[發(fā)明專利]一種納米壓印設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610105094.8 | 申請(qǐng)日： | 2016-02-25 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN105739247B | 公開（公告）日： | 2018-07-03 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 王亮;談浩森;汪仲儒;許凱;張博健;李晨暉 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué) |
| 主分類號(hào)： | G03F7/20 | 分類號(hào)： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人： | 羅滿 |
| 地址： | 230026*** | 國(guó)省代碼： | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說(shuō)明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 納米壓印設(shè)備 納米壓印 襯底 壓印 納米壓印模板 曝光光源 使用壽命 壓印模板 光源設(shè)置 熱敏材料 透明材質(zhì) 冷光源 熱輻射 透明的 預(yù)熱 開閉 粘接 制造 照射 外部 安全 維護(hù) | ||
1.一種納米壓印設(shè)備，其特征在于，包括納米壓印頭(1)，所述納米壓印頭(1)上設(shè)置有納米壓印模板(2)，所述納米壓印模板(2)的下方設(shè)置有透明的壓印襯底，所述壓印襯底的下方設(shè)置有曝光光源(3)，所述曝光光源(3)為UV-LED光源；
所述曝光光源(3)為陣列設(shè)置的光源組；
所述曝光光源(3)為包括至少兩個(gè)獨(dú)立光源的光源組，每個(gè)所述獨(dú)立光源分別與控制裝置連接；
至少兩個(gè)所述獨(dú)立光源在所述壓印襯底下方均勻排布；
所述壓印襯底的側(cè)面設(shè)置有用于將所述曝光光源(3)的發(fā)射光集中反射至所述壓印襯底的底部的反光裝置；
所述壓印襯底為柔性襯底(4)，所述柔性襯底(4)撐在支承輥(6)上，所述支承輥(6)的滾動(dòng)帶動(dòng)所述柔性襯底(4)的傳動(dòng)；
所述納米壓印頭(1)的外殼上設(shè)置有用于控制承重支架縱向移動(dòng)的電機(jī)，所述承重支架與所述外殼通過(guò)用于限制所述承重支架移動(dòng)范圍的限位件連接，所述承重支架下方固定有彈性件，所述彈性件的下方設(shè)置有用于吸附所述納米壓印模板(2)的模板吸盤。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米壓印設(shè)備，其特征在于，所述納米壓印頭(1)上設(shè)置有用于測(cè)量所述承重支架與所述外殼的相對(duì)位置的傳感器，所述傳感器與用于根據(jù)所述相對(duì)位置控制所述電機(jī)進(jìn)行操作的控制器連接。
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G03F7-00 圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設(shè)備
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