[發(fā)明專利]一種過渡金屬微晶摻雜硫系玻璃復合材料的制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610102347.6 | 申請日: | 2016-02-24 |
| 公開(公告)號: | CN105753327B | 公開(公告)日: | 2018-09-18 |
| 發(fā)明(設計)人: | 顧少軒;鮮華;郭海濤 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢理工大學 |
| 主分類號: | C03C10/02 | 分類號: | C03C10/02;C03C4/12 |
| 代理公司: | 湖北武漢永嘉專利代理有限公司 42102 | 代理人: | 王守仁 |
| 地址: | 430070 湖*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 過渡 金屬 摻雜 玻璃 復合材料 制備 方法 | ||
本發(fā)明是一種過渡金屬微晶摻雜硫系玻璃復合材料的制備方法,包括以下步驟:(1)制備TM2+:ZnX材料(TM2+=過渡金屬離子,X=S或Se):把TMX粉體與ZnX粉體裝入球磨機中充分混合均勻,將混合均勻的粉體置于熔爐中,在850?1100℃之間保溫72?168小時,獲得TM2+:ZnX材料;(2)將一定質(zhì)量比例的TM2+:ZnX材料和硫系玻璃放入球磨機中,充分研磨,制備出混合均勻的粉體;(3)將上述混合粉體置于石英管中,抽真空,封口,放入熔爐中,在270?400℃下保溫2?20小時,得到TM2+:ZnX摻雜硫系玻璃復合材料。本發(fā)明制備的復合材料熱學性能穩(wěn)定,轉(zhuǎn)換效率高,具有優(yōu)秀的中紅外熒光發(fā)射,為中紅外激光器的開發(fā)提供了新的工作介質(zhì)材料。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于光電功能材料領(lǐng)域,具體涉及一種過渡金屬微晶摻雜硫系玻璃復合材料及其制備方法。
背景技術(shù)
工作波段位于2-5μm范圍的中紅外激光器在諸多領(lǐng)域具有特殊的應用。由于該波段范圍處于大氣“透明窗口”,因此可廣泛應用于激光雷達、激光測距和大氣通信。利用水分子在3μm附近的強吸收特性,可以開發(fā)新一代激光手術(shù)系統(tǒng),具有血液凝結(jié)迅速,手術(shù)創(chuàng)面小等優(yōu)點。另外許多有害物質(zhì)在中紅外波段具有豐富的吸收峰,因此可以廣泛用于環(huán)境監(jiān)測領(lǐng)域。在軍事上,由于戰(zhàn)略導彈防御系統(tǒng)的監(jiān)測波段正處于中紅外波段,因此可以利用相應波長的光源對敵方的探測器進行干擾或致盲,以破壞敵方的導彈防御系統(tǒng)。
獲得中紅外激光器的途徑主要有:半導體激光器、光參量振蕩激光器、拉曼光纖激光器和增益離子摻雜激光器。目前國內(nèi)僅有基于光參量振蕩等非線性方法獲得中紅外激光的固體激光器,但其結(jié)構(gòu)復雜、體積龐大,特別是平均功率低、難以連續(xù)輸出,使得它們無法獲得實際應用。半導體激光器的工作介質(zhì)材料制備困難,且難以在室溫下獲得大于3μm的激光發(fā)射。拉曼光纖激光器在中紅外波段可獲得非常寬闊的光譜輸出,但相應地單位波長的功率較低,大大限制了其應用。
增益離子摻雜激光器輸出的激光具有光束質(zhì)量好、轉(zhuǎn)換效率高、穩(wěn)定性好等特點,并且可以獲得高的輸出功率,在高性能激光器中占有重要地位。但目前關(guān)于3μm以上波段增益離子摻雜中紅外激光器的報道尚不多見,其存在的主要瓶頸是沒有合適的中紅外激光增益介質(zhì)材料。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是:提供一種過渡金屬微晶摻雜硫系玻璃復合材料的制備方法,所制備的材料熱學性能穩(wěn)定,轉(zhuǎn)換效率高,具有優(yōu)秀的紅外熒光光譜;該材料的制備方法簡單,生產(chǎn)周期短,具有實際應用價值。
本發(fā)明解決其技術(shù)問題采用以下的技術(shù)方案:
一種過渡金屬微晶摻雜硫系玻璃復合材料的制備方法,包括以下步驟:
(1)制備TM2+:ZnX材料:
把TMX粉體與ZnX粉體按質(zhì)量比例為(0.05%-5%):(95-99.95%)裝入球磨機中充分混合均勻;將混合均勻的粉體置于熔爐中,在850-1100℃之間保溫72-168小時,獲得TM2+:ZnX材料,其中TM2+是過渡金屬離子,X=S或Se;
(2)TM2+:ZnX與硫系玻璃混合粉體的制備:
將一定質(zhì)量比例的TM2+:ZnX材料與硫系玻璃放入球磨機中,充分研磨,制備出混合均勻的粉體;所述的TM2+:ZnX材料的質(zhì)量比例為0.1-30%,硫系玻璃的質(zhì)量比例為70-99.9%;
(3)TM2+:ZnX摻雜硫系玻璃復合材料制備:
將上述混合均勻的粉體置于石英管中,抽真空,封口,放入熔爐中,在270-400℃下保溫2-20小時,得到TM2+:ZnX摻雜硫系玻璃復合材料。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于武漢理工大學,未經(jīng)武漢理工大學許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610102347.6/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C03C 玻璃、釉或搪瓷釉的化學成分;玻璃的表面處理;由玻璃、礦物或礦渣制成的纖維或細絲的表面處理;玻璃與玻璃或與其他材料的接合
C03C10-00 微晶玻璃陶瓷,即結(jié)晶相分散于玻璃相中,并至少為總組成的50
C03C10-02 .非二氧化硅及非硅酸鹽結(jié)晶相,例如尖晶石、鈦酸鋇
C03C10-04 .硅酸鹽或多硅酸鹽結(jié)晶相,例如莫來石、透輝石、硝石、斜長石
C03C10-14 .二氧化硅結(jié)晶相,例如填塞石英、方石英
C03C10-16 .含鹵素的結(jié)晶相
C03C10-06 ..二價金屬氧化物的鋁硅酸鹽結(jié)晶相,例如鈣長石、礦渣陶瓷





