[發(fā)明專利]X射線探測方法以及裝置以及系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610119861.0
• 申請日: 2016-03-03
• 公開（公告）號(hào): CN105572154B
• 公開（公告）日: 2018-07-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王紅寶;徐玉輝;郭毅
• 申請（專利權(quán)）人: 北京凌志陽光安全技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G01N23/04
• 分類號(hào): G01N23/04;G01B15/00
• 代理公司: 北京超凡志成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11371
• 代理人: 王術(shù)蘭

1.一種X射線探測方法，其特征在于，包括：

獲取被探測物體的多張X射線圖像，多張所述X射線圖像的拍攝角度不同；

分別獲取目標(biāo)在不同的X射線圖像中的平面坐標(biāo)，其中，所述目標(biāo)包括點(diǎn)目標(biāo)和/或線目標(biāo)；

根據(jù)所述平面坐標(biāo)，X射線圖像拍攝時(shí)X射線源與成像面的相對位置，計(jì)算目標(biāo)的三維坐標(biāo)；

所述獲取目標(biāo)在不同的X射線圖像中的平面坐標(biāo)，具體包括：通過鼠標(biāo)，沿著特定目標(biāo)探測到的物體的輪廓或者陰影，畫點(diǎn)或者畫線，以確定所述目標(biāo)；

或者在目標(biāo)圈定范圍內(nèi)，根據(jù)目標(biāo)的視覺特征信息進(jìn)行相似性運(yùn)算，并根據(jù)目標(biāo)在不同X射線圖像中相似度大小，確定所述目標(biāo)；

在所述X射線圖像中建立平面坐標(biāo)系，確定所述目標(biāo)在所述平面坐標(biāo)系中的平面坐標(biāo)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線探測方法，其特征在于，

所述獲取被探測物體的多張X射線圖像具體包括：

獲取被探測物體的兩張X射線圖像，其中，兩張所述X射線圖像在獲取時(shí)的X射線源的中點(diǎn)連線平行于成像面所在的平面。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線探測方法，其特征在于，

所述分別獲取目標(biāo)在不同的X射線圖像中的平面坐標(biāo)之后，還包括：

將同一個(gè)目標(biāo)在不同的X射線圖像中的平面坐標(biāo)進(jìn)行關(guān)聯(lián)匹配。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的X射線探測方法，其特征在于，

當(dāng)所述目標(biāo)為點(diǎn)目標(biāo)時(shí)，所述點(diǎn)目標(biāo)包括一個(gè)計(jì)算點(diǎn)；

當(dāng)所述目標(biāo)為線目標(biāo)時(shí)，所述線目標(biāo)包括多個(gè)計(jì)算點(diǎn)；

所述將同一個(gè)目標(biāo)在不同的X射線圖像中的平面坐標(biāo)進(jìn)行關(guān)聯(lián)匹配包括：

獲取所述計(jì)算點(diǎn)在不同的X射線圖像中的平面坐標(biāo)；

將計(jì)算點(diǎn)在不同的X射線圖像中的平面坐標(biāo)依次進(jìn)行關(guān)聯(lián)匹配；

其中，所述計(jì)算點(diǎn)中至少包括所述線目標(biāo)兩端的端點(diǎn)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的X射線探測方法，其特征在于，所述計(jì)算目標(biāo)的三維坐標(biāo)包括：

計(jì)算計(jì)算點(diǎn)的三維坐標(biāo)；

當(dāng)所述計(jì)算點(diǎn)為一個(gè)時(shí)，將所述計(jì)算點(diǎn)的三維坐標(biāo)作為目標(biāo)的三維坐標(biāo)；

當(dāng)所述計(jì)算點(diǎn)至少有兩個(gè)時(shí)，將所有的所述計(jì)算點(diǎn)的三維坐標(biāo)均作為目標(biāo)的三維坐標(biāo)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的X射線探測方法，其特征在于，所述X射線源包括第一射線源以及第二射線源；

所述計(jì)算點(diǎn)的三維坐標(biāo)(x，y，z)分別滿足：

其中，第一射線源到成像面之間的距離為D；

第一射線源在成像面上的投影點(diǎn)的坐標(biāo)為(X₀，Y₀)；

第二射線源在成像面上的投影點(diǎn)的坐標(biāo)為(X’，Y’)；

計(jì)算點(diǎn)在第一射線源照射下，在X射線圖像中的平面坐標(biāo)為(X₁，Y₁)；

計(jì)算點(diǎn)在第二射線源照射下，在X射線圖像中的平面坐標(biāo)為(X₂，Y₂)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任意一項(xiàng)所述的X射線探測方法，其特征在于，所述計(jì)算目標(biāo)的三維坐標(biāo)之后，還包括：

根據(jù)所述目標(biāo)的三維坐標(biāo)，將目標(biāo)進(jìn)行模擬顯示。

8.一種X射線探測裝置，其特征在于，包括：X射線圖像獲取模塊，獲取被探測物體的多張X射線圖像，多張所述X射線圖像的拍攝角度不同；

平面坐標(biāo)獲取模塊，用于分別獲取目標(biāo)在不同的X射線圖像中的平面坐標(biāo)，其中，所述目標(biāo)包括點(diǎn)目標(biāo)和/或線目標(biāo)；所述獲取目標(biāo)在不同的X射線圖像中的平面坐標(biāo)，具體包括：通過鼠標(biāo)，沿著特定目標(biāo)探測到的物體的輪廓或者陰影，畫點(diǎn)或者畫線，以確定所述目標(biāo)；

或者在目標(biāo)圈定范圍內(nèi)，根據(jù)目標(biāo)的視覺特征信息進(jìn)行相似性運(yùn)算，并根據(jù)目標(biāo)在不同X射線圖像中相似度大小，確定所述目標(biāo)；

在所述X射線圖像中建立平面坐標(biāo)系，確定所述目標(biāo)在所述平面坐標(biāo)系中的平面坐標(biāo)；

三維坐標(biāo)計(jì)算模塊，用于根據(jù)所述平面坐標(biāo)，X射線圖像拍攝時(shí)X射線源與成像面的相對位置，計(jì)算目標(biāo)的三維坐標(biāo)。