[發明專利]一種納米壓印設備

有效

• 申請號: 201610105094.8
• 申請日: 2016-02-25
• 公開（公告）號: CN105739247B
• 公開（公告）日: 2018-07-03
• 發明（設計）人: 王亮;談浩森;汪仲儒;許凱;張博健;李晨暉
• 申請（專利權）人: 中國科學技術大學
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 羅滿

本發明公開了一種納米壓印設備，包括納米壓印頭，納米壓印頭上設置有納米壓印模板，納米壓印模板的下方設置有透明的壓印襯底，壓印襯底的下方設置有曝光光源，曝光光源為UV?LED光源。UV?LED光源安全無污染，且不會產生有害氣體，所以可以將光源設置在納米壓印頭的外部，且位于壓印襯底的下方。壓印模板不需要使用透明材質制造，降低了壓印模板的制造要求。使用UV?LED光源還可以提高納米壓印設備的使用壽命，因為UV?LED的使用壽命長，不受開閉次數的影響，可以降低生產成本，并有效降低人工維護次數。另外，UV?LED為冷光源，不會產生熱輻射，可以適用于熱敏材料的粘接，在使用中無需等待預熱，且照射強度更強。

技術領域

本發明涉及納米壓印技術領域，更具體地說，涉及一種納米壓印設備。

背景技術

納米壓印光刻利用傳統機械模具微復型原理，代替包括光學、化學及光化學反應機理的傳統投影光刻。其工作原理是通過模具下壓，導致納米光刻膠流動并填充到模具表面的特征結構中，隨后增大模具下壓載荷，使殘留層減薄到后續工藝允許的范圍內，停止模具下壓并固化納米光刻膠。

現有技術中將納米壓印膠進行固化的固化技術都是基于汞燈，汞燈是利用汞放電時產生汞蒸氣獲得可見光的電光源。通常情況下，汞燈設置在納米壓印頭的內部，為了能夠使得壓印模板與襯底之間的納米壓印膠固化，需要將壓印模板設置為透明模板。

但是，上述裝置具有體積大、壽命短、維護成本高等缺點；另外，光源的制作材料含有有毒有害物質，只能夠設置在壓印頭中，并且在制作過程中容易產生污染，也會對生產產品造成影響。

綜上所述，如何提供一種安全的納米壓印設備，是目前本領域技術人員亟待解決的問題。

發明內容

有鑒于此，本發明的目的是提供一種納米壓印設備，該納米壓印設備安全無污染，且使用壽命長。

為了實現上述目的，本發明提供如下技術方案：

一種納米壓印設備，包括納米壓印頭，所述納米壓印頭上設置有納米壓印模板，所述納米壓印模板的下方設置有透明的壓印襯底，所述壓印襯底的下方設置有曝光光源，所述曝光光源為UV-LED光源。

優選的，所述曝光光源為陣列設置的光源組。

優選的，所述曝光光源為包括至少兩個獨立光源的光源組，每個所述獨立光源分別與控制裝置連接。

優選的，至少兩個所述獨立光源在所述壓印襯底下方均勻排布。

優選的，所述壓印襯底的側面設置有用于將所述曝光光源的發射光集中反射至所述壓印襯底底部的反光裝置。

優選的，所述壓印襯底為柔性襯底，所述柔性襯底撐在支承輥上，所述支承輥的滾動帶動所述柔性襯底的傳動。

優選的，所述納米壓印頭的外殼上設置有用于控制承重支架縱向移動的電機，所述承重支架與所述外殼通過用于限制所述承重支架移動范圍的限位件連接，所述承重支架下方固定有彈性件，所述彈性件的下方設置有用于吸附所述納米壓印模板的模板吸盤。

優選的，所述納米壓印頭上設置有用于測量所述承重支架與所述納米壓印頭外殼的相對位置的傳感器，所述傳感器與用于根據所述相對位置控制所述電機進行操作的控制器連接。