化層的前側形成隔墊物，具體包括：

在薄膜晶體管前側形成鈍化層薄膜；

在鈍化層薄膜前側形成光刻膠；

使用具有全透光區、半透光區和遮光區的掩模板對基板進行曝光，其中，全透光區與基板預形成過孔的區域位置相對，遮光區與基板預形成隔墊物的區域位置相對；

對曝光后的基板進行顯影處理；

對顯影處理后的基板進行刻蝕和灰化處理，形成具有過孔的鈍化層及在所述鈍化層的前側形成隔墊物。

2.一種陣列基板，其特征在于，包括鈍化層，所述鈍化層的前側具有隔墊物；

所述陣列基板還包括：形成在所述隔墊物的前側且覆蓋所述隔墊物表面的保護層；以及

與在形成所述保護層同時形成且與所述保護層材質相同的像素電極。

3.如權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述隔墊物為有機膜隔墊物。

4.如權利要求2所述的陣列基板，其特征在于，所述隔墊物為光刻膠隔墊物。

5.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求2～4任一項所述的陣列基板。