[發明專利]一種孔道填充型分子/離子雙位點印跡聚合物的制備方法

有效

• 申請號: 201610123574.7
• 申請日: 2016-03-04
• 公開（公告）號: CN105749879B
• 公開（公告）日: 2018-08-10
• 發明（設計）人: 劉樹成;潘建明;朱恒佳;周永超;姚俊彤;苑東
• 申請（專利權）人: 江蘇大學
• 主分類號: B01J20/26
• 分類號: B01J20/26;B01J20/28
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種孔道填充型分子/離子雙位點印跡聚合物，其特征在于，所述聚合物具有多級孔結構，具有雙重識別能力；所述聚合物按照以下步驟進行：

S1.乙烯基硅球的制備：

(1) 將無水乙醇加入到燒瓶中，再將氨水和水的混合溶液加入到無水乙醇溶液中，輕微攪拌后，將一定量的正硅酸四乙酯加入到反應體系中，磁子攪拌下反應；用無水乙醇洗滌離心，真空烘干后得到實心硅球粒子；

(2) 將烘干的實心硅球粒子和甲苯加入到燒瓶中，再將3-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷加入燒瓶中，并在機械攪拌下反應，然后用無水乙醇洗滌離心，真空烘干得到乙烯基硅球；S2. 分子印跡泡沫引發劑的制備：

首先，將丙烯酰胺、2,2'-偶氮二已丁腈、三氟氯氰菊酯、甲基丙烯酸甲酯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯、二乙烯基苯和氯甲基苯乙烯按比例加入到燒瓶中，并在機械攪拌下反應；將步驟S1得到的乙烯基硅球加入到燒瓶中，攪拌反應；然后乳化劑2296加入到上述燒瓶中攪拌，然后將二水氯化鈣溶液在冰水浴條件下逐滴加入反應體系中反應后得到油包水高內相乳液；得到的油包水高內相乳液聚合反應后在甲醇與醋酸的混合溶液下回流反應；最后真空烘干得到分子印跡泡沫引發劑；

其中，所述丙烯酰胺、2,2'-偶氮二已丁腈、三氟氯氰菊酯、甲基丙烯酸甲酯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯、二乙烯基苯和氯甲基苯乙烯的用量比例為：1 g:10-20 g:10-20 g:5-20mL:20-30 mL: 20-30 mL:50-100 mL;

S3.分子和離子印跡聚合物的制備：

將氯化銅和4-乙烯基吡啶加入到環己酮溶液中，然后將分子印跡泡沫引發劑加入環已酮溶液中，通氮氣，得到的混合溶液在避光條件下攪拌；隨后，在機械攪拌條件下，氯化亞銅和N,N,N',N'',N''-五甲基二亞乙基三胺作為催化系統加入到混合溶液中；最后用四氫呋喃超聲洗掉雜質，然后在用甲醇與醋酸的混合溶液清洗雜質，回流反應，最后真空烘干；

步驟S3中所述的氯化銅和4-乙烯基吡啶的比例為1 mg:2-10 mL；所述加入的分子印跡泡沫引發劑和氯化銅的質量比為5-20：1。

2.根據權利要求1所述的一種孔道填充型分子/離子雙位點印跡聚合物，其特征在于，步驟S3中所述環己酮溶液的量為28.5mL。

3.根據權利要求1所述的一種孔道填充型分子/離子雙位點印跡聚合物，其特征在于，步驟S3中所述通氮氣10-30min；所述的避光條件下攪拌1-6h。

4.根據權利要求1所述的一種孔道填充型分子/離子雙位點印跡聚合物，其特征在于，步驟S3中所述加入的氯化銅、氯化亞銅、N,N,N',N'',N''-五甲基二亞乙基三胺的比例為1g: 5-20 g：5-20 mL；所述的機械攪拌為60-80℃下攪拌。

5.根據權利要求1所述的一種孔道填充型分子/離子雙位點印跡聚合物，其特征在于，步驟S3中所述的甲醇與醋酸的混合溶液中甲醇與醋酸體積比為1：11；所述回流12-48h；所述真空烘干條件為50-70℃。

6.如權利要求1所述的方法制備的一種孔道填充型分子/離子雙位點印跡聚合物作為吸附劑的應用。

7.如權利要求6所述的應用，其特征在于，所述應用為選擇性吸附與分離水溶液中的氯氟氰菊酯和銅離子。