[發(fā)明專利]一種高強(qiáng)度保護(hù)玻璃的強(qiáng)化方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610123670.1 | 申請(qǐng)日: | 2016-03-04 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105645785B | 公開(公告)日: | 2018-11-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 宮汝華;沈子涵;展貴鑫;任書明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 四川旭虹光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C03C21/00 | 分類號(hào): | C03C21/00;C03C15/00 |
| 代理公司: | 成都行之專利代理事務(wù)所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 譚新民 |
| 地址: | 621000 四川*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 強(qiáng)度 保護(hù) 玻璃 強(qiáng)化 方法 | ||
1.一種高強(qiáng)度保護(hù)玻璃的強(qiáng)化方法,其特征在于:將玻璃經(jīng)過精雕機(jī)進(jìn)行磨邊、倒角、打孔處理后,再進(jìn)行超聲波清洗、微蝕刻處理、化學(xué)強(qiáng)化處理,還包括化學(xué)強(qiáng)化預(yù)處理,所述化學(xué)強(qiáng)化預(yù)處理可以在精雕機(jī)磨邊、倒角、打孔處理后、超聲波清洗之前或者在微蝕刻處理和化學(xué)強(qiáng)化處理之間,采用化學(xué)強(qiáng)化預(yù)處理的方法去除玻璃表面肉眼不可見暗室強(qiáng)光可見的印跡,該化學(xué)強(qiáng)化預(yù)處理的方法為將玻璃放置于硝酸鉀熔鹽中進(jìn)行高溫預(yù)處理,溫度為380℃~400℃,時(shí)間為2~30min。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的強(qiáng)化方法,其特征在于:微蝕刻處理使用的微蝕刻介質(zhì)包含以下組分,以質(zhì)量百分比表示,HF:1%~5%,H2SO4 :1%~8%,HNO3 :0%~5%,同時(shí)HF+ H2SO4+ HNO3+ HCL總量7%~12%,其余為純水。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的強(qiáng)化方法,其特征在于:微蝕刻處理時(shí)間為2~15min。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的強(qiáng)化方法,其特征在于:超聲波清洗具體為用8-10wt%的堿液初洗,清洗時(shí)間為5分鐘;再用4-6wt%堿液精洗,清洗時(shí)間為5分鐘;再用純水漂洗,清洗時(shí)間為20~25分鐘,純水為12~18兆;純水清洗后慢拉脫水再風(fēng)干。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的強(qiáng)化方法,其特征在于:化學(xué)強(qiáng)化預(yù)處理的溫度為390℃~400℃,時(shí)間為2~10min。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的強(qiáng)化方法,其特征在于:化學(xué)強(qiáng)化處理具體為將玻璃放入鋼化液中進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化,化學(xué)強(qiáng)化溫度為380℃~430℃,化學(xué)強(qiáng)化時(shí)間為4~8小時(shí)。
7.如權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的強(qiáng)化方法制得的強(qiáng)化玻璃,其特征在于:玻璃雙面微蝕刻厚度為18~25μm,化學(xué)強(qiáng)化玻璃表面壓應(yīng)力為820~880Mpa,壓應(yīng)力層深度為30~50μm。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的強(qiáng)化玻璃,其特征在于:以質(zhì)量百分比表示,包括以下組分:SiO2 :60~65%、Al2O3:11~17%、K2O:0.2%~6.8%、ZrO2:0%~1.8%,同時(shí)SiO2 + Al2O3+Na2O+K2O+MgO+ ZrO2+ CaO的總量以質(zhì)量百分比表示應(yīng)該在89%~100%。
9.由權(quán)利要求8的強(qiáng)化玻璃制得的帶有顯示設(shè)備的電子器件的屏幕保護(hù)面板或者電子設(shè)備外罩的玻璃蓋。
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