[發(fā)明專利]一種過渡金屬微晶摻雜硫系玻璃復合材料的制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610102347.6 | 申請日： | 2016-02-24 |
| 公開（公告）號： | CN105753327B | 公開（公告）日： | 2018-09-18 |
| 發(fā)明（設計）人： | 顧少軒;鮮華;郭海濤 | 申請（專利權）人： | 武漢理工大學 |
| 主分類號： | C03C10/02 | 分類號： | C03C10/02;C03C4/12 |
| 代理公司： | 湖北武漢永嘉專利代理有限公司 42102 | 代理人： | 王守仁 |
| 地址： | 430070 湖*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 過渡 金屬 摻雜 玻璃 復合材料 制備 方法 | ||
1.一種過渡金屬微晶摻雜硫系玻璃復合材料的制備方法，其特征在于包括以下步驟：
(1)制備TM2+:ZnX材料：
把TMX粉體與ZnX粉體按質量比例為(0.05％-5％):(95-99.95％)裝入球磨機中充分混合均勻；將混合均勻的粉體置于熔爐中，在850℃-1100℃之間保溫72-168小時，獲得TM2+:ZnX材料，其中TM2+是過渡金屬離子，X＝S或Se；所述的TMX粉體和ZnX粉體的粒徑尺寸為1-2000μm；
(2)TM2+:ZnX與硫系玻璃混合粉體的制備：
將一定質量比例的TM2+:ZnX材料與硫系玻璃放入球磨機中，充分研磨，制備出混合均勻的粉體；所述的TM2+:ZnX材料的質量比例為0.1-30％，硫系玻璃的質量比例為70-99.9％；
(3)TM2+:ZnX摻雜硫系玻璃復合材料制備：
將上述混合均勻的粉體置于石英管中，抽真空，真空度為1×10-3Pa，封口，放入熔爐中，在270℃-400℃下保溫2-20小時，得到TM2+:ZnX摻雜硫系玻璃復合材料。
2.根據權利要求1所述的過渡金屬微晶摻雜硫系玻璃復合材料的制備方法，其特征在于，步驟(1)所述的過渡金屬離子TM2+為Fe2+、Co2+、Ni2+或Cr2+。
3.根據權利要求1所述的過渡金屬微晶摻雜硫系玻璃復合材料的制備方法，其特征在于，步驟(2)所述的硫系玻璃為As2S3或As2Se3。
4.根據權利要求1所述的過渡金屬微晶摻雜硫系玻璃復合材料的制備方法，其特征在于，步驟(2)所述制備的粉體粒徑為200-5000nm。
5.根據權利要求1所述的過渡金屬微晶摻雜硫系玻璃復合材料的制備方法，其特征在于，步驟(1)和步驟(3)所述的熔爐采用箱式馬弗爐或管式馬弗爐。
6.權利要求1至5中任一權利要求所述方法制備的過渡金屬微晶摻雜硫系玻璃復合材料的用途，其特征是該復合材料用作制備中紅外激光器的工作介質材料。
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