[發明專利]一種CSP共晶焊接方法有效
| 申請號: | 201610104163.3 | 申請日: | 2016-02-26 |
| 公開(公告)號: | CN105609439B | 公開(公告)日: | 2018-04-20 |
| 發明(設計)人: | 賈辰宇;孫智江 | 申請(專利權)人: | 海迪科(南通)光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/60 | 分類號: | H01L21/60;B23K37/00;B23K37/04 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 csp 焊接 方法 | ||
技術領域
本發明屬于半導體器件制造工藝技術領域,特別涉及一種CSP共晶焊接方法。
背景技術
CSP封裝,即芯粒級封裝是近幾年發展起來的封裝形式,目前已有上百種產品,并且不斷出現一些新的產品。盡管如此,國內CSP技術還是處于初級階段,沒有形成統一的標準。現今市場上的CSP產品中芯粒焊盤與封裝基片焊盤的連接方式大多采用倒裝片鍵合,封裝基板也采用幾十年前的陶瓷基板。但是把硅芯粒安裝到陶瓷基板上之后,由于陶瓷基板與PCB基板的熱膨脹系數不匹配、差別太大,很難將陶瓷基板安置到PCB基板上。
為了解決上述問題,一般主要通過共晶的方法把芯粒連接在COB基板上,即在COB基板上點上膏狀共晶焊料,再將若干芯粒置于基板的設定位置上,然后在一定的溫度和壓力下,使芯粒與共晶焊料發生共晶反應,進而使芯粒和基板結合在一起。
雖然共晶工藝能顯著提高芯粒的可靠性,然而,共晶工序也存在一定的缺陷:1.現有的共晶方法需將芯粒與基板一一壓合,從而使得共晶時間較長;2.芯粒和基板的結合力問題,致使共晶工藝的結合力不夠,共晶精度不精確及CSP成品的性能低。
因此,研發一種能夠減短芯粒共晶時間、提高芯粒共晶精度及CSP成品的性能的CSP共晶焊接方法是非常有必要的。
發明內容
本發明要解決的技術問題是提供一種能夠減短芯粒共晶時間、提高芯粒共晶精度及CSP成品的性能的CSP共晶焊接方法。
為解決上述技術問題,本發明的技術方案為:一種CSP共晶焊接方法,其創新點在于:所述共晶焊接方法包括如下步驟:
(1)點共晶焊錫:通過固晶機把共晶焊錫點在COB基板電路上;
(2)固晶:通過固晶機把若干顆CSP芯粒固定在點有共晶焊錫的COB基板電路上;
(3)共晶:將固晶后的COB基板放置在300℃~400℃的高溫軌道上,通過壓合裝置同時下壓COB基板上的芯粒,將芯粒與共晶焊錫同時壓合,達到共晶焊;壓合分為三個階段,第一壓合階段以8g/s~12g/s的速度逐漸增加壓合壓力,壓合時間為40s,第二壓合階段以40s時所達壓力進行壓合40s,第三壓合階段以16g/s~24g/s的速度逐漸減緩壓合壓力,壓合時間為20s;
(4)點膠:把熒光粉和膠水充分攪拌均勻,制得熒光粉膠,熒光粉膠真空脫泡后,通過點膠機臺噴涂在共晶后的COB基板表面,并對熒光粉膠進行膠固化;
(5)測試包裝:待步驟(4)中COB基板表面的熒光粉膠固化后,進行性能測試,測試合格的CSP成品進行包裝。
進一步地,所述步驟(3)中的壓合裝置包括施壓部件和驅動施壓部件的驅動裝置,所述施壓部件包括一壓塊,且所述壓塊的下表面均勻分布有垂直向下的金屬探針;所述驅動裝置為彈簧壓合或氣壓。
本發明的優點在于:
(1)本發明CSP共晶焊接方法,與傳統相比,將芯粒與基板一一壓合改用壓合裝置同時將若干芯粒與基板壓緊,進而能夠大大縮短芯粒的共晶時間;同時,本發明中采用壓合裝置進行下壓芯粒,進而能準確控制壓合壓力;此外,通過階段性的壓力控制,即先緩慢增加壓力,壓力達到一定要求,再以恒壓施壓,最后再緩慢減壓,進而不會使因壓力過大,造成芯粒表面損壞,也使得芯粒能夠受壓更均勻,進一步保證了芯粒共晶精度;
(2)本發明CSP共晶焊接方法,所采用的壓合裝置,包括壓塊,壓塊的下表面均勻分布有垂直向下的金屬探針,金屬探針與芯粒一一對應,并通過彈簧或氣壓方式進行壓合芯粒,從而防止推力過大對芯粒表面造成損壞,既保證了芯粒共晶精度,也保證了CSP成品的合格率,進而提高了CSP成品的性能。
附圖說明
下面結合附圖和具體實施方式對本發明作進一步詳細的說明。
圖1是本發明中實施例1所采用壓合裝置的結構示意圖。
圖2是本發明中實施例2所采用壓合裝置的結構示意圖。
圖3是本發明中壓合壓力與壓合時間的關系圖。
具體實施方式
下面的實施例可以使本專業的技術人員更全面地理解本發明,但并不因此將本發明限制在所述的實施例范圍之中。
實施例1
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





